Com o objetivo de facilitar o deslizamento dos filmes nas linhas de envase de produtos, é necessária a produção de filmes com baixos valores de coeficiente de fricção (COF) e com isso aumentar a produtividade nas linhas de empacotamento automático. Para obtenção de níveis baixos de COF, adiciona-se às resinas, entre outros aditivos, agentes deslizantes. Os tipos mais utilizados são as amidas de ácidos graxos, que possuem baixa solubilidade nas resinas de polietileno e que, após a extrusão do filme, migram para a superfície promovendo uma redução do COF. No entanto, observa-se que, ao longo do tempo, o teor de deslizante sofre um decaimento. Neste trabalho, com o objetivo de identificar possíveis interações do agente deslizante com demais aditivos da formulação, foram produzidas quatro formulações diferentes, variando-se os aditivos utilizados em cada uma das amostras. Os aditivos incorporados e avaliados neste estudo foram agente deslizante, antioxidantes (primário e secundário), antibloqueante, auxiliar de fluxo e branqueador ótico, pois os mesmos constituem o pacote de aditivação utilizado para a aplicação do produto selecionado neste estudo. Utilizando as técnicas de cromatografia líquida, espectroscopia de infravermelho, cromatografia gasosa acoplada ao espectrômetro de massas, coeficiente de fricção e microscopia eletrônica de varredura, foi realizado um acompanhamento das amostras por um período de aproximadamente 90 dias, com o objetivo de identificar alguma diferença entre as formulações analisadas. Observa-se que ao longo do tempo (90 dias), existe a queda no teor de agente deslizante, de praticamente 20-30%, no entanto esse decaimento foi observado nas quatro amostras avaliadas, indicando que a migração da amida não está relacionada com os demais aditivos testados na formulação. Para complementar esta avaliação, um filme foi avaliado por microscopia de força atômica (AFM) para observar a migração do agente deslizante para a superfície, bem como avaliar como o tratamento corona influencia nesta migração. / In order to facilitate film slipping in packing lines it is necessary to manufacture films with low Coefficient of Friction (CoF) and therefore to increase the productivity in automatic packing lines. In order to obtain a low CoF, slip agents are added to the resin in conjunction with other additives. The most commonly slip agent used are the fatty acid amides, that have low solubility in polyethylene resins and that, after film extrusion, migrate to the film surface resulting in a CoF decrease. However, it is noted that, over the time, the slip agent content decays. In this study, in order to identify potential interactions between the slip agent and other additives used in the formulation, four different formulations were produced, varying the additives used in each sample. The additives incorporated and evaluated in this study were the slip agents, antioxidants (primary and secondary), antiblocking, and optical brightener because they constitute the additive package applicable to the product selected for this study. By the use of liquid chromatography, infrared spectroscopy, gas chromatography with mass spectrometry, coefficient of friction, and scanning electron microscopy, the samples were monitored for a period of approximately 90 days in order to identify any difference among the analyzed formulations. It is noted that over time (90 days), there is a decrease of about 20-30% in the slip agent content, however this decay was observed in all samples tested, indicating that the amide migration is not related to the other additives used in the formulation. Additionally, one film was analyzed by atomic force microscopy (AFM) in order to observe the slip agent migration to the film surface and also to evaluate the influence of corona treatment on this migration.

