Made available in DSpace on 2014-12-17T14:09:09Z (GMT). No. of bitstreams: 1 MichelleCF_TESE.pdf: 2764239 bytes, checksum: af9951c05c7267abaecbc91592b7596d (MD5) Previous issue date: 2010-03-29 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / In this study, it has been investigated the influence of silver film deposition onto 100% polyester woven and non-woven, on the survival of Escherichia coli and Staphylococcus aureus in contact with these surfaces. The treatment was performedin a chamber containing the working gas at low pressure (~ 10-2 mbar). Some process parameters such as as voltage: 470 V; pressure: 10-2 mbar; current : 0.40 A and gas flow: 6 and 10 cm3/min were kept constant. For the treatments with pur?argon plasma using a flow of 6 and 10 cm3/min, different treatment times were evaluated, such as, 10 , 20, 30, 40, 50 and 60 minutes. Contact angle (sessile drop), measurements were used to determine the surface tension of the treated fabrics and its influence on the bacteria grow as weel as the possibilities of a biofilm formation. The formation of a silver film, as well as the amount of this element was verified byEDX technique. The topography was observed through scanning electron microscopy (SEM) to determine the size of silver grains formed on the surfaces of the fabric and assess homogeneity of treatment. The X-ray diffraction (XRD) was used to analyze the structure of silver film deposition. The woven fabric treatments enabled the formation of silver particulate films with particle size larger than the non-woven fabrics. With respect to bacterial growth, all fabrics were shown to be bactericidal for Staphylococcus aureus (S. aureus), while for the Escherichia coli (E. coli), the best results were found for the non-woven fabric (TNT) treated with a flow of 10 cm3/min to both bacteria / Neste trabalho, investigou-se a influ?ncia da deposi??o de filme de prata em tecidos planos e tecido n?o tecido 100% poli?ster, sobre a sobreviv?ncia das bact?rias Escherichia coli e Staphylococcus aureus em contato com essas superf?cies. O tratamento foi realizado em uma c?mara contendo os gases de trabalho sob baixa press?o (~ 10-2 mbar) mantendo-se constante durante todo ensaio alguns par?metros do processo, tais como, voltagem: 470 V; press?o: 10-2 mbar; corrente: 0,40 A e fluxo de g?s: 6 e 10 cm3/min e diferentes tempos de tratamento: 10, 20, 30, 40, 50 e 60 minutos. Atrav?s do teste de ?ngulo de contato (gota s?ssil), foi determinada a tens?o superficial dos tecidos tratados e sua influ?ncia para com o crescimento de bact?rias e a poss?vel forma??o de um biofilme. A forma??o de um filme de prata, bem como a quantidade deste elemento foi verificada pela t?cnica deEDX. A topografia foi observada por Microscopia de Eletr?nica de Varredura (MEV), a fim de determinar o tamanho dos gr?os de prata formados sobre as superf?cies do tecido e analisar a homogeneidade do tratamento. A Difra??o de raios-X (DRX) foi utilizada para analisar a estrutura da prata depositada. Os tratamentos de tecidos planos propiciaram a forma??o de filmes de prata particulados com tamanho de part?culas maiores que os tecidos n?o tecidos. Com rela??o ? prolifera??o bacteriana, todos os tecidos mostraram-se bactericidas para a bact?ria Staphylococcus aureus (S. aureus), enquanto que para a bact?ria Escherichia coli (E. coli), os melhores resultados foram encontrados para o Tecido n?o tecido (TNT) tratados com fluxo de 10 cm3/min para ambas bact?rias

Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2015-12-02T22:57:03Z No. of bitstreams: 1 HugoFernandesMedeirosDaSilva_DISSERT.pdf: 30197183 bytes, checksum: aff97f351eb1c274b3b803536423bba1 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2015-12-09T20:00:17Z (GMT) No. of bitstreams: 1 HugoFernandesMedeirosDaSilva_DISSERT.pdf: 30197183 bytes, checksum: aff97f351eb1c274b3b803536423bba1 (MD5) / Made available in DSpace on 2015-12-09T20:00:18Z (GMT). No. of bitstreams: 1 HugoFernandesMedeirosDaSilva_DISSERT.pdf: 30197183 bytes, checksum: aff97f351eb1c274b3b803536423bba1 (MD5) Previous issue date: 2014-06-20 / Estruturas porosas est?o sendo amplamente investigadas para uso em implantes biom?dicos, com objetivo de integrar o implante de forma mec?nica e funcional no interior do tecido ?sseo. Al?m disso, esta estrutura tamb?m ? importante para que f?rmacos possam se armazenados podendo induzir e acelerar o processo de osseointegra??o. Com o intuito de investigar esse efeito, p?s met?licos de Ti, 35Nb e 4Sn foram sinterizados por plasma usando descarga por c?todo oco. As sinteriza??es foram realizadas em plasma de arg?nio, press?o fixada em 4 mbar e temperaturas de 500?C, 600?C e 700?C. Tamb?m foram sinterizadas amostras em forno ? resit?ncia el?trica ? 