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Um estudo de metamaterial em antenas de microfita

Sousa Neto, Marinaldo Pinheiro de 25 April 2014 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:55:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 MarinaldoPSN_TESE.pdf: 2731148 bytes, checksum: 7c2caa3355d4d42f0702baf0d147bf97 (MD5) Previous issue date: 2014-04-25 / Universidade Federal do Rio Grande do Norte / Metamaterials have attracted a great attention in recent years mostly due to their electromagnetic properties not found in nature. Since metamaterials began to be synthesized by the insertion of artificially manufactured inclusions in a medium specified host , it provides the researcher a broad collection of independent parameters such as the electromagnetic properties of the material host. In this work was presents an investigation of the unique properties of Split Ring Resonators and compounds metamaterials was performed. We presents a theoretical and numerical analysis , using the full-wave formalism by applying the Transverse Transmission Line - LTT method for the radiation characteristics of a rectangular microstrip antenna using metamaterial substrate, as is successfully demonstrated the practical use of these structures in antennas. We experimentally confirmed that composite metamaterial can improved the performance of the structures considered in this thesis / Os metamateriais tem atra?do uma grande aten??o nas ?ltimas d?cadas, principalmente devido as suas propriedades eletromagn?ticas n?o encontradas na natureza. Desde que os metamateriais passaram a ser sintetizados atrav?s da inser??o de inclus?es artificialmente fabricadas num meio hospedeiro especificado, isto propicia ao pesquisador uma larga cole??o de par?metros independentes, tais como as propriedades eletromagn?ticas do material hospedeiro. Neste trabalho foi realizada uma investiga??o das propriedades ?nicas dos Ressoadores em Anel Partido (Split Ring Ressonators - SRR) e dos metamateriais compostos. Apresentou-se uma an?lise te?rica e num?rico-computacional, utilizando o formalismo de onda completa atrav?s da aplica??o do m?todo da Linha de Transmiss?o Transversa LTT, para as caracter?sticas ressonantes de uma antena de microfita com patch retangular utilizando substrato metamaterial, assim como ? demonstrado com sucesso ? utiliza??o pr?tica dessas estruturas em antenas. Esta utiliza??o pr?tica ? confirmada experimentalmente
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Ressoador retangular defenda com quatro camadas fot?nicas / Ressoador retangular defenda com quatro camadas fot?nicas

Andrade, Humberto Dion?sio de 30 June 2010 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:55:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 HumbertoDA_DISSERT.pdf: 1369294 bytes, checksum: 4b7817dfceebc22263e36739d877c8f2 (MD5) Previous issue date: 2010-06-30 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Recently, planar antennas have attracted interest due to its characteristics as well as the advantages they offer compared to other types of antennas. In the area of mobile communications the need for such antennas has become increasingly intense due to development, which requires antennas that operate in multifrequency and broadband. The microstrip antennas have narrow bandwidth due to losses in the dielectric caused by irradiation. Another limitation is the radiation pattern degradation due to generation of surface waves in the substrate. Some techniques are being developed to minimize this bandwidth limitation, as is the case in the study of type materials PBG - Photonic Band Gap, to compose the dielectric material. The analysis developed in this work were performed with use of the method LTT - Transverse Transmission Line, in the field of Fourier transform that uses a component propagating in the y direction (transerve real direction of propagation z), thus treating the general equations of the fields electric and magnetic fields as a functions of y E and Hy . This work has as main objective the method LTT structures resonator line slot with four layers of material photonic PBG, for obtaining the complex resonant frequency and efficiency of this structure. PBG theory is applied to obtain the relative permittivity for the substrate biases sep compounds photonic material. Numerical-computational results in graph form in two dimensions for all the analysis are presented for the proposed structures that have photonic materials, as substrates / Recentemente as antenas planares tem despertado interesses devido as suas caracter?sticas e vantagens que oferecem quando comparadas com os demais tipos de antenas. Na ?rea de comunica??es m?veis a necessidade de antenas