Orientador: Omar Teschke / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-28T23:37:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 CeottoFilho_Gino_D.pdf: 1626951 bytes, checksum: b7ed3ebcf46a2288f18eec3101056974 (MD5) Previous issue date: 2001 / Resumo: Quando imersas em água, muitas superfícies apresentam-se carregadas eletricamente. Por isso, durante o processo de geração de imagens por microscopia de força atômica em meio aquoso, forças de natureza repulsiva e atrativa entre o tip e a amostra são detectadas. Nas últimas décadas, as forças repulsivas têm sido atribuídas às interações eletrostáticas, enquanto as interações atrativas, às forças de van der Waals. Neste trabalho são descritos estudos de espectroscopia de força (curvas de força em função da distância) entre tips de microscópio de força atômica e substratos carregados eletricamente, imersos em meio líquido. Em função dos resultados obtidos, formulou-se um modelo denominado 'força de troca dielétrica¿ (FTD) que explica o comportamento das curvas na interface sólido/líquido, com base na hipótese de que a força que age sobre o tip, nessa região, decorre da troca de 'constantes dielétricas¿ (ou permissividades elétricas) entre o tip e o sistema líquido. Em água, o tip de nitreto de silício (Si3 N4), com permissividade elétrica eTip= 7,4, ao aproximar-se da interface carregada ¿ região denominada 'dupla camada elétrica¿, com permissividade elétrica eDC ¿ substitui uma parte da água equivalente ao seu volume. Essa troca responde pela repulsão observada longe da interface (iniciando a ~100 nm, camada difusa, onde eDC » 80), seguida por uma atração quando o tip imerge nas camadas mais internas (£10 nm). A presença de substrato carregado determina a reorientação dipolar das moléculas de água, a qual, por sua vez, vem ser a causa da baixa permissividade elétrica nas imediações da interface. Suportes para o modelo proposto foram obtidos pela imersão de tips metálicos (eTip » ¥) em água, quando um único componente atrativo foi observado, e pela imersão de tips de Si3N4 em formamida e DMSO, situação em que somente uma contribuição repulsiva foi detectada. O modelo recebeu confirmação adicional ao se observar que os tips de Si3N4 sofreram atração ao penetrarem nas bicamadas de uma substância surfatante (eS » 2 - 6). Comparado a uma teoria que vem sendo sistematicamente empregada para explicar as interações entre superfícies ¿ a teoria DLVO ¿ o modelo de FTD mostrou-se mais adequado aos resultados experimentais. Esse modelo foi empregado na identificação da intensidade da força a ser aplicada a amostras frágeis, em processos de geração de imagens por microscopia de força atômica, em meio líquido / Abstract: When immersed in water, several surfaces are electrically charged. Therefore, repulsive and attractive forces between the tip and the sample are detected during image generation by atomic force microscopy in aqueous medium. In the last decades repulsive forces have been attributed to electrostatic interactions, while attractive forces have been ascribed to van der Waals forces. In this research, force spectroscopy studies (force versus distance curves) are described between atomic force microscope tips and electrically charged mica immersed in aqueous medium. From the data obtained, a was formulated, model named 'dielectric exchange force¿ which explains the behavior of the curves in the solid/liquid interface based on the hypothesis that the force acting on the tip in this region arises from the 'dielectric constants¿ (or dielectric permittivities) exchanges between the tip and the liquid system. In water, when the silicon nitride (Si3N4) tip, with electrical permittivity eTip = 7.4, approaches the charged interface (region named 'electric double layer¿, with electric permittivity eDC), it replaces a portion of the water corresponding to its volume. This exchange accounts for the repulsion observed far from the interface (starting at ~100 nm, diffuse layer, where eDC» 80), followed by an attraction when the tip immerses in the inner layers (£ 10 nm). The presence of a charged mica determines dipolar orientation of the water molecules, which in turn is the source of the low electric permittivity in the interface neighborhood. Support for the model proposed was given by immersion of metallic coated tips (eTip » ¥) in water, when a single attractive component was observed, and by immersion of Si3N4tips in formamide and DMSO, where only a repulsive component was detected. The model was further confirmed by the observation that the Si3N4 tips underwent attraction when penetrating the bilayers of a surfactant substance (eS » 2 - 6). When compared to a theory that has been systematically used to explain interactions between surfaces ¿ DLVO theory ¿, the FTD model was more adequate to explain the experimental results. This model was used to identify the magnitude of the force to be applied to fragile samples, in images generation by atomic force microscopy in aqueous medium / Doutorado / Física / Doutor em Ciências

