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Search results
Showing 1 to 4 of 4 (0.012 seconds)| 1 |
面外共振振動を用いた多結晶シリコン薄膜メンブレンの疲労試験種村, 友貴 23 May 2013 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第17789号 / 工博第3768号 / 新制||工||1576(附属図書館) / 30596 / 京都大学大学院工学研究科マイクロエンジニアリング専攻 / (主査)教授 田畑 修, 教授 琵琶 志朗, 准教授 土屋 智由, 教授 北村 隆行 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM
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アニール技術を用いた高性能シリコン薄膜トランジスタに関する研究 / アニール ギジュツ オ モチイタ コウセイノウ シリコン ハクマク トランジスタ 二カンスル ケンキュウ野口 隆, Takashi Noguchi 28 February 1992 (has links)
ポリSi薄膜トランジスタ（TFT）の高性能化について、理論的、技術的な観点から種々の問題点を導き、特にトラップ密度や粒径の大小がTFTの電気的特性に与える影響を詳細に解析し、イオン注入やその後のアニール技術などによって充分に実証を行ったものである。特にエキシマレーザアニール（ELA）を用いた、全工程が下地に影響を与えない低温プロセスは、LSIの微細化とガラス上素子特性の向上に資するものとして有益な知見と考えられる。 / 博士(工学) / Doctor of Philosophy in Engineering / 同志社大学 / Doshisha University
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UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文, 寒川, 誠二, 塚田, 勉 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度
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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度
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