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Chemical Etching of Semiconductors Assisted by Graphene Oxide / 酸化グラフェンを触媒として用いた新規半導体加工法の開発

京都大学 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第24582号 / 工博第5088号 / 新制||工||1974(附属図書館) / 京都大学大学院工学研究科材料工学専攻 / (主査)教授 杉村 博之, 教授 邑瀬 邦明, 教授 宇田 哲也 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

Identiferoai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/283701
Date23 March 2023
CreatorsKubota, Wataru
Contributors窪田, 航, クボタ, ワタル
PublisherKyoto University, 京都大学
Source SetsKyoto University
LanguageEnglish
Detected LanguageEnglish
Typedoctoral thesis, Thesis or Dissertation
Rights2019年5月発行 Japanese Journal of Applied Physics第58巻050924 1-4頁に掲載 Chemical etching of silicon assisted by graphene oxide DOI:10.7567/1347-4065/ab17f3 2021年7月発行 Langmuir第37巻9920-9926頁に掲載 Chemical Etching of Silicon Assisted by Graphene Oxide in an HF−HNO3 Solution and Its Catalytic Mechanism DOI:10.1021/acs.langmuir.1c01681 2022年8月発行  ACS Applied Nano Materials第5巻11707-11714頁に掲載 Vapor-Phase Chemical Etching of Silicon Assisted by Graphene Oxide for Microfabrication and Microcontact Printing DOI:10.1021/acsanm.2c02690 2020年4月発行 Japanese Journal of Applied Physics第59巻SN1001 1-5頁に掲載 Local current mapping of electrochemically-exfoliated graphene oxide by conductive AFM DOI:10.35848/1347-4065/ab80df

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