Orientador: Mauricio Urban Kleinke / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica "Gleb Wataghin" / Made available in DSpace on 2018-08-03T14:02:53Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Dotto_MartaElisaRosso_D.pdf: 3668298 bytes, checksum: 8001a0e2d3d72d367c43fbbae9ca759d (MD5) Previous issue date: 2003 / Resumo: A morfologia de superfícies de Si atacadas foi investigada por microscopia de força atômica (AFM). As amostras foram atacadas em distintas condições experimentais por uma solução de NaOH. Comportamentos lineares foram observados em gráficos log-log das flutuações das alturas ( D h) versus variações do comprimento ( D l), onde o expoente de rugosidade ( a ) é obtido da inclinação da curva. O expoente de crescimento (b) foi obtido a partir da relação de escala D hsat ~ t b, onde D hsat é o valor de saturação de D h. Para as superfícies de Si(111), foi observado e caracterizado um comportamento de escala com dois valores distintos para a. O valor de a local foi associado aos processos difusionais locais de crescimento dos platôs (aloc ~ 0.85). Refletindo uma taxa de crescimento direcional, o a global foi próximo de 0.4, sendo este um valor típico para o modelo de KPZ. Características de percolação foram observadas nas superfícies de Si(100) nos estágios inicias de ataque. Os valores de aumentaram com o tempo de ataque e com as restrições experimentais, de 0.5 a 0.9, e o comportamento funcional de a em relação à potência do ataque concorda com o modelo de uma frente de invasão de um fluido em um meio poroso, o modelo de KLT. Amostras de Si(100) com diferentes dopagens foram atacadas por uma solução de NaOH em banho de ultra-som. Foram observadas relações de escalas com os expoentes a e b e um comportamento de escala de D hsat com a dopagem das amostras. Obteve-se uma excelente correlação entre os sistemas experimentais e os modelos teóricos, ampliando assim o conceito de universalidade nos fenômenos associados à formação de superfícies / Abstract: Morphology of etched Si surface has been investigated by atomic force microscope (AFM). Samples were etched by NaOH solution in distinct experimental condictions. Linear relationships were observed in log-log plots of height fluctuation ( D h ) versus length variation ( D l ), where the roughness exponent ( a ) is obtained from the slope. Growth exponent (b) was obtained from the D h sat ~ t b scaling relation, where D h sat is the D h saturation value. For Si(111) surfaces, a scaling behavior was observed and characterized by two distinct values of a . The local value of a was associated to the local diffusion process of plateaus growth (a loc ~ 0.85), and the global a (related to long-range surface correlations) was close to 0.4. This is typical value for the KPZ model reflecting the highest growth rates on surfaces with higher slopes. Percolation signals were observed at Si(100) surfaces at the initial stages of etching. a values increases with etching time and with the experimental constraints, from 0.5 to 0.9, and the functional behavior with respect to the etching power agree to the fluid front invasion in a porous medium model, the KLT model. Si(100) samples with diferent doping were attacked by NaOH solution in ultrasonic bath. Were observed scaling relation with a and b exponents, and a scaling behavior of Dhsat with the samples¿ doping. We obtained excellent agreement between our experimental results and the theoretical models, contributing in this way to the universality concepts associated to the surface formation / Doutorado / Física / Doutora em Ciências

Orientador: Simonides Consani / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Odontologia de Piracicaba / Made available in DSpace on 2018-08-03T18:18:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Santos_PauloHenriquedos_D.pdf: 3793254 bytes, checksum: 6011c2ab4379291315d38e0287f59ace (MD5) Previous issue date: 2003 / Doutorado

