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フロー処理型マイクロ波化学反応装置の開発とマイクロ波効果の検証松澤, 光宏 24 November 2011 (has links)
Kyoto University (京都大学) / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第16465号 / 工博第3493号 / 新制||工||1528(附属図書館) / 29107 / 京都大学大学院工学研究科化学工学専攻 / (主査)教授 長谷部 伸治, 教授 前 一廣, 教授 河瀬 元明 / 学位規則第4条第1項該当
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Development of an electron cyclotron resonance plasma source with an internal antenna for carbon film deposition / 炭素膜蒸着用内部アンテナを用いた電子サイクロトロン共鳴プラズマ源の開発 / タンソマク ジョウチャクヨウ ナイブ アンテナ オ モチイタ デンシ サイクロトロン キョウメイ プラズマゲン ノ カイハツロメーロ カミール フェイス パスクワ, Camille Faith Pascua Romero 01 March 2018 (has links)
An electron cyclotron resonance (ECR) plasma source which couples microwave to the plasma using an internal antenna was developed. The use of internal antenna provides a "windowless" power coupling method that can eliminate the issues of contamination which require frequent source maintenance. Antenna structure, magnetic configuration and plasma parameters were modified for carbon film deposition by chemical sputtering. The ECR source generated low-plasma-potential (10 V), high-plasma-density (10^16 m^-3) discharges at low gas pressures (10^-1 Pa) and low input power (100 W). The antenna realized stable operation for more than 5 h and can be utilized for carbon film deposition. / 博士(工学) / Doctor of Philosophy in Engineering / 同志社大学 / Doshisha University
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