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Gravure de titane pour applications biomédicales / Titanium etching for biomedical applicationsLaudrel, Edouard 23 November 2017 (has links)
Des efforts de miniaturisation sont nécessaires dans le domaine des dispositifs actifs implantables afin de limiter l’invasivité et de réduire les risques de complications suite aux opérations chirurgicales. Les marges de progression pour la réduction des dimensions tendent à se réduire pour les systèmes actuels tels que les stimulateurs cardiaques, les neurostimulateurs ou les capteurs autonomes in vivo. Une rupture technologique est nécessaire pour permettre de repousser les limites des systèmes actuels. Le titane est un matériau possédant des propriétés de biocompatibilité. Il est stable et inerte en contact avec les tissus humains. De plus, ses caractéristiques mécaniques en font un matériau prometteur pour le développement de microsystèmes implantables. Dans le cadre du projet R&D MISTIC (Micro-Structuration du Titane pour Innovations Cardiologiques), l’objectif principal de cette thèse est de développer une brique technologique sur la gravure profonde du titane pour l’intégration de microsystèmes dans des dispositifs actifs implantables. Des études concernant la gravure profonde du titane en plasma de Cl₂ ont été menées afin de déterminer les mécanismes mis en jeu. L’ajout d’espèces fluorées permet, par la création d’un nouveau chemin réactionnel, d’accroître la vitesse de gravure du titane et d’augmenter la sélectivité par rapport au masque de Nickel. Un procédé de gravure du titane sur une profondeur de 300 μm a été mis au point sur des plaquettes de 100 mm de diamètre. L’application des résultats de ces études et le transfert du procédé vers la gravure pleine plaque ont permis de réaliser des démonstrateurs de traversées électriques en titane. / Miniaturization efforts are required in the field of implantable active devices in order to limit invasiveness and reduce the risks of complications following surgical operations. Progression margins for the reduction of dimensions tend to be reduced for current systems such as cardiac pacemakers, neurostimulators or in vivo autonomous sensors. A technological break is needed to push the limits of current systems. Titanium is a material with biocompatibility properties. It is stable and inert in contact with the human tissues.Moreover, its mechanical characteristics make it a promising material for the development of implantable microsystems. As a part of the MISTIC R&D project (Micro-Structuring of Titanium for Innovations in Cardiology), the main objective of this PhD thesis is to develop a technological brick on the deep etching of titanium for the integration of microsystems in active implantable devices. Studies on the deep etching of titanium into Cl₂ plasma have been carried out in order to determine the mechanisms involved. Further, by adding fluorinated species in the process through the creation of a new reaction pathway, an increase in the titanium etch rate and an improvement of the selectivity with the nickel hard mask were achieved. A process for titanium etching over a depth of 300 μm has been developed on 100 mm diameter wafers. The application of the results of these studies and the transfer of the process to the full wafer etching made it possible to produce the demonstrators with titanium-based electrical feedthrough.
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Cercetări privind calitatea gravării cu laser pe suprafețe de sticlă / Recherches concernant la qualité de surface de verre gravée au laser / Research regarding laser engraving quality on glass surfacesMelian, Ciprian Florin 29 November 2013 (has links)
Certains critères d'évaluation de la qualité des surfaces, comme également les aspects de l'effet produit par le rayon laser à l'action très courte sur le matériel en verre ont été étudiés. Le point majeur de départ de ces travaux de recherche a été la forme et les dimensions des cratères. Une première partie des expériences réalisées a conduit à la détermination du pourcentage d'influence des paramètres technologiques avec des valeurs différentes, sur la profondeur et le volume des cratères à l'action du rayon laser sur le verre.Dans le but de réduire le nombre d'expérimentation, le plan basé sur la méthode Taguchi a été utilisé. Dans la deuxième étape, les paramètres technologiques élargit sur un champ plus large de valeurs a été étudié pouir mettre en évidence leur influence sur la forme et sur la dimension du cratère. Grâce à l'évaluation des cratères, une classification de l'influence des paramètres technologiques étudiés sur certaines caractéristiques de qualité a pu être réalisé. L'évaluation de la forme, de l'aspect et du profil du cratère parallèle à l'axe de symétrie et le matériel fondu excessivement ont mené l'introduction du concept de "classe de qualité du cratère" et à la définition des classes en fonction de l'existence ou de l'inexistence des caractérisitques concrètes de qualité. La classe de qualité du cratère restera à la base du concept de classe de qualité de la gravure sur du verre. L'évaluation de ces surfaces selon des critères semblables ; ceux de l'évaluation des cratères a permis d'établir un "axe de qualité" des surfaces en verre gravées au laser. Cet axe est dépendant de la valeur de la puissance du rayon laser et de la durée de l'impulsion laser. / Some evaluation of surface quality criteria, as also the aspect of the effect of the laser beam action at very shorts inpuls on glass materials were studied. The main starting point for this research was the shape and size of craters. A first part of experiments led to the determination of the percentage of influence of the process parameters with different values of the depth and the volume to the action of the craters of the laser beam on the glass.In order to reduce the number experiments, the plan based on the Taguchi method was used. In the second stage, the technological parameters extends over a wider field of values was studied to highlight their influence on the shape and size of the crater. Through evaluation of the craters, a classification of the influence of technological parameters studied on certain characteristics of quality has been achieved. The evaluation of the shape, appearance and profile of the crater parallel to the axis of symmetry and the molten material excessively led the introduction of the concept of "quality class of the crater" and the definition of classes quality depending on the existence or non existence of specify quality characteristics. The quality class of the crater will remain the basis of the concept of class quality of engraving on glass. The evaluation of these surfaces as similar to those of the evaluation criteria of the craters was allowed to establish a "quality axis" for glass surface engrave with laser. This axis is dependent on the value of the laser power and duration of the laser pulse.