Made available in DSpace on 2014-06-12T18:00:43Z (GMT). No. of bitstreams: 2 arquivo2348_1.pdf: 7539865 bytes, checksum: 1b54123a279172217fa5e04c621a724d (MD5) license.txt: 1748 bytes, checksum: 8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33 (MD5) Previous issue date: 2009 / Faculdade de Amparo à Ciência e Tecnologia do Estado de Pernambuco / Nesta tese foram desenvolvidas duas técnicas de litografia do tipo bottom-up usando o Microscópio de Força Atômica (MFA). Foram fabricadas estruturas magnéticas mesoscópicas com várias geometrias. As estruturas básicas foram nanofios metálicos magnéticos com espessuras a partir de 3.5 nm, larguras a partir de 300 nm e comprimentos a partir de 10 μm. Foram detalhadamente desenvolvidas duas técnicas de nanofabricação: nanofabricação mecânica e nanofabricação por oxidação anódica local. Foram estudados processos de reversão da magnetização em geometrias confinadas utilizando técnicas de transporte elétrico. Foram desenvolvidos modelos analíticos que interpretam satisfatoriamente os processos de magnetização nas estruturas fabricadas. Na primeira técnica de fabricação o padrão de interesse é transferido mecanicamente utilizando a sonda de MFA para remover o polímero polimetil metacrilato (PMMA) apenas na região desejada, até expor o substrato de Si(001). Em seguida o material de interesse é depositado pela técnica de sputtering sobre toda a superfície da amostra cobrindo tanto o PMMA restante como o padrão desenhado, deixando o material depositado na área litografada em contacto com o substrato. Na segunda técnica desenvolvida fabrica-se uma máscara de óxido de germânio (GeO2) sobre a superfície de PMMA. O padrão de GeO2 é fabricado pela técnica de Oxidação Anódica Local onde a sonda de MFA é usada como eletrodo para realizar a oxidação numa atmosfera com humidade controlada. O processo é composto das seguintes etapas: (i) deposição da camada de PMMA de 90 nm de espessura por spin coating sobre o substrato de Si (001), onde foi previamente depositada uma camada de SiO2; (ii) tratamento térmico do filme de polímero para evaporação dos solventes; (iii) deposição por sputtering do filme de Ge de espessura de 7 nm sobre a superfície de PMMA; (iv) processo de oxidação por anodização local da superfície de Ge utilizando a sonda de MFA (nesta etapa é fabricado o padrão desejado de GeO2); (v) remoção do GeO2 utilizando simplesmente água, deixando a superfície de PMMA exposta apenas na região litografada; (vi) remoção do PMMA apenas na região litografada utilizando-se ataque por plasma de O2 (dry etching); (vii) deposição por sputtering do material de interesse (metal magnético) sobre a máscara; (viii) remoção do material indesejado através de banho de acetona finalmente deixando a nanoestrutura desejada sobre o substrato. Um estudo detalhado de todo o processo mostrou a importância do controle completo de todos os parâmetros ii envolvidos para garantir a reprodutibilidade das estruturas fabricadas. Investigamos o processo de Oxidação Anódica Local do filme de Ge em função do tipo da tensão aplicada (dc ou pulsada) e verificamos que o processo de crescimento do óxido passa por dois regimes: crescimento vertical e crescimento lateral. A dependência da dimensão do óxido de Ge com a forma de onda e com o valor da tensão aplicada foi interpretado com base em um modelo desenvolvido por Cabrera-Mott. Tendo dominado todo o processo de nanofabricação descrito acima foi possível fabricar estruturas planares metálicas magnéticas. Foram fabricados nanofios de diferentes geometrias e diferentes metais magnéticos. Utilizamos técnicas de transporte elétrico dc para investigar os processos de reversão da magnetização em nanofios com seção transversal retangular, que neste caso possuem uma forte anisotropia uniaxial originada pelo confinamento. A técnica de magnetoresistência se mostrou muito sensível para identificar claramente o campo magnético de reversão da magnetização em função do campo aplicado e do ângulo entre o campo e o eixo do fio. Foi mostrada que a dependência angular do campo de reversão da magnetização nestas estruturas confinadas é uma assinatura do modo de instabilidade da magnetização que ocorre imediatamente antes da reversão. Mostramos que a reversão da magnetização nos nanofios de Permalloy (Ni81Fe19) de seção retangular ocorre pelo processo de Buckling. Usamos um modelo analítico baseado na teoria do princípio variacional, proposta por Brown, que calcula o campo de nucleação e que interpreta de forma correta a dependência angular do campo de reversão da magnetização. Também foram investigadas propriedades de fios mesoscópicos depositados sobre substratos mais exóticos como granadas monocristalinas de ítrio e ferro dopadas com bismuto

O Microscópio de Força Atômica foi usado para investigar interações de força de adesão na nano-escala entre superfícies sólidas, através de medidas de curvas de força em dois ambientes: em ar e em água. As medidas de curva de força adquiridas em ar quantificaram as forças de adesão devido a componente capilar, que surge da camada de água adsorvida na superfície da amostra. Os valores médios da força de adesão para o quartzo, silício e mica foram de: 20 nN; 23 nN e 32 nN, respectivamente. As medidas realizadas em água detectaram a força de adesão devido somente as forças de van der Waals, na ausência de cargas eletrostáticas, apresentando os seguintes resultados: 6nN, 6nN e lnN, para as amostra de quartzo, silício e