Herstellung anwendungsbezogener SiO2-
Grabenstrukturen im sub-μm-Bereich durch
RIE und ICP-Prozesse.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:swb:ch1-200600953 |
| Date | 15 June 2006 |
| Creators | Schäfer, Toni |
| Contributors | TU Chemnitz, Fakultät für Maschinenbau, Leibniz-Institut für Festkörper und Werkstoffforschung Dresden,, Dr.-Ing. Ingolf Mönch, Prof Thomas Geßner, Dr.-Ing. Andreas Bertz, Dr.-Ing. Ingolf Mönch |
| Publisher | Universitätsbibliothek Chemnitz |
| Source Sets | Hochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden |
| Language | deu |
| Detected Language | German |
| Type | doc-type:masterThesis |
| Format | application/pdf, text/plain, application/zip |
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