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A Study on Physical Property Changes in Dielectric and Semiconductor Materials Induced by Ion Irradiation During Plasma Processing / プラズマプロセス中のイオン照射により誘起される絶縁体および半導体材料の物性変化に関する研究

京都大学 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第24612号 / 工博第5118号 / 新制||工||1979(附属図書館) / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 江利口 浩二, 教授 嶋田 隆広, 教授 鈴木 基史 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DGAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/283731
Date23 March 2023
CreatorsHamano, Takashi
Contributors濱野, 誉, ハマノ, タカシ
PublisherKyoto University, 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Rights学位規則第9条第2項により要約公開, 許諾条件により要約は2024-02-03に公開

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