mica, respectivamente. Esta análise revelou para os materiais utilizados nesse trabalho, que na nanoescala, são as condições ambientais, e não as propriedades do material que desempenha um papel mais importante nas interações adesivas entre sólidos. A caracterização da força de adesão em sólidos foi obtida através de 20 medidas realizadas no mesmo ponto, em 5 pontos distintos na mesma região e em 3 regiões distintas da amostra. Isto possibilitou investigar a variabilidade das forças de adesão na superfície em estudo, mostrando que a nano-adesão varia com a topografia e com as condições físicas locais. Mapas de adesão foram utilizados para caracterizar a heterogeneidade de superfícies atomicamente planas (mica) e superfícies rugosas (quartzo) / The atomic force microscopy was used to investigate adhesion force interactions at the nanoscale leveI between solid surfaces through force curve measurements in air and water. Curve force measurements acquired in air quantified the adhesion forces due to the capillary effect coming from the adsorbed liquid layer on to the sample surface. The average values of adhesion force to quartz, silicon and mica were 20 nN, 23nN and 32 nN, respectively. The measurements in water detected only the adhesion force due to van de Waals forces, presenting the following values: 6nN (quartz); 6nN (silicon); and InN (mica).This investigation revealed that at the nanoscale the ambient condition, and not the material properties, pave the role in the adhesive interaction between solid surfaces in the materials investigated. The characterization of adhesion force in solids was obtained throughout 20 measurements at the same point, made in 5 distinct points of the same region, and in 3 different regions of the samples. With that it was possible to explore the variability of the adhesion forces on the surface, showing that a nano-adhesion varies with both the topography and the local physical conaitions of the substrates. Adhesion maps were used to characterize the heterogeneity of atomically planar surfaces (mica) and rough surfaces (quartz)

Orientadores: Mônica Alonso Cotta, Peter Alexander Bleinroth Schulz / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Física Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-09-02T17:54:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Vicaro_KlausOrian_D.pdf: 6412839 bytes, checksum: d994f5b0a67263a799df2b77a074f96b (MD5) Previous issue date: 2008 / Resumo: Neste trabalho caracterizamos as propriedades elétricas de nanoestruturas semicondutoras de InAs/InP, principalmente quantum dots e quantum wires, obtidas pelo modo de crescimento Stranski-Krastanov com epitaxia por feixe químico (CBE). Medidas de topografia, de condutância elétrica e corrente-voltagem com resolução espacial foram realizadas nas estruturas crescidas utilizando microscopia de força atômica em modo condutivo (C-AFM) com ponta metalizada. Estruturas tipo mesa foram processadas nas amostras usadas em C-AFM e medidas elétricas a temperaturas mais baixas que 273 K foram adquiridas. Transporte por emissão termiônica tridimensional (não-homogêneo) foi observado entre a ponta condutora e as nanoestruturas de InAs. Isso sugere que as vizinhanças da nanoestrutura, formada pela wetting layer (WL), alteram a configuração da altura da barreira, tornando-a dependente da voltagem aplicada na junção metal-semicondutor. Por outro lado, a voltagem de limiar, definida como a voltagem necessária para obter a menor corrente elétrica detetável, varia com o tamanho e forma da nanoestrutura; ela está relacionada com o estado eletrônico da nanoestrutura e também com o gap eletrônico do semicondutor, que é menor nas nanoestruturas maiores. Condução elétrica por hopping e ruído telegráfico aleatório (RTN) foram observados a baixas temperaturas nos dispositivos fabricados via e-beam com dezenas ou centenas de nanoestruturas de InAs/InP. O transporte tipo hopping de Éfros-Shklovskii ocorre a temperaturas mais altas (> 70 K) e polarizações baixas onde a densidade de portadores no dispositivo é baixa e a interação coulombiana forte. Com o aumento da polarização o hopping muda para intervalo variável de Mott em sistemas 2D, e correlacionado com a dimensionalidade da WL ¿o canal de condução. O RTN aparece em temperaturas mais baixas (< 40 K) mas somente nos dispositivos contendo nanoestruturas que permitem o aprisionamento de portadores. Simulações numéricas usando um modelo heurístico mostraram que poucas nanoestruturas podem alterar o transporte elétrico num ensemble com centenas delas / Abstract: In this work we characterized the electrical properties of InAs/InP semiconductor nanostructures, mainly quantum dots e quantum wires, obtained by Stranski-Krastanov growth mode using chemical beam epitaxy (CBE). Topography, electrical conductance, and