desse tipo, tem se tornado cada vez mais utilizadas, devido ao intenso desenvolvimento, que necessita de antenas que operem em multifrequ?ncia e em banda larga. As antenas de microfita apresentam largura de banda estreita devido ?s perdas no diel?trico geradas pela irradia??o. Outra limita??o ? a degrada??o do diagrama de irradia??o devido ? gera??o de ondas de superf?cie no substrato. Algumas t?cnicas est?o sendo desenvolvidas para minimizar esta limita??o de banda, como ? o caso do estudo de materiais do tipo PBG Photonic Band Gap, para compor o material diel?trico. Este trabalho tem como objetivo principal a aplica??o do m?todo LTT ?s estruturas ressoadoras retangulares de fenda com quatro camadas de material fot?nico PBG, para a obten??o da freq??ncia de resson?ncia complexa e a efici?ncia de radia??o dessa estrutura. As an?lises desenvolvidas neste trabalho foram realizadas com utiliza??o do m?todo LTT Linha de Transmiss?o Transversa, no dom?nio da Transformada de Fourier que utiliza uma componente de propaga??o na dire??o y (transversa ? dire??o real de propaga??o z), tratando assim as equa??es gerais dos campos el?tricos e magn?ticos em fun??o de yEe yH. A teoria PBG ser? aplicada para a obten??o da permissividade relativa para as polariza??es s e p dos substratos compostos de material fot?nico. Resultados num?rico-computacionais s?o apresentados em forma de gr?fico em duas dimens?es para todas as an?lises realizadas para as estruturas propostas que tem como substratos, materiais fot?nicos
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Acoplador e linha de l?mina unilateral e bilateral com substrato fot?nico

Brito, Davi Bibiano 06 July 2006 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:55:47Z (GMT). No. of bitstreams: 1 DaviBB.pdf: 1037005 bytes, checksum: 218c25a038f89588a46ddca7509b0705 (MD5) Previous issue date: 2006-07-06 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / The aim of this work is to characterize and use the characteristic parameters of the planar structures constructed with fin lines looking for their applications in devices, using PBG Photonic Band Gap photonic materials as substrate, operating in the millimeter and optic wave bands.The PBG theory will be applied for the relative permittivity attainment for the PBG photonic substrate s and p polarizations. The parameters considered in the structures characterization are the complex propagation constant and the characteristic impedance of unilateral and bilateral fin lines that were obtained by the use of the TTL Transverse Transmission Line Method, together with the Method of the Moments. The final part of this work comprises studies related to the behavior of the asymmetric unilateral fin line coupler with photonic substrate. This research opens perspectives for new works in this modern area. Numerical results are shown by means of bi-dimensional and three-dimensional graphics. Conclusions and suggestions for future works are also presented / O presente trabalho tem como objetivo caracterizar e utilizar os par?metros de estruturas planares constru?das com linhas de l?minas visando a sua utiliza??o em circuitos, com materiais fot?nicos do tipo PBG Photonic Band Gap como substrato, operando nas faixas de ondas milim?tricas e ?pticas. A teoria PBG ser? aplicada para a obten??o da permissividade relativa para as polariza??es s e p dos substratos compostos de material fot?nico PBG. Os par?metros considerados na caracteriza??o das estruturas s?o a constante de propaga??o complexa e a imped?ncia caracter?stica, de linhas de l?mina unilaterais e bilaterais, que foram obtidos atrav?s da utiliza??o do m?todo da Linha de Transmiss?o Transversa LTT com o aux?lio do M?todo dos Momentos. Nesse trabalho foi realizado ainda, um estudo do funcionamento do acoplador com linha de l?mina unilateral assim?trica com substrato fot?nico. Esta pesquisa abre perspectivas para novos trabalhos nesta moderna ?rea. A an?lise te?rica computacional desse trabalho se mostrou precisa, com compara??es de outros trabalhos, podendo ser empregada em outros dispositivos que utilizem a linha de l?mina como estrutura b?sica, e materiais ?pticos. Resultados num?rico-computacionais em forma de gr?fico em duas e tr?s dimens?es para todas as an?lises realizadas s?o apresentados, para as estruturas propostas que tem como substratos materiais fot?nicos. S?o apresentadas conclus?es e sugest?es para a continuidade deste trabalho
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Desenvolvimento de antenas de microfita com aberturas nos patches condutores atrav?s do m?todo da segmenta??o

