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Begründung und Optimierung eines Dünnschichtmodells zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen durch in-situ Überwachung des Aufdampfprozesses.

Ein Dünnschichtmodell zur Prognose optischer Eigenschaften oxidischer Beschichtungen wurde entwickelt. Dies dient zur Simulation von Beschichtungsprozessen unter Berücksichtigung prozesstypischer Abscheidefehler. In Betracht gezogen werden dabei Schwankungen in der Schichtdicke und den optischen Konstanten für jede virtuell abzuscheidende Schicht, wobei eine Stategie entwickelt wurde, die Eingangsdaten für die Simulation experimentell zu ermitteln. Der Vergleich mit durchgeführten Beschichtungsprozessen dient zur Verifikation der Simulation.

Identiferoai:union.ndltd.org:DRESDEN/oai:qucosa.de:bsz:ch1-200901675
Date25 October 2009
CreatorsFriedrich, Karen
ContributorsTU Chemnitz, Fakultät für Naturwissenschaften, Fraunhofer Institut für angewandte Optik und Feinmechanik,, Prof. Dr. Karl Heinz Hoffmann, Dr. rer. nat. hab. Olaf Stenzel
PublisherUniversitätsbibliothek Chemnitz
Source SetsHochschulschriftenserver (HSSS) der SLUB Dresden
Languagedeu
Detected LanguageGerman
Typedoc-type:masterThesis
Formatapplication/pdf, text/plain, application/zip
RightsDokument ist für Print on Demand freigegeben

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