current-voltage measurements with spatial resolution were performed on the grown structures using atomic force microscopy in conductive mode (C-AFM) with metalized tip. Mesa-like structures were processed on the samples used in C-AFM; electrical measurements at temperatures lower than 273 K were then acquired. Three-dimensional thermionic emission (non-homogeneous) transport was observed between the conductive tip and the InAs nanostructures. This suggests that the nanostructure neighborhood, formed by the wetting layer (WL), changes the barrier height configuration and makes it dependent on the voltage applied to the metal-semiconductor junction. On the other hand, the threshold voltage, defined as the voltage necessary to detect the lowest current level, varies with nanostructure size and shape; it is related to the nanostructure electronic state and also to the semiconductor electronic gap that is smaller for the larger nanostructures. Electrical conductance via hopping and random telegraphic noise (RTN) were observed at low temperatures on the devices fabricated via e-beam with dozens or hundreds of InAs/InP nanostructures. The Éfros-Shklovskii hopping transport occurs at higher temperatures (> 70 K) and low polarizations where the device carrier density is low and the coulombian interaction is strong. Increasing the polarization the hopping changes to the Mott variable range on 2D system, which correlates to the WL dimensionality ¿the conduction channel. The RTN appears in low temperatures (< 40 K) but only in those devices with nanostructures that allow carrier trapping. Numerical simulations using a heuristic model showed that few nanostructures can change the electrical transport in an ensemble with hundreds of them / Doutorado / Física / Doutor em Ciências / 01/13463-1 / FAPESP

A proposta deste trabalho foi relacionar as características morfológicas com as respostas magnéticas, resistivas e magnetorresitivas de três amostras compostas de filmes de ferro (com espessuras de 60, 120 e 245 Å) depositados, por desbaste iônico magnético, sobre silício vicinal com direção cristalográfica de corte 111. A caracterização morfológica foi realizada por Microscopia de Força Atômica (AFM) e mostra que até uma determinada espessura o filme fino de ferro cresce de forma a acompanhar a estrutura de degraus do substrato. Curvas de histerese foram obtidas apresentando uma clara anisotropia uniaxial planar que se apresenta maior na amostra de 60 Å. Medidas de resistividade elétrica mostraram que, resistivamente, as amostras são anisotrópicas (com exceção da mais espessa) apresentando menor resistividade nas direções paralelas aos degraus. Medidas de magnetorresistência pelo método padrão de quatro pontas, na amostra de 60 Å, apresentaram valores expressivos na direção paralela aos degraus, que podem ser explicados a partir de modelos já existentes para magnetorresistência anisotrópica (AMR) em amostras policristalinas. Valores expressivos da magnetorresistência foram encontrados para a amostra de 120 Å para configurações em perpendicular (método de van der Paw, onde a corrente flui na direção paralela aos degraus e a voltagem é medida perpendicularmente a eles), que podem ser explicados através do efeito Hall planar (PHE), hoje em dia bastante estudado devido a sua importância na indústria da micro e da nanoeletrônica. / In this work, the relationship between the morphological and the magnetic, resistive and magnetoresistive characteristics of three nanostructured samples was studied. These samples were constituted of nanotexturized iron thin films (60, 120 and 245 Å of thickness), deposited by Magnetron Sputtering on vicinal silicon (plane of cut in the111direction) composed of patterned plane steps. Morphological characterization was performed by Atomic Force Microscopy (AFM) which shows that up to a certain thickness the iron film grows following the structure of the substrate steps. Hysteresis curves were obtained showing a clear plane uniaxial anisotropy which is higher in the 60 Å sample. Electrical resistivity measurements showed that samples respond anisotropically (except in the thicker one), and present lower resistivity in the direction parallel to the steps. Measurements of magnetoresistance (using the four probes method) in the 60 Å sample showed significant values in the direction parallel to the steps and that can be explained based on existing models for anisotropic magnetoresistance (AMR) in polycrystalline samples. Significant magnetoresistance values were found in the 120 Å sample, in a configuration where the current flows in the direction parallel to the steps using the van der Paw method. These results can be explained by planar Hall effect (PHE) which, nowadays, is widely studied because of its importance in micro and nanoelectronics industry.