Braga, Paulo Farias 25 August 2005 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:55:58Z (GMT). No. of bitstreams: 1 PauloFB.pdf: 617080 bytes, checksum: 5f9c06266e137d13c8b810163ede788d (MD5) Previous issue date: 2005-08-25 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Microstrip antennas are widely used in modern telecommunication systems. This is particularly due to the great variety of geometries and because they are easily built and integrated to other high frequency devices and circuits. This work presents a study of the properties of the microstrip antenna with an aperture impressed in the conducting patch. Besides, the analysis is performed for isotropic and anisotropic dielectric substrates. The Multiport Network Model MNM is used in combination with the Segmentation Method and the Greens function technique in the analysis of the considered microstrip antenna geometries. The numerical analysis is performed by using the boundary value problem solution, by considering separately the impedance matrix of the structure segments. The analysis for the complete structure is implemented by choosing properly the number and location of the neighboor element ports. The numerial analysis is performed for the following antenna geometries: resonant cavity, microstrip rectangular patch antenna, and microstrip rectangular patch antenna with aperture. The analysis is firstly developed for microstrip antennas on isotropic substrates, and then extended to the case of microstrip antennas on anisotropic substrates by using a Mapping Method. The experimental work is described and related to the development of several prototypes of rectangular microstrip patch antennas wtih and without rectangular apertures. A good agreement was observed between the simulated and measured results. Thereafter, a good agreement was also observed between the results of this work and those shown in literature for microstrip antennas on isotropic substrates. Furthermore, results are proposed for rectangular microstrip patch antennas wtih rectangular apertures in the conducting patch / As antenas de microfita s?o estruturas muito utilizadas nos sistemas de telecomunica??es atuais. Isto decorre, principalmente, da diversidade de configura??es e da facilidade de constru??o e integra??o dessas antenas com outros dispositivos e circuitos de altas freq??ncias. Neste trabalho, o m?todo de an?lise empregado ? o Modelo de Circuito de M?lti-Porta (Multiport Network Model MNM), que combinado com o M?todo da Segmenta??o e a t?cnica da Fun??o de Green, mostra-se adequado ao estudo da antena de microfita com abertura no patch condutor. A partir do equacionamento do problema do valor de contorno, ? ent?o realizada uma an?lise num?rica que consiste em avaliar a estrutura da antena considerada a partir da integra??o dos elementos em que ela foi dividida. Nessa an?lise, os elementos s?o representados por matrizes de imped?ncia e a integra??o ? implementada atrav?s de portas de circuitos adequadamente escolhidas em n?mero e posicionamento. Na an?lise num?rica, foram consideradas as seguintes estruturas: a cavidade ressonante, a microfita com patch retangular convencional (sem abertura) e a microfita com patch retangular com abertura. A an?lise foi efetuada para substratos isotr?picos e estendida para o caso de antenas com substratos anisotr?picos uniaxiais atrav?s do M?todo do Mapeamento. S?o apresentados resultados para a freq??ncia de resson?ncia e para a imped?ncia de entrada de antenas de microfita. A parte experimental do trabalho consistiu no projeto, constru??o e medi??o de v?rios prot?tipos de antenas de microfita com patches retangulares com e sem abertura. Observou-se que os resultados obtidos, atrav?s da simula??o num?rica, apresentaram uma boa concord?ncia com os das medi??es efetuadas. Os resultados deste trabalho, tamb?m, concordaram com os resultados de outros autores, dispon?veis na literatura
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An?lise do espalhamento espectral em superf?cies de estruturas complexas para comunica??es m?veis

Cruz, Rossana Moreno Santa 15 August 2005 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:56:00Z (GMT). No. of bitstreams: 1 RossanaMSC.pdf: 1964809 bytes, checksum: 4bf5121999d212cf5e61c5b931343038 (MD5) Previous issue date: 2005-08-15 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / In this work, the transmission line method is explored on the study of the propagation phenomenon in nonhomogeneous walls with finite thickness. It is evaluated the efficiency and applicability of the method, considering materials like gypsum, wood and brick, found in the composition of the structures of walls in question. The results obtained in this work are compared to those available in the literature, for several particular cases. A good agreement is observed, showing that the