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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度
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強磁性金属薄膜における電界効果山田, 貴大 23 March 2017 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(理学) / 甲第20204号 / 理博第4289号 / 新制||理||1616(附属図書館) / 京都大学大学院理学研究科化学専攻 / (主査)教授 小野 輝男, 教授 島川 祐一, 教授 吉村 一良 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Science / Kyoto University / DGAM
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