1200?C, afim de comparar a sinteriza??o a plasma com um met?do convencional. Verificou-se que amostras sinterizadas por plasma na configura??o de c?todo oco apresentaram gradiente de porosidade, enquanto as amostras sinterizadas em forno resistivo n?o apresentaram. Al?m disso, encontrou-se diferen?as na micro-estrutura onde obteve-se uma superfic?e mais porosa e o n?cleo mais denso, em diferentes temperaturas. Assim como per?l de percola??o de ?gua destilada, e a compara??o da composi??o qu?mica das camadas porosas das amostras tratadas por plasma foram os pricipais resultados obtidos. Diante dos resultados obtidos, pode-se concluir que essa estrutura ? particularmente importante para aplica??o na ?rea biom?dica tais como arcabou?os para libera??o de f?rmacos e implantes. . / Porous structures are being widely investigated for use in biomedical implants, aiming to mechanically integrate and functionally the implant inside the bone tissue. Moreover, this structure is also important for drugs that can be stored and can induce and accelerate the process of osseointegration. With the purpose to investigate this effect, Ti, Nb and Sn metal powders, were sintered by plasma using a hollow cathode discharge. Sintering was performed in argon plasma set at 4 mbar pressure and temperatures of 500 ? C, 600 ? C and 700 ? C. Samples were also sintered in the electrical resistance furnace at 1200 ? C in order to compare plasma sintering with the conventional method. It was observed that plasma samples sintered with the hollow cathode configuration showed a gradient in porosity, while the samples sintered in the resistive furnace did not. Furthermore, differences in the microstructure of the samples were found, were a surface with higher porosity and ales porous core were obtained at different temperatures. The percolation profile of distilled water and the chemical compositions of the porous layers of the plasma treated samples were the main results obtained. Based on these results, we can conclude that this structure is particularly important for application in the biomedical field such as scaffolds for drug delivery and implants

Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-01-26T17:36:30Z No. of bitstreams: 1 ThiagoVictorRodriguesDeMedeiros_DISSERT.pdf: 3828773 bytes, checksum: a71182f41a89dc6ac4d09bef70dac843 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-01-27T21:54:39Z (GMT) No. of bitstreams: 1 ThiagoVictorRodriguesDeMedeiros_DISSERT.pdf: 3828773 bytes, checksum: a71182f41a89dc6ac4d09bef70dac843 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-01-27T21:54:39Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ThiagoVictorRodriguesDeMedeiros_DISSERT.pdf: 3828773 bytes, checksum: a71182f41a89dc6ac4d09bef70dac843 (MD5) Previous issue date: 2014-11-20 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior - CAPES / Conselho Nacional de Desenvolvimento Cient?fico e Tecnol?gico - CNPq / A nitreta??o por plasma vem sendo utilizada nas aplica??es industriais e tecnol?gicas em larga escala por apresentar uma melhora nas propriedades mec?nicas, tribol?gicas, dentre outras. A fim de solucionar problemas decorrentes na nitreta??o convencional, como por exemplo, os an?is de restri??o (efeito de borda), foram desenvolvidos t?cnicas com catodos diferenciados. No presente trabalho, estudou-se superf?cies de tit?nio comercialmente puro (Grau II), modificadas por tratamento de nitreta??o a plasma atrav?s de diferentes configura??es de c?todos (catodo oco, gaiola cat?dica com uma gaiola e gaiola cat?dica com duas gaiolas) variando a temperatura em 350, 400 e 430oC, com o objetivo de obter uma otimiza??o da superf?cie para aplica??es tecnol?gicas, avaliando de forma geral qual o tratamento mostrou melhores resultados no substrato. As amostras foram caracterizadas atrav?s das t?cnicas de ensaios de Microscopia de For?a At?mica (AFM), Espectroscopia Raman, Microdureza, Difra??o de Raios-X (DRX), al?m de uma an?lise macrosc?pica. Desta forma, puderam-se avaliar propriedades do tratamento como rugosidade, topografia, presen?a de elementos intersticiais, dureza, homogeneidade, uniformidade e espessura da camada nitretada. Observou-se que todas as amostras expostas a nitreta??o foram modificadas em rela??o ? amostra padr?o (sem tratamento), logo, apresentando aumento da dureza superficial, presen?a de TiN constatadas tanto por DRX como por Raman, e uma altera??o significativa na rugosidade das amostras tratadas. Constatou-se que o tratamento em c?todo oco, apesar de apresentar o menor valor de microdureza entre as amostras tratadas, foi o que apresentou a menor rugosidade superficial, apesar de nessa configura??o as amostras sofrerem uma agressividade f?sica maior do tratamento. / The plasma nitriding has been used in industrial and technological applications for large-scale show an improvement in the mechanical, tribological, among others. In