performed analysis is accurate and efficient in modeling, for instance, the wave propagation through building walls and integrated circuit layers in mobile communication and radar system applications. Later, simulations of resistive sheets devices such as Salisbury screens and Jaumann absorbers and of transmission lines made of metal-insulator-semiconductor (MIS) are made. Thereafter, it is described a study on frequency surface selective structures (FSS). It is proposed the development of devices and microwave integrated circuits (MIC) of such structures, for the accomplishment of experiments. Finally, future works are suggested, for instance, on the development of reflectarrays, frequency selective surfaces with dissimilar elements, and coupled frequency selective surfaces with elements located on different layers / Neste trabalho, ? utilizado o M?todo da Linha de Transmiss?o, para a investiga??o do fen?meno de propaga??o em paredes n?o-homog?neas e de espessura finita. A avalia??o da efici?ncia e aplicabilidade do m?todo da linha de transmiss?o ? realizada, considerando materiais como gesso, madeira e tijolo, encontrados na composi??o das estruturas de paredes em quest?o. Posteriormente, s?o apresentadas simula??es para superf?cies resistivas, como telas de Salisbury e absorvedores Jaumann, e para linhas de transmiss?o do tipo metal-isolante-semicondutor (MIS), al?m do estudo sobre superf?cies seletivas de freq??ncia (FSS). Em seguida, ? proposto o desenvolvimento de dispositivos e circuitos integrados de microondas (MIC) de tais estruturas, para a realiza??o de experimentos. Os resultados obtidos demonstram que a an?lise efetuada neste trabalho ? eficiente e precisa. Para diversas estruturas e aplica??es em circuitos, os valores num?ricos obtidos para os par?metros analisados foram comparados com os valores te?ricos e experimentais, inclusive de outros autores. Nestes casos, observa-se uma excelente concord?ncia. Estes resultados indicam o potencial da t?cnica adotada para a an?lise da propaga??o de ondas eletromagn?ticas atrav?s de estruturas de camadas m?ltiplas, com aplica??es em sistemas de comunica??es m?veis e radar. Finalmente, s?o apresentadas propostas para a realiza??o de trabalhos futuros relacionados, por exemplo, com o desenvolvimento de reflectarrays, superf?cies seletivas de freq??ncia com elementos dissimilares, localizados na mesma interface, e superf?cies seletivas de freq??ncias acopladas, com elementos localizados sobre camadas distintas
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Aplica??o pr?tica do m?todo de sintonia de controladores PID utilizando o m?todo do rel? com histerese

Pinto, Jan Erik Mont Gomery 16 May 2014 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:56:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 JanEMGP_DISSERT.pdf: 3028317 bytes, checksum: 5eeb8ec6954b59f2853f263ffa4c4d9c (MD5) Previous issue date: 2014-05-16 / Conselho Nacional de Desenvolvimento Cient?fico e Tecnol?gico / The area of research and development involving the PID tune of controllers is an active area in the academic and industrial sectors yet. All this due to the wide use of PID controllers in the industry (96% of all controllers in the industry is still PID). Controllers well tuned and tools to monitor their performance over time with the possibility of selftuning, become an item almost obligatory to maintain processes with high productivity and low cost. In a globalized world, it is essential for their self survival. Although there are several new tools and techniques that make PID tune, in this paper will explore the PID tune using the relay method, due its good acceptance in the industrial environment. In addition, we will discuss some techniques for evaluation of control loops, as IAE, ISE, Goodhart, the variation of the control signal and index Harris, which are necessary to propose new tuning for control loops that have a low performance. Will be proposed in this paper a tool for tuning and self tuning PID. Will be proposed in this paper a PID auto-tuning software using a relay method. In particular, will be highlighted the relay method with hysteresis. This method has shown tunings with satisfactory performance when applied to the didactic, simulated and real plants / O campo de pesquisa e desenvolvimento de softwares envolvendo a sintonia de controladores PID, ainda ? uma ?rea ativa dentro do meio acad?mico e industrial. Tudo isso devido ? larga utiliza??o de controladores PID na ind?stria (96% de todos os controladores na ind?stria ainda ? PID). Ter controladores bem sintonizados e com ferramentas que possam acompanhar seus desempenhos ao longo do tempo com a possibilidade de ressintoniz?-los, ou ainda autossintoniz?