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Search results

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1

レ-ザ-冷却された-成分プラズマの物性

庄司, 多津男, 坂和, 洋一, 門田, 清, 三重野, 哲 07 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:一般研究(B)→基盤研究(B) 課題番号:07458091 研究代表者:庄司 多津男 研究期間:1995-1996年度
diode laser
strongly coupled plasma
torus RF trap
イオントラップ
ト-ラスRFトラップ
レ-ザ-冷却
一成分プラズマ
半導体レ-ザ-
強結合プラズマ
2

ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究

後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度
Absorption spectroscopy
Amorphous Silicon
CVD
Chemical vapor deposition
Diamond
FT-IR
FT-IRRAS
Plasma
Poly crystalline Silicon
Process
Radical
アモルファスシリコン
ダイヤモンド
プラズマ
プロセス
ラジカル
吸収分光法
多結晶シリコン
赤外半導体レ-ザ吸収分光法

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