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Novel molecular ion implantation technology for proximity gettering in silicon wafer for CMOS image sensor / CMOSイメージセンサ用Siウェーハにおける近接ゲッタリングのための新規分子イオン注入技術Hirose, Ryo 23 March 2020 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第22442号 / 工博第4703号 / 新制||工||1734(附属図書館) / 京都大学大学院工学研究科原子核工学専攻 / (主査)教授 斉藤 学, 教授 神野 郁夫, 准教授 松尾 二郎 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM
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