A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas / 誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究

Description

京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19687号 / 工博第4142号 / 新制||工||1639(附属図書館) / 32723 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM

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1. http://hdl.handle.net/2433/215513
2. 14301甲第19687号
3. 10.14989/doctor.k19687
4. 14301

Tags

plasma etching

plasma-induced surface roughness

ripple formation

silicon etching

inductively coupled chlorine plasmas

500

Additional Fields

Identifer	oai:union.ndltd.org:kyoto-u.ac.jp/oai:repository.kulib.kyoto-u.ac.jp:2433/215513
Date	23 March 2016
Creators	Nakazaki, Nobuya
Contributors	斧, 髙一, 稲室, 隆二, 青木, 一生, 中﨑, 暢也, ナカザキ, ノブヤ
Publisher	京都大学 (Kyoto University), 京都大学
Source Sets	Kyoto University
Language	English
Detected Language	English
Type	doctoral thesis, Thesis or Dissertation
Format	application/pdf