1 |
UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文, 寒川, 誠二, 塚田, 勉 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度
|
Page generated in 0.0168 seconds