order to solve problems arising in the conventional nitriding, for example, rings constraint (edge effect) techniques have been developed with different cathodes. In this work, we studied surfaces of commercially pure titanium (Grade II), modified by plasma nitriding treatment through different settings cathodes (hollow cathode, cathodic cage with a cage and cathodic cage with two cages) varying the temperature 350, 400 and 430oC, with the goal of obtaining a surface optimization for technological applications, evaluating which treatment generally showed better results under the substrate. The samples were characterized by the techniques of testing for Atomic Force Microscopy (AFM), Raman spectroscopy, microhardness, X-ray diffraction (XRD), and a macroscopic analysis. Thus, we were able to evaluate the processing properties, such as roughness, topography, the presence of interstitial elements, hardness, homogeneity, uniformity and thickness of the nitrided layer. It was observed that all samples were exposed to nitriding modified relative to the control sample (no treatment) thus having increased surface hardness, the presence of TiN observed by XRD as per both Raman and a significant change in the roughness of the treated samples . It was found that treatment in hollow cathode, despite having the lowest value of microhardness between treated samples, was presented the lowest surface roughness, although this configuration samples suffer greater physical aggressiveness of treatment

Made available in DSpace on 2014-12-17T14:58:23Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ErissonADL_DISSERT.pdf: 1589862 bytes, checksum: 6b02f85f6525d125a48a0c38ad306945 (MD5) Previous issue date: 2013-08-09 / O gradiente t?rmico da superf?cie para o interior do s?lido depende da taxa de colis?es das part?culas e da condutividade t?rmica do material utilizado. Quando um s?lido ? imerso em plasma, a transfer?ncia de energia ocorre por radia??o e colis?es das part?culas sobre a superf?cie do material. Dependendo da taxa de colis?es das particulas e da condutividade t?rmica do s?lido existir?o gradientes t?rmicos da superf?cie para o interior das amostras, ocorrendo picos t?rmicos na superficie, ou seja, o aquecimento pontual nas regi?es de colis?es. A fim de estudar esse efeito, amostras de a?o r?pido AISI M35 cujos valores de dureza s?o fortemente sens?veis ? temperatura de revenimento, foram utilizadas como micro sensores t?rmicos. Amostras foram temperadas em forno resistivo e, em seguida, parte das mesmas foram revenidas em forno resistivo e a outra parte em plasma. A partir do gr?fico da dureza (Hv) em fun??o da temperatura (T) das amostras revenidas em forno resistivo foi poss?vel obter uma fun??o Hv(T) para determina??o indireta do perfil t?rmico das amostras tratadas em plasma. As amostras foram revenidas em plasma utilizando temperatura de refer?ncia igual a 550 oC. Em seguida foi obtido o perfil de dureza dessas amostras ao longo da se??o transversal e, subsequentemente, o perfil de temperatura. Verificou-se que amostras tratadas em plasma, ao contr?rio daquelas tratadas em forno resistivo, apresentaram gradiente de temperatura da superf?cie para o n?cleo. Al?m disso, verificou-se que as amostras tratadas em configura??o planar apresentaram gradientes t?rmicos inferiores ?quelas tratadas em configura??o c?todo oco, variando de 20 a 120 ?C, respectivamente

Made available in DSpace on 2014-12-17T15:14:59Z (GMT). No. of bitstreams: 1 EdalmyOA_DISSERT.pdf: 5395204 bytes, checksum: aa327d82551c66fd74b45b2c66f1d4ed (MD5) Previous issue date: 2003-11-25 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Foi constru?do e testado um novo sistema de jato a plasma obtido por descarga em catado oco. O sistema usado para deposi??o de filmes finos ? formado de um catado oco, que trabalha a altas press?es (aproximadamente 1 a 5 mbar), fonte DC (0 a 1200 V), c?mara cil?ndrica de borossilicato fechada por flages de a?o inox. No flange superior est? conectado o c?todo oco, o qual possui entrada de g?s e sistema de refrigera??o. Ele ? eletricamente isolado do resto do flange e polarizado negativamente. Em frente ao mesmo est? um porta amostra em a?o inox, m?vel, com dist?ncia variando entre 0 e 22mm, polarizado em rela??o ao c?todo com tens?es vari?veis entre 0 e 200V. Ambos os c?todos s?o equipados com termopares. Uma prote??o m?vel (shutter) ? colocada entre o c?todo oco e o porta amostra do substrato para proteger a amostra, enquanto se faz uma limpeza do c?todo. O equipamento foi testado com c?todo de cobre em cavidade de dimens?es diferentes. Foram investigadas influ?ncias dos par?metros prim?rios como di?metro, profundidade da cavidade de c?todo oco e a efici?ncia do equipamento. O fluxo de arg?nio foi fixado a 15 sccm, com press?o constante de 2,7 a 3,5 mbar. Cada filme foi depositado durante 15min e depois foi caracterizado por microscopia eletr?nica para verificar sua uniformidade. Atrav?s da varia??o das dimens?es do c?todo, foi poss?vel avaliar a taxa de desgaste do seu material, para as diferentes condi??es de trabalho. Valores de taxa de desgaste at? 3,2x10-6g/s foram verificados. Para uma dist?ncia do substrato de 11mm, o filme depositado ficou limitado a uma ?rea circular de 22mm de di?metro. Os filmes obtidos encontram-se com espessura em torno de 2,1μm/min

