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A Study on Plasma Process-Induced Damage during Fabrication of Si Devices and Methodology for Optical Measurement / Siデバイス製造過程におけるプラズマプロセス誘起ダメージとその光学的測定方法論の研究Matsuda, Asahiko 23 May 2013 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17788号 / 工博第3767号 / 新制||工||1576(附属図書館) / 30595 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 木村 健二, 教授 立花 明知 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM
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