-los, passar a ser um item quase que obrigat?rio para manter processos com alta produtividade e baixo custo. J? que em um mundo globalizado, o n?vel mais acirrado de concorr?ncia entre as empresas, atualmente, est? no custeio e na produtividade. Apesar de existirem diversas novas t?cnicas e ferramentas que fazem sintonia de controladores PID, neste trabalho ser? explorada esta sintonia utilizando o m?todo do rel?, devido a sua boa aceita??o no ambiente industrial, simplicidade e robustez. Al?m disto, abordaremos algumas t?cnicas para avalia??o de desempenho de malhas de controle de processos, tais como IAE, ISE, Goodhart, Vari?ncia de sinais e ?ndice de Harris. Ser? proposta neste trabalho uma ferramenta de sintonia e autossintonia PID (usando o m?todo do rel?), em especial o m?todo do rel? com histerese. Este m?todo tem apresentado sintonias com desempenhos satisfat?rios quando aplicados em plantas simuladas e reais
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Caracteriza??o de cer?micas porosas de alumina refor?ada com zirc?nia produzidas pelo m?todo da r?plica

Souza, Fernando Barcelos Marcolino de 29 September 2008 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:57:49Z (GMT). No. of bitstreams: 1 FernandoBMS.pdf: 3386932 bytes, checksum: 168cdc99a75d4f1724f61a337a6c9569 (MD5) Previous issue date: 2008-09-29 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Porous ceramics have many applications: thermal insulation, catalytic support, materials to fire protection, filters, and others. There are many techniques to production of ceramic filters. One technique to obtain ceramic filters is the replication method. This method consists in the impregnation of polymeric foam with ceramic slurry followed by a heating treatment that will burn out the organic elements and sintering of the material, resulting of a replication of the original foam. To perform their functions ceramic filters must satisfy mechanical requirements and permeability parameters (darcian k1 and no-darcian k2). The permeability and the strength of the ceramic material are dependent of the pore size and pore distribution. To the use at high temperatures the evaluation of mechanical properties in these temperatures is necessary. In this work the mechanical behavior of two commercial porous ceramics (10 and 40 poros per inch) was studied these materials were submitted to compression and four-point flexure test (room temperature, at 1000 ?C, after thermal shock). Density and porosity measurements, permeability tests and microstructural analysis by scanning electronic microscopy (SEM) were realized. The Results showed that the decrease of mechanical strength of these materials, when submitted to thermal shock, occur for propagation of new cracks from cracks pre-existing and the permeability depends of the pore size / As cer?micas porosas possuem uma vasta gama de aplica??es, tais como: isoladores t?rmicos, suporte catal?tico, materiais para prote??o contra fogo, filtros, dentre outras. Existem v?rias t?cnicas para a produ??o de filtros cer?micos, dentre as quais pode-se destacar o m?todo da r?plica, o qual consiste basicamente na impregna??o de uma esponja polim?rica ou natural com uma barbotina cer?mica, seguindo-se um tratamento t?rmico deste material, onde ocorrer? a decomposi??o do material org?nico e sinteriza??o do material cer?mico, resultando em um corpo cer?mico que consiste em uma r?plica da estrutura da esponja impregnada inicialmente. Al?m de par?metros de permeabilidade (darciana k1 e n?o darciana k2), os filtros cer?micos t?m que atender a requisitos mec?nicos, para que assim possam desempenhar bem as suas fun??es. A resist?ncia mec?nica e a permeabilidade dependem do tamanho e da distribui??o dos poros no material. Para utiliza??o em altas temperaturas, a avalia??o das propriedades mec?nicas a estas temperaturas se faz necess?ria. Neste trabalho foi estudado o comportamento mec?nico de duas cer?micas porosas comerciais (10 e 40 poros por polegada linear) ap?s serem submetidas a ensaios de resist?ncia ? compress?o e ? flex?o em 4 pontos (temperatura ambiente, 1000 ?C e ap?s choque t?rmico). Foram realizadas medidas densidade e porosidade, permeabilidade e an?lise da microestrutura destes materiais por microscopia eletr?nica de varredura. Os resultados mostram que os valores de resist?ncia mec?nica destes materiais s?o dependentes dos defeitos pr?-existentes nos filamentos que comp?em a estrutura do material e a permeabilidade ? fun??o do tamanho dos poros
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M?todo de Otimiza??o Topol?gica em Estruturas Tridimensionais

