Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2017-09-19T20:22:47Z
No. of bitstreams: 1
IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2017-09-20T21:21:32Z (GMT) No. of bitstreams: 1
IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5) / Made available in DSpace on 2017-09-20T21:21:32Z (GMT). No. of bitstreams: 1
IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5)
Previous issue date: 2017-06-23 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior (CAPES) / Filmes finos de nitreto de tit?nio foram depositados em superf?cies de
sil?cio e de vidro, utilizando as t?cnicas de deposi??o: descarga em Gaiola
Cat?dica e Magnetron Sputtering, a fim de verificar a influ?ncia da corrente e da
temperatura na taxa de deposi??o, na estequiometria dos filmes finos e nas
propriedades estruturais dos filmes finos. As deposi??es por Gaiola Cat?dica
foram realizadas nas configura??es gaiola alta, gaiola baixa e por uma inova??o
da t?cnica utilizando a gaiola dupla, em atmosfera gasosa composta de 75% de
hidrog?nio e 25% de nitrog?nio, sob temperaturas de 300?C e 350?C, e tempos
de deposi??es de 2 e 4 horas. As deposi??es foram realizadas em Magnetron
Sputtering em atmosfera gasosa composta de 75% de arg?nio e 25% de
nitrog?nio, utilizando correntes de 0,40 A e 0,50 A, nos tempos de deposi??es
de 2 e 4 horas. Para a caracteriza??o dos filmes finos de nitreto de tit?nio,
utilizou-se a espectroscopia Rama (RAMAN) que forneceu a medida direta das
energias dos nodos da primeira ordem dos ?tomos constituintes dos filmes finos.
Os espectros mostraram interdifusividade at?mica que comprovaram a forma??o
de nitreto de tit?nio o que permitiu o c?lculo da raz?o da concentra??o N/Ti, As
an?lises de difra??o de raios-X (DRX) comprovaram que os filmes finos obtidos
s?o compostos por TiN, apresentando varia??es nos planos cristalinos indicando
a n?o exist?ncia de um plano preferencial para o crescimento dos filmes, A
espectroscopia de energia de dispers?o (EDS) analisou quantitativamente a
composi??o dos filmes finos de nitreto de tit?nio, A microscopia eletr?nica de
varredura (MEV) evidenciou a estrutura dos filmes finos de nitreto de tit?nio e foi
poss?vel calcular as espessuras dos mesmos, A microscopia de for?a at?mica
(AFM) mostrou algumas caracter?sticas microestruturais como a diferen?a entre picos e vales da topografia dos filmes finos de nitreto de tit?nio. De maneira geral,
os filmes finos de nitreto de tit?nio depositados por Gaiola Cat?dica
apresentaram menor cristalinidade devido ? baixa quantidade de nitrog?nio na
atmosfera e, evidenciaram que quanto mais elevada a temperatura, maior ser?
a espessura do filme fino. Os filmes finos depositados por Magnetron Sputtering
apresentaram crescimento na espessura com o aumento da corrente e s?o mais
estequiom?tricos. / Thin films of titanium nitride deposited on silicon surfaces and glass
deposition techniques using: Download cathodic cage and Magnetron Sputtering
to verify the influence of flow and temperature in the deposition rate in
stoichiometry of thin films and structural properties of thin films. Deposits of
cathodic cage was carried out in high cage configurations and cage low an
innovation of the technique using atmospheric gas double cage consisted of 75%
hydrogen and 25% nitrogen to temperatures of 300 ? C and 350 ? C Y deposits
both 2 and 4 hours. The deposits were made in an atmosphere of sputter gas
Magnetrons consisting of 75% argon and 25% nitrogen using current 0.40 A and
0.50 A in the deposition time of 2 and 4 hours. Rama spectroscopy (Raman),
which makes available for the characterization of thin layers of titanium nitride
direct measurement of the energy of the node of the first order of the constituent
atom of the thin films. The spectra showed interdifusivity atomic of the titan nitride
formation that the calculation of the concentration ratio N / Ti, X-ray diffraction
analysis (XRD) showed that the thin films obtained from TiN is composite with
variations of the crystal planes indicating the non-existence of preference plan for
The growth of films, microscopy of the energy dispersion spectroscopy (EDS)
quantitatively analysed the composition of the thin films of titanium nitride,
electron scanning (MEV) structure highlight thin films of titanium nitride was able
to calculate the thickness thereof, the scanning force microscopy (AFM) showed
microstructural properties, Which is the difference between the peaks and valleys
of the topography of the thin films of titanium nitride. In general, thin films
deposited by cathodic titanium nitride cage deposited a lower crystallinity due to
the small amount of nitrogen in the atmosphere, and showed that the higher the temperature, the greater the thickness of the thin film. Thin films deposited by Magnetron Sputtering have increased thickness with increasing current and are stoichiometric.
| Identifer | oai:union.ndltd.org:IBICT/oai:repositorio.ufrn.br:123456789/23953 |
| Date | 23 June 2017 |
| Creators | Nascimento, Igor Oliveira |
| Contributors | 03396191471, http://lattes.cnpq.br/3647710047561421, Almeida, Edalmy Oliveira de, 99177781449, http://lattes.cnpq.br/1480791721671288, Souza, Eraldo C?mara de, 21452814449, http://lattes.cnpq.br/2937536696929206, Feitor, Michelle Cequeira, 00981350402, http://lattes.cnpq.br/4011909474871656, Sousa, Romulo Ribeiro Magalh?es de, 21514160463, http://lattes.cnpq.br/3246869695770169, Guerra Neto, Custodio Leopoldino de Brito, Costa, Thercio Henrique de Carvalho |
| Publisher | PROGRAMA DE P?S-GRADUA??O EM ENGENHARIA MEC?NICA, UFRN, Brasil |
| Source Sets | IBICT Brazilian ETDs |
| Language | Portuguese |
| Detected Language | English |
| Type | info:eu-repo/semantics/publishedVersion, info:eu-repo/semantics/doctoralThesis |
| Source | reponame:Repositório Institucional da UFRN, instname:Universidade Federal do Rio Grande do Norte, instacron:UFRN |
| Rights | info:eu-repo/semantics/openAccess |
Page generated in 0.0028 seconds