Apresentamos os resultados de medidas espectroscópicas feitas em átomos de elementos contidos em uma descarga elétrica do tipo catodo oco, usando um laser sintonizável de emissão contínua. Com experiências de absorção ótica foi possível determinar a densidade populacional e a temperatura dos átomos de 238U no estado fundamental, em função dos vários parâmetros que caracterizam a descarga. Desenvolvemos um método para a determinação da potência de saturação e calculamos o valor do produto para a transição 0 16.900cm-1 do 238UI. De forma alternativa às medidas óticas oudemos estudar a interação fóton-átomo analisando o sinal optogalvânico induzido na descarga pela radiação laser, com frequência sintonizada na mesma transição atômica do urânio e em função dos parâmetros anteriormente considerados. Os resultados obtidos com as experiências de absorção ótica e espectroscopia optogalvânica / The results of spectroscopic measurements obtained with atomic species present in a hollow cathode type discharge are reported. Using laser optical absorption techniques it was possible to get the population density and the atomic temperature of the 238UI ground state as a function of some discharge parameters. A method to determine the laser saturation intensity was developed, so the value of the product for the 0 16.900cm-1 238UI transition could be calculated. It was also possible to study the photon-atom interaction through the analysis of the optogalvanic signal induced in the laser radiation as a function of the same parameters considered before. Optogalvanic spectroscopy and optical absorption experiments showed the spatial distribution of the atoms in the ground state and excited states inside the cathode. In another set of experiments, a new way of inducing optogalvanic effect was investigated without using a tunable dye laser as the axcitation source. Measurements were done with two copper hollow cathode tubes filled with different gases, that were used as excitation source radiation and as signal detector. The results suggest that it is possible to use the new spectroscopy tecnique for qualitative and quantitative material analysis.

Apresentamos os resultados de medidas espectroscópicas feitas em átomos de elementos contidos em uma descarga elétrica do tipo catodo oco, usando um laser sintonizável de emissão contínua. Com experiências de absorção ótica foi possível determinar a densidade populacional e a temperatura dos átomos de 238U no estado fundamental, em função dos vários parâmetros que caracterizam a descarga. Desenvolvemos um método para a determinação da potência de saturação e calculamos o valor do produto para a transição 0 16.900cm-1 do 238UI. De forma alternativa às medidas óticas oudemos estudar a interação fóton-átomo analisando o sinal optogalvânico induzido na descarga pela radiação laser, com frequência sintonizada na mesma transição atômica do urânio e em função dos parâmetros anteriormente considerados. Os resultados obtidos com as experiências de absorção ótica e espectroscopia optogalvânica / The results of spectroscopic measurements obtained with atomic species present in a hollow cathode type discharge are reported. Using laser optical absorption techniques it was possible to get the population density and the atomic temperature of the 238UI ground state as a function of some discharge parameters. A method to determine the laser saturation intensity was developed, so the value of the product for the 0 16.900cm-1 238UI transition could be calculated. It was also possible to study the photon-atom interaction through the analysis of the optogalvanic signal induced in the laser radiation as a function of the same parameters considered before. Optogalvanic spectroscopy and optical absorption experiments showed the spatial distribution of the atoms in the ground state and excited states inside the cathode. In another set of experiments, a new way of inducing optogalvanic effect was investigated without using a tunable dye laser as the axcitation source. Measurements were done with two copper hollow cathode tubes filled with different gases, that were used as excitation source radiation and as signal detector. The results suggest that it is possible to use the new spectroscopy tecnique for qualitative and quantitative material analysis.