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Fabrication et caractérisation de nanocristaux de silicium localisés, réalisés par gravure électrochimique pour des applications nanoélectroniquesAyari-Kanoun, Asma January 2011 (has links)
Ce travail de thèse porte sur le développement d'une nouvelle approche pour la localisation et l'organisation de nanocristaux de silicium réalisés par gravure électrochimique. Cette dernière représente une technique simple et peu couteuse [i.e. coûteuse] par rapport aux autres techniques couramment utilisées pour la fabrication de nanocristaux de silicium. L'idée de ce travail a été d'étudier la nanostructuration de minces couches de nitrure de silicium, d'environ 30 nm d'épaisseur pour permettre par la suite un arrangement périodique des nanocristaux de silicium. Cette pré-structuration est obtenue de façon artificielle en imposant un motif périodique via une technique de lithographie par faisceau d'électrons combinée avec une gravure plasma. Une optimisation des conditions de lithographie et de gravure plasma ont permis d'obtenir des réseaux de trous de 30 nm de diamètre débouchant sur le silicium avec un bon contrôle de leur morphologie (taille, profondeur et forme). En ajustant les conditions de gravure électrochimique (concentration d'acide, temps de gravure et densité de courant), nous avons obtenu des réseaux -2D ordonnés de nanocristaux de silicium de 10 nm de diamètre à travers ces masques de nanotrous avec le contrôle parfait de leur localisation, la distance entre les nanocristaux et leur orientation cristalline. Des études électriques préliminaires sur ces nanocristaux ont permis de mettre en évidence des effets de chargement. Ces résultats très prometteurs confirment l'intérêt des nanocristaux de silicium réalisés par gravure électrochimique dans le futur pour la fabrication à grande échelle de dispositifs nanoélectroniques.
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Les titres de musique illustrés au XIXe siècle : à travers la collection Blondel /Mulliez, Domitille. January 1995 (has links)
Mém. de DEA--Sciences des textes et documents--Paris 7, 1995. / Bibliogr. p. 65-67. Index.
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La peinture et la gravure à Aix-en-Provence aux XVIe, XVIIe et XVIIIe siècles : 1530-1790 /Boyer, Jean, January 1972 (has links)
Th.--Lett.--Aix, 1970. / Bibliogr. p. 80. Index. Gazette des Beaux-Arts.
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Essai de catalogue sur l'iconographie de la vie populaire à Paris au XVIIIe sièclePitsch, Marguerite. January 1952 (has links)
Thèse--École du Louvre. / Includes indexes.
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Effets de température dans les procédés de gravure plasma : Aspects fondamentaux et applicationsKoo, Min 22 December 2008 (has links) (PDF)
L'objectif du travail de thèse est d'étudier les effets de température et du dopage sur les caractéristiques de gravure du Si et des polymères : produits de réaction, cinétiques, énergie d'activation, anisotropie, et sélectivité. La gravure anisotrope des polymères est ensuite étudiée en fonction de la température en utilisant des mélanges de gaz permettant d'utiliser un procédé par passivation latérale. Les résultats expérimentaux obtenus sont discutés en tenant compte de l'étude thermodynamique des systèmes chimiques concernés. Le travail s'achève par l'étude de faisabilité de filtres pour microfiltration par perçage de pores à travers des films polymère.
