Begründung und Optimierung eines Dünnschichtmodells zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen durch in-situ Überwachung des Aufdampfprozesses.

Description

Ein Dünnschichtmodell zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen wurde entwickelt. Dies dient zur Simulation von Beschichtungsprozessen unter Berücksichtigung prozesstypischer Abscheidefehler. In Betracht gezogen werden dabei Schwankungen in der Schichtdicke und den optischen Konstanten für jede virtuell abzuscheidende Schicht, wobei eine Stategie entwickelt wurde, die Eingangsdaten für die Simulation experimentell zu ermitteln. Der Vergleich mit durchgeführten Beschichtungsprozessen dient zur Verifikation der Simulation.

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1. urn:nbn:de:bsz:ch1-200901675
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Tags

info:eu-repo/classification/ddc/530

ddc:530

Beschichtung

Computersimulation

Oberflächenveredelung

Beschichtungserfolg

Dünnschichtoptik

Oszillatormodell

Schwingquarz

breitband optisches Monitoriersystem

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa:de:qucosa:19215
Date	28 September 2009
Creators	Friedrich, Karen
Contributors	Hoffmann, Karl Heinz, Stenzel, Olaf, Technische Universität Chemnitz
Publisher	Fraunhofer Institut für angewandte Optik und Feinmechanik
Source Sets	Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Language	German
Detected Language	German
Type	doc-type:masterThesis, info:eu-repo/semantics/masterThesis, doc-type:Text
Rights	info:eu-repo/semantics/openAccess