O dimensionamento das câmaras dissipadoras para válvulas dispersoras demanda um estudo sobre a interação da operação destes elementos, não somente para um ponto de operação, mas também para a faixa operativa do conjunto, que compreende a faixa de operação da válvula e da câmara de dissipação. Os limites sobre responsabilidade assumem um cenário onde as dimensões da câmara podem não ser adequadas à operação da válvula, e vice-versa. Isto porque durante o processo de dissipação de energia, ocorrem grandes turbulências que podem gerar erosão na estrutura dissipadora. A interação entre a operação das válvulas dispersoras e as dimensões da câmara dissipadora é complexa porque o dimensionamento de um elemento está associado ao outro. Assim, as dimensões necessárias para dissipação de energia na câmara dependem de dados da válvula, resultando em uma interdependência de dados para a dissipação de energia adequada. O dimensionamento do conjunto deve levar em consideração a interdependência de operação dos elementos, caso contrário o funcionamento do sistema poderá ser inadequado devido às turbulências e altas velocidades, que podem gerar cavitação e erosão das estruturas dissipadoras. Os danos na estrutura dissipadora podem causar paradas de geração de energia das usinas hidrelétricas e acidentes nas regiões localizadas a jusante desta estrutura. O dimensionamento adequado do conjunto válvula e câmara dissipadora e o conhecimento de sua faixa operativa admissível pode ser feito com auxílio de simulações numéricas e ensaios em modelo reduzido de forma a prever o comportamento adequado do protótipo. Desta forma, as simulações numéricas em CFD possibilitam maior seletividade dos casos que serão ensaiados em modelo reduzido, proporcionando maior assertividade nestes ensaios. / The sizing of valves and chambers for dissipating purpose demands a study about the interaction between these elements, not only from an operation point of view but also the whole operating range of the set, which comprehends the operating range of the valve and the dissipating chamber. The limits of liability assume a scenario where the dimensions of the chamber may be not suitable for operation of the valve, and vice-versa. This is because during dissipating energy process, major turbulences occur which may cause erosion in the dissipating structure. The interaction between the dissipating valve and the dissipating chamber dimensions is complex because the sizing of an element is associated to other. Thus, the required dimensions to dissipate energy on the chamber rely on valve data, resulting in data interdependency required for adequate energy dissipation. The set sizing must consider the operation interdependency of both elements otherwise the system operation may be inadequate due to turbulence high flow velocities, which may cause cavitation and erosion of the dissipating structures. Damages on the dissipating structure may cause energy generation interruption of hydroelectric power plants and accidents on the regions located downstream this structure. The adequate sizing of the set valve and dissipating chamber as well as the information regarding its operating range can be done with the aid of numerical simulations and physical model tests in order to predict the behavior of the prototype. Therefore, numerical simulations in CFD allow more selectivity of the cases which will be tested in a physical model, proportioning higher assertiveness on those tests.