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Le rayonnement international des gravures flamandes aux XVIe et XVIIe siècles : les peintures murales des églises Sainte-Bethléem et Saint-Sauveur à la Nouvelle-Djoulfa (Ispahan)Eftekharian, Sarah Sâyeh 13 October 2006 (has links)
L’auteur inventorie les sources iconographiques de la plupart des quelque 250 peintures de l’église Sainte-Bethléem et de la cathédrale Saint-Sauveur de la cité arménienne de la Nouvelle-Djoulfa, dans les faubourgs d’Ispahan. Elle établit que ces sources, contrairement à la thèse qui faisait autorité depuis plus de cinquante ans, ne sont pas des xylographies du graveur Christoffel Van Sichem, mais des estampes de la Bible de Natalis, ouvrage jésuite publié pour la première fois à Anvers en 1593.
L’auteur démontre qu’il existe également une autre source, à savoir l’album Thesaurus veteris et novi Testamenti de l’éditeur anversois de confession calviniste G. de Jode, dont la première publication date de 1579 et dont les planches furent reprises, entre autres, dans l’album Theatrum Biblicum publié à Amsterdam à partir de 1639 par l’éditeur C. J. Visscher. Une comparaison avec des miniatures de l’école de la Nouvelle-Djoulfa conservés au Matenadaran et à la BNF permet de confirmer que ces deux albums sont parvenus dans la cité arménienne. Enfin, la thèse recense plusieurs estampes isolées qui ont aussi servi de modèle aux peintures murales.
Par une étude stylistique comparée mettant en évidence la transformation caractéristique de certains modèles utilisés, l’auteur établit que les peintres impliqués dans la décoration de l’église Sainte-Bethléem et de la cathédrale Saint-Sauveur sont des artistes de la cité, dont l’un au moins a une connaissance approfondie des techniques et des conventions de l’art pictural occidental. Dans le même temps, elle fait ressortir le fait que l’influence de la gravure flamande sur l’art pictural arménien se traduit à la fois par un renouvellement des formes et par une évolution de certains contenus et signale que le rayonnement de la Nouvelle-Djoulfa en prolonge les effets tant en Arménie que dans d’autres communautés de la diaspora arménienne.
Enfin, en fournissant plusieurs exemples inédits témoignant de l’influence internationale de l’art flamand de cette époque – et tout particulièrement des œuvres de Maarten De Vos – par le truchement de la gravure, l’auteur ouvre des pistes de recherche tant en Perse que dans d’autres zones géographiques.
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Intégration d'actionneurs à base de polymères conducteurs électroniques pour des applications aux microsystèmesKhaldi, Alexandre 23 February 2012 (has links) (PDF)
L'objectif de ce travail est la réalisation de nouveaux microactionneurs à base depolymère conducteur électronique pouvant être envisagés pour une application denanodrone à ailes battantes.Deux réseaux interpénétrés de polymères (RIPs) POE/PTHF (poly(oxyded'éthylène)/polytétrahydrofurane) et POE/NBR (poly(oxyde d'éthylène/Nitrile Butadiene Rubber) ont été synthétisés et caractérisés. Par le contrôle de la synthèse de ces RIPs,une co-continuité de phase des deux réseaux partenaires a pu être obtenue. Ce travail a ainsi permis l'obtention de matériaux combinant les propriétés propres de chaque réseau, une bonne conductivité ionique (POE) et de bonnes propriétés mécaniques (PTHF et NBR). Les propriétés mécaniques du matériau ont permis de réaliser des matériaux polymères support d'électrolyte manipulables avec des épaisseurs inférieures à 10 μm.Des RIPs conducteurs ont pu être élaborés à partir de ces matériaux en incorporant le polymère conducteur électronique (poly(3,4-éthylènedioxythiophène) - PEDOT), par une dispersion non homogène à partir de la surface vers l'intérieur du film. Après incorporation d'un liquide ionique (le 1-éthyl-3-méthylimidazolium bis-(trifluorométhylsulfonyl)imide ou EMImTFSI), ces matériaux électroactifs ont été caractérisés et ont montré qu'ils pouvaient actionner à des fréquences élevées (100Hz) par rapport aux autres dispositifs de ce type.La mise en forme micrométrique de ces matériaux a ensuite été réalisée par un procédé propre aux microsystèmes. Les techniques de photolithographie et de gravure ionique réactive ont été adaptées et étudiées pour l'élaboration de ces microactionneurs. Un mécanisme de dégradation chimique du matériau a été proposé afin d'expliquer l'étape de gravure. Enfin, la caractérisation des microactionneurs a ensuite aussi été réalisée.La force développée par ces microactionneurs est de l'ordre du μN et le pourcentage de déformation est de 1,8 %.
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Étude fondamentale de la gravure physico-chimique de SiO₂ dans un plasma haute densitéQuintal-Léonard, Antoine January 2007 (has links)
Mémoire numérisé par la Division de la gestion de documents et des archives de l'Université de Montréal.
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