Coutinho, Karilany Dantas 19 May 2006 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:58:12Z (GMT). No. of bitstreams: 1 KarilanyDC.pdf: 1404746 bytes, checksum: 75321c91ff10021c5b9665530a1b4f3d (MD5) Previous issue date: 2006-05-19 / The topology optimization problem characterize and determine the optimum distribution of material into the domain. In other words, after the definition of the boundary conditions in a pre-established domain, the problem is how to distribute the material to solve the minimization problem. The objective of this work is to propose a competitive formulation for optimum structural topologies determination in 3D problems and able to provide high-resolution layouts. The procedure combines the Galerkin Finite Elements Method with the optimization method, looking for the best material distribution along the fixed domain of project. The layout topology optimization method is based on the material approach, proposed by Bendsoe & Kikuchi (1988), and considers a homogenized constitutive equation that depends only on the relative density of the material. The finite element used for the approach is a four nodes tetrahedron with a selective integration scheme, which interpolate not only the components of the displacement field but also the relative density field. The proposed procedure consists in the solution of a sequence of layout optimization problems applied to compliance minimization problems and mass minimization problems under local stress constraint. The microstructure used in this procedure was the SIMP (Solid Isotropic Material with Penalty). The approach reduces considerably the computational cost, showing to be efficient and robust. The results provided a well defined structural layout, with a sharpness distribution of the material and a boundary condition definition. The layout quality was proporcional to the medium size of the element and a considerable reduction of the project variables was observed due to the tetrahedrycal element / O problema de otimiza??o topol?gica consiste na defini??o do leiaute estrutural pela da distribui??o ?tima de material no espa?o de projeto. Em outras palavras, ap?s serem definidas as condi??es de contorno num dom?nio de projeto pr?-estabelecido, o problema ? como distribuir o material de modo a solucionar o problema de minimiza??o. O objetivo deste trabalho ? propor uma formula??o para a determina??o de topologias estruturais ?timas, que seja competitiva para utiliza??o em problemas 3D e capaz de proporcionar leiautes de alta defini??o. O procedimento combina o M?todo de Elementos Finitos de Galerkin com o m?todo de otimiza??o, buscando a melhor distribui??o de material ao longo do dom?nio fixo de projeto. O m?todo de otimiza??o de leiaute empregado ? baseado na abordagem material, proposta por Bendsoe & Kikuchi (1988), que considera uma equa??o constitutiva homogeneizada dependente apenas da densidade relativa do material. O elemento finito utilizado para a aproxima??o ? o tetra?drico de quatro n?s, com um esquema de integra??o seletiva, que interpola n?o s? as componentes do campo de deslocamento como tamb?m o campo de densidade relativa. O processo proposto consiste na solu??o de uma seq??ncia de problemas de otimiza??o e ? aplicado a problemas de minimiza??o da flexibilidade (atendendo a um limite de volume material) e da massa (satisfazendo um crit?rio de tens?o) em estruturas tridimensionais. A microestrutura utilizada para a descri??o das propriedades materiais ? do tipo SIMP (Solid Isotropic Material with Penalty). A abordagem reduz consideravelmente o custo computacional, mostrando ser efetiva e promissora. Os resultados proporcionaram um leiaute estrutural definido, com n?tida distribui??o do material e defini??o do contorno, com qualidade proporcional ao tamanho m?dio do elemento da malha em quest?o, assim como uma consider?vel redu??o no total de vari?veis de projeto, devido ? utiliza??o do elemento finito empregado
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Diagn?stico de plasma de c?todo oco: an?lise da a??o de plasma de arg?nio e Ar-H2 para a deposi??o de filmes finos de tit?nio em p?s-descarga

