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A Study of Plasma-Induced Surface Roughness and Ripple Formation during Silicon Etching in Inductively Coupled Chlorine Plasmas / 誘導結合塩素プラズマを用いたシリコンエッチングにおけるプラズマ誘起表面ラフネスとリップル形成に関する研究Nakazaki, Nobuya 23 March 2016 (has links)
京都大学 / 0048 / 新制・課程博士 / 博士(工学) / 甲第19687号 / 工博第4142号 / 新制||工||1639(附属図書館) / 32723 / 京都大学大学院工学研究科航空宇宙工学専攻 / (主査)教授 斧 髙一, 教授 稲室 隆二, 教授 青木 一生 / 学位規則第4条第1項該当 / Doctor of Philosophy (Engineering) / Kyoto University / DFAM
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Strukturbildung und Rauigkeiten an Grenzflächen des Ni-Ag-Legierungssystems / Structure Formation and Roughnesses at Interfaces of the Ni-Ag Alloy SystemPetersen, Jan 21 April 2008 (has links)
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