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UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発

科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度

Identiferoai:union.ndltd.org:NAGOYA/oai:ir.nul.nagoya-u.ac.jp:2237/13084
Date03 1900
Creators後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文, 寒川, 誠二, 塚田, 勉
Source SetsNagoya University
LanguageJapanese
Detected LanguageJapanese
TypeResearch Paper

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