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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度
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強磁性金属薄膜における電界効果

山田, 貴大 23 March 2017 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(理学) / 甲第20204号 / 理博第4289号 / 新制||理||1616(附属図書館) / 京都大学大学院理学研究科化学専攻 / (主査)教授 小野 輝男, 教授 島川 祐一, 教授 吉村 一良 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Science / Kyoto University / DGAM

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