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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度

Identiferoai:union.ndltd.org:NAGOYA/oai:ir.nul.nagoya-u.ac.jp:2237/13079
Date03 1900
Creators後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文
Source SetsNagoya University
LanguageJapanese
Detected LanguageJapanese
TypeResearch Paper

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