Silva, Bruno Felipe Costa da 05 July 2013 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:58:21Z (GMT). No. of bitstreams: 1 BrunoFCS_DISSERT.pdf: 2467148 bytes, checksum: dcbe5eb64bfff65b0ce2132826b8fb43 (MD5) Previous issue date: 2013-07-05 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Plasma DC hollow cathode has been used for film deposition by sputtering with release of neutral atoms from the cathode. The DC Plasma Ar-H2 hollow cathode currently used in the industry has proven to be effective in cleaning surfaces and thin film deposition when compared to argon plasma. When we wish to avoid the effects of ion bombardment on the substrate discharge, it uses the post-discharge region. Were generated by discharge plasma of argon and hydrogen hollow cathode deposition of thin films of titanium on glass substrate. The optical emission spectroscopy was used for the post-discharge diagnosis. The films formed were analyzed by mechanical profilometry technique. It was observed that in the spectrum of the excitation lines of argon occurred species. There are variations in the rate of deposition of titanium on the glass substrate for different process parameters such as deposition time, distance and discharge working gases. It was noted an increase in intensity of the lines of argon compared with the lines of titanium. Deposition with argon and hydrogen in glass sample observed a higher rate deposition of titanium as more closer the sample was in the discharge / O Plasma DC de catodo oco vem sendo utilizado para a deposi??o de filmes atrav?s de sputtering com libera??o de ?tomos neutros do c?todo. O Plasma DC de Ar-H2 de catodo oco usado atualmente na ind?stria tem demonstrado ser eficiente na limpeza de superf?cies e deposi??o de filmes finos quando comparado ao plasma de arg?nio. Quando desejamos evitar os efeitos do bombardeamento i?nico da descarga no substrato, utiliza-se a regi?o de p?s-descarga. Geraram-se descargas por plasma de arg?nio e hidrog?nio em catodo oco para deposi??o de filmes finos de tit?nio em substrato de vidro. A espectroscopia de emiss?o ?tica foi empregada para o diagn?stico na p?s-descarga. Os filmes formados foram analisados atrav?s da t?cnica de perfilometria mec?nica. Observou-se que no espectro das linhas de arg?nio ocorreu excita??o de esp?cies. Verificaram-se varia??es para a taxa de deposi??o do tit?nio sobre o substrato de vidro para diferentes par?metros do processo como: tempo de deposi??o, dist?ncia da descarga e gases de trabalho. Contatou-se um aumento da intensidade das linhas de arg?nio quando comparadas com as linhas de tit?nio. Para deposi??o com Arg?nio e hidrog?nio em amostra de vidro observou uma maior taxa deposi??o de tit?nio quanto mais pr?xima a amostra se encontrava da descarga
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Diagn?stico de descarga de c?todo oco de ar e p?s-descarga Ar N2 por espectroscopia de emiss?o ?ptica e espectrometria de massa

Santos, Edson Jos? da Costa 05 July 2013 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T14:58:21Z (GMT). No. of bitstreams: 1 EdsonJCS_DISSERT.pdf: 1649413 bytes, checksum: 32339cc7487693336b6710eaa3e1c93c (MD5) Previous issue date: 2013-07-05 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Many applications require that the plasma discharge is produced apart from the surface to be processed, thus preventing damage caused by bombardment and/or plasma radiation. In the post-discharge regime in various applications thermally sensitive materials can be used. In this work, active species produced by discharge and post-discharge hollow cathode were diagnosed by optical emission spectroscopy and mass spectrometry. The discharge was produced with the gases Ar and Ar - N2 gas flow ranging from 1 to 6 cm3/min and electric current between 150 to 600 mA. It was estimated that the ion density inside the hollow cathode, with 2 mm diameter ranged between 7.71 and 14.1 x 1015 cm-3. It was observed that the gas flow and the electric current changes the emission intensity of Ar and N2 species. The major ionic species detected by quadrupole mass spectrometry were Ar+ and N2+. The ratio of optical emission intensities of N2(1 +)/Ar(811 nm) was related to the partial pressure of N2 after the hollow cathode discharge at low pressure / Muitas aplica??es de plasma exigem que a descarga seja produzida distante da superf?cie a ser processada, evitando assim danos causados pelo bombardeamento e/ou radia??o do plasma. Nesse regime de p?s-descarga v?rias aplica??es em materiais termicamente sens?veis podem ser utilizadas. Neste trabalho esp?cies ativas produzidas por descarga e p?s-descarga de catodo oco foram diagnosticadas por espectroscopia de emiss?o ?ptica e espectrometria de massa. A descarga foi produzida com os gases Ar e mistura Ar - N2 com fluxo de g?s variando de 1 a 6 cm3/min e corrente el?trica entre 150 a 600 mA. Estimou-se que a densidade de ?ons no interior do c?todo oco, com 2 mm de di?metro, variou entre 7,71 e 14,1 x 1015 cm-3. Observou-se que o fluxo de g?s e a corrente el?trica alteram a intensidade de emiss?o das esp?cies de Ar e N2. As principais esp?cies i?nicas detectadas por espectrometria de massa quadrupolar foram de Ar+ e N2+. A raz?o das intensidades de emiss?o ?tica de N2 (1 +)/Ar(811 nm) foi relacionada com a press?o parcial de N2 na p?s-descarga de c?todo oco em baixa press?o

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