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Etude et validation de boucles d'asservissement permettant le contrôle avancé des procédés en microélectronique : Application à l'étape d'isolation par tranchées peu profondes en technologie CMOS.Belharet, Djaffar 26 February 2009 (has links) (PDF)
Ces travaux de cette thèse s'inscrivent dans la thématique du développement de techniques de contrôle avancé des procédés dans l'industrie de la microélectronique. Leur but est la mise en place de boucles d'asservissement permettant d'ajuster les paramètres d'un procédé de fabrication en temps réel. Ces techniques ont été appliquées sur le bloc isolation des circuits de la technologie CMOS. L'utilisation de tranchées d'isolation peu profondes est la solution pour les technologies <0,25µm. L'influence de la morphologie du STI sur la génération des contraintes mécaniques est montrée. Des études statistiques ont permis de démontrer que la dispersion de la hauteur de marche (paramètre critique du module isolation) influence directement une dispersion de la tension de seuil des transistors parasites. Trois boucles de régulation sont proposées afin de réduire la dispersion de la hauteur de marche. L'indicateur électrique choisi pour le suivi des boucles de régulation R2R est la tension de seuil des transistors parasites. Les procédés concernés par ces régulations sont le dépôt CVD à haute densité plasma, le polissage mécano-chimique et la gravure humide. Les modèles physiques des procédés représentent le cœur d'une boucle de régulation et ont été déduis à partir de plans d'expériences.
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Making their mark, Canadian snipers and the Great War, 1914-1918Mepham, Leslie P. January 1997 (has links) (PDF)
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Développement et caractérisation de nouveaux procédés de passivation pour les capteurs d'images CMOS / Development and characterization of new passivation processes for CMOS images sensorsAit Fqir Ali, Fatima Zahra 01 October 2013 (has links)
La conception des futures générations de capteurs d'images CMOS, nécessite l'intégration de structures 3D telles que les tranchées profondes d'isolation, ou encore l'adoption de nouvelles architectures telles que les capteurs d'images à illumination face arrière. Cependant, l'intégration de telles architectures engendre l'apparition de nouvelles interfaces Si/SiO2, pouvant être la source d'un fort courant d'obscurité Idark, dégradant considérablement les performances électro-optiques du capteur. Ainsi, dans le but d'éliminer le Idark et d'augmenter l'efficacité de collecte et de confinement des photoporteurs au sein de la photodiode, la passivation de ces interfaces par l'introduction d'une jonction fortement dopée a été étudiée. D'une part, la passivation de la face arrière a été réalisée par implantation ionique activée par recuit laser pulsé. Grâce à un traitement très court et localisé, le recuit laser a démontré sa capacité à réaliser des jonctions minces et très abruptes. Une très bonne qualité cristalline ainsi que des taux d'activation avoisinant les 100% ont pu être atteint dans le mode fusion. Le mode sous-fusion quant à lui permet d'obtenir des résultats prometteurs en multipliant le nombre de tir laser. Les résultats électriques ont permis de distinguer les conditions optimales d'implantation et de recuit pour l'achèvement d'un faible niveau de Idark comparable à la référence en vigueur ainsi qu'une bonne sensibilité. Le deuxième axe d'étude s'est intéressé à la passivation des flancs des DTI par épitaxie sélective dopée in-situ. Des dépôts très uniformes de la cavité accompagnés d'une très bonne conformité de dopage le long des tranchées ont pu être réalisés. Les résultats sur lot électrique ont montré un très faible niveau de Idark supplantant la référence en vigueur / In order to maintain or enhance the electro-optical performances while decreasing the pixel size, advanced CMOS Image Sensors (CIS) requires the implementation of new architectures. For this purpose, deep trenches for pixel isolation (DTI) and backside illumination (BSI) have been introduced as ones of the most promising candidates. The major challenge of these architectures is the high dark current level (Idark) due to the generation/recombination centers present at both, DTI sidewalls and backside surfaces. Therefore, the creation of very shallow doped junctions at these surfaces reducing Idark and further crosstalk by drifting the photo-generated carriers to the photodiode region appears as key process step for introducing these architectures. For the backside surface passivation, a very shallow doped layer can be achieved by low-energy implantation followed by very short and localized heating provided by pulsed laser annealing (PLA). In the melt regime, box-shaped profiles with activation rates close to 100% and excellent crystalline quality have been achieved. The non-melt regime shows some potential, especially for multiple pulse conditions. In the optimal process conditions, very low level of Idark comparable to the standard reference has been achieved. In the other side, the passivation of DTI sidewalls has been performed by in-situ doped Epitaxy. Deposited layers with good uniformity and doping conformity all along the DTI cavity have been achieved. The electrical results show Idark values lower than the standard reference
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La représentation des souffrances et des horreurs de la Première Guerre mondiale dans les journaux de tranchéesBertrand, Frédérick 10 January 2019 (has links)
Ce mémoire traite des représentations des souffrances et des horreurs de la guerre dans les journaux de tranchées de la Première Guerre mondiale. S’inspirant des travaux qui croisent littérature et médias, il montre de quelle manière les soldats-journalistes expriment leur réalité à travers les pages de journaux éphémères, qui reprennent les codes formels de la presse traditionnelle, et à l’aide desquelles ils redonnent un sens à leur expérience de la guerre et trouvent là une forme d’exutoire à la violence du quotidien. Ce mémoire s’intéresse tout particulièrement à quatre titres : Le Bochofage, Le Canard du Boyau, L’Écho des Guitounes et Le Tuyau de la Roulante, journaux de régiments d’infanterie qui constituent un échantillonnage des centaines de titres produits par les soldats de ces unités, et dont nous proposons une lecture totale au prisme des souffrances et de la violence. En faisant usage de la notion d’abjection telle que définie par Julia Kristeva, nous proposons une analyse thématique des figures récurrentes des journaux du front (Poilus, Allemands et civils) et de leur implication par rapport aux tribulations traversées. Nous nous intéressons aussi aux principales sources de souffrance du quotidien dans les tranchées, ainsi que du traitement réservé à la représentation de la mort dans les colonnes des feuilles du front. Enfin, nous identifions les principales stratégies discursives mises en œuvre pour traiter de sujets aussi délicats, au sein de publications qui ont pour principale vocation de distraire le Poilu. En somme, nous montrons comment le soldat-journaliste, par le moyen des journaux de tranchées, se réapproprie son humanité dans un contexte qui le déshumanise, en représentant sa souffrance et son expérience de l’indicible de la guerre.
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