Made available in DSpace on 2014-12-17T14:07:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 NierllyKAMG.pdf: 1438330 bytes, checksum: d5fc2399ebd1b5a6e21ea3718fff6716 (MD5) Previous issue date: 2007-03-22 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / The heat transfer between plasma and a solid occurs mostly due the radiation and the collision of the particles on the material surface, heating the material from the surface to the bulk. The thermal gradient inside the sample depends of the rate of particles collisions and thermal conductivity of the solid. In order to study that effect, samples of AISI M35 steel, with 9,5 mm X 3,0 mm (diameter X thickness) were quenched in resistive furnace and tempereds in plasma using the plane configuration and hollow cathode, working with pressures of 4 and 10 mbar respectively. Analyzing the samples microstructure and measuring the hardness along the transversal profile, it was possible to associate the tempered temperature evaluating indirectly the thermal profile. This relation was obtained by microstructural analyzes and through the hardness curve x tempered sample temperature in resistive furnace, using temperatures of 500, 550, 600, 650 and 700?C. The microstructural characterization of the samples was obtained by the scanning electron microscopy, optic microscopy and X-ray diffraction. It was verified that all samples treated in plasma presented a superficial layer, denominated affected shelling zone, wich was not present in the samples treated in resistive furnace. Moreover, the samples that presented larger thermal gradient were treated in hollow cathode with pressure of 4 mbar / A transfer?ncia de calor entre o plasma e um s?lido ocorre principalmente atrav?s da radia??o e colis?o das part?culas sobre a superf?cie do material, o que faz com que o aquecimento do material aconte?a da superf?cie para seu interior. Dependendo da taxa de colis?es das part?culas e da condutividade t?rmica do s?lido, haver? gradientes t?rmicos no interior das amostras. A fim de estudar esse efeito, amostras de a?o AISI M35, com 9,5 mm X 3,0 mm (di?metro X espessura) foram temperadas em forno resistivo e revenidas em plasma, nas configura??es c?todo planar e c?todo oco, com press?es de trabalho de 4 e 10 mbar, para ambas as configura??es. Analisando a microestrutura das amostras e medindo as durezas ao longo do perfil transversal pode-se associar ? temperatura de revenido avaliando indiretamente o perfil t?rmico. Essa rela??o foi obtida atrav?s de an?lise microestrutural e da curva dureza x temperatura de amostras revenidas em forno resistivo, utilizando temperaturas de 500, 550, 600, 650 e 700?C. A caracteriza??o microestrutural das amostras foi realizada atrav?s da microscopia eletr?nica de varredura (MEV), microscopia ?ptica (MO) e difra??o de raios-X (DRX). Verificou-se que todas as amostras tratadas em plasma apresentaram uma camada superficial, denominada de zona afetada por bombardeamento, que n?o se encontra presente nas amostras tratadas em forno resistivo. Al?m disso, verificou-se que as amostras que apresentaram maior gradiente t?rmico foram as tratadas em c?todo oco com press?o de 4 mbar

Made available in DSpace on 2014-12-17T14:58:21Z (GMT). No. of bitstreams: 1 BrunoFCS_DISSERT.pdf: 2467148 bytes, checksum: dcbe5eb64bfff65b0ce2132826b8fb43 (MD5) Previous issue date: 2013-07-05 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Plasma DC hollow cathode has been used for film deposition by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. The DC Plasma Ar-H2 hollow cathode currently used in the industry has proven to be effective in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we wish to avoid the effects of ion bombardment on the substrate discharge, it uses the post-discharge region. Were generated by discharge plasma of argon and hydrogen hollow cathode deposition of thin films of titanium on glass substrate. The optical emission spectroscopy was used for the post-discharge diagnosis. The films formed were analyzed by mechanical profilometry technique. It was observed that in the spectrum of the excitation lines of argon occurred species. There are variations in the rate of deposition of titanium on the glass substrate for different process parameters such as deposition time, distance and discharge working gases. It was noted an increase in intensity of the lines of argon compared with the lines of titanium. Deposition with argon and hydrogen in glass sample observed a higher rate deposition of titanium as more closer the sample was in the discharge / O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposi??o de filmes atrav?s de sputtering com libera??o de ?tomos neutros do c?todo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na ind?stria tem demonstrado ser eficiente na limpeza de superf?cies e deposi??o de filmes finos quando comparado ao plasma de arg?nio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento i?nico da descarga no substrato, utiliza-se a regi?o de p?s-descarga. Geraram-se descargas por plasma de arg?nio e hidrog?nio em catodo oco para deposi??o de filmes finos de tit?nio em substrato de vidro. A espectroscopia de emiss?o ?tica foi empregada para o diagn?stico na p?s-descarga. Os filmes formados foram analisados atrav?s da t?cnica de perfilometria mec?nica. Observou-se que no espectro das linhas de arg?nio ocorreu excita??o de esp?cies. Verificaram-se varia??es para a taxa de deposi??o do tit?nio sobre o substrato de vidro para diferentes par?metros do processo como: tempo de deposi??o, dist?ncia da descarga e gases de trabalho. Contatou-se um aumento da intensidade das linhas de arg?nio quando comparadas com as linhas de tit?nio. Para deposi??o com Arg?nio e hidrog?nio em amostra de vidro observou uma maior taxa deposi??o de tit?nio quanto mais pr?xima a amostra se encontrava da descarga