ALENCAR, Luciana Magalhães Rebêlo. Estudo morfológico e das propriedades elát¡cas de plaquetas humanas por microscopia de força atômica. 2007. 134 f. Dissertação (Mestrado em Física) - Programa de Pós-Graduação em Física, Departamento de Física, Centro de Ciências, Universidade Federal do Ceará, Fortaleza, 2007. / Submitted by Edvander Pires (edvanderpires@gmail.com) on 2015-05-22T18:34:21Z No. of bitstreams: 1 2007_dis_lmralencar.pdf: 17960278 bytes, checksum: bd4d446f139d76d9eefba3eac3e2a62d (MD5) / Approved for entry into archive by Edvander Pires(edvanderpires@gmail.com) on 2015-05-22T18:41:43Z (GMT) No. of bitstreams: 1 2007_dis_lmralencar.pdf: 17960278 bytes, checksum: bd4d446f139d76d9eefba3eac3e2a62d (MD5) / Made available in DSpace on 2015-05-22T18:41:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1 2007_dis_lmralencar.pdf: 17960278 bytes, checksum: bd4d446f139d76d9eefba3eac3e2a62d (MD5) Previous issue date: 2007 / As plaquetas são um grupo de células que têm participação fundamental nos processos hemostáticos. Durantes estes eventos, tais células passam por uma drástica transformação de sua estrutura, o que inclui alteração de forma, saindo de um perfil discóide para um completamente amorfo. Conseqüentemente, este fenômeno de reestruturação da arquitetura celular está intimamente ligado a um rearranjo do citoesqueleto plaquetário, estrutura localizada abaixo da membrana celular responsável pela forma, estabilidade, maleabilidade, dentre outras características mecânicas e fisiológicas da membrana plasmática. Neste contexto, a investigação das características elásticas de plaquetas ativadas, como são denominadas ao iniciar o processo acima citado, apresenta-se como uma alternativa viável ao aprofundamento no conhecimento da função plaquetária no organismo. Para tanto, a microscopia de força atômica (AFM), surge como uma técnica de grande utilidade a este tipo de investigação. Capaz de tocar a superfície celular com forças da ordem de piconewtons, o microscópio de força atômica pode ser utilizado como um nanoindentador, ou seja, de posse da geometria da sonda e da constante de mola do cantilever empregado, grandezas como elasticidade e viscosidade da amostra podem ser determinadas. Neste trabalho, duas subtécnicas de AFM foram empregadas no estudo de plaquetas humanas sadias ativadas, tais foram: Force Plot e Force Volume. A primeira fornece um gráfico chamado de curva de força, obtida com uma única indentação na superfície celular. Já a segunda reúne todas estas curvas numa imagem conhecida como imagem de volume de força. Tais ferramentas provêem informações que, trabalhadas com um modelo matemático adequado, no nosso caso o modelo de Hertz, tornam possíveis a determinação, não apenas pontual, mas em todo o corpo da célula, das propriedades mecânicas plaquetárias.

Submitted by Elizabete Silva (elizabete.silva@ufes.br) on 2015-10-13T20:15:06Z No. of bitstreams: 2 license_rdf: 23148 bytes, checksum: 9da0b6dfac957114c6a7714714b86306 (MD5) Estudo da corrosão naftênica por espectrometria de massas.pdf: 10701056 bytes, checksum: 7912e39576c3f3d1c9b91b6618a7c1b5 (MD5) / Approved for entry into archive by Patricia Barros (patricia.barros@ufes.br) on 2015-11-17T11:00:49Z (GMT) No. of bitstreams: 2 license_rdf: 23148 bytes, checksum: 9da0b6dfac957114c6a7714714b86306 (MD5) Estudo da corrosão naftênica por espectrometria de massas.pdf: 10701056 bytes, checksum: 7912e39576c3f3d1c9b91b6618a7c1b5 (MD5) / Made available in DSpace on 2015-11-17T11:00:49Z (GMT). No. of bitstreams: 2 license_rdf: 23148 bytes, checksum: 9da0b6dfac957114c6a7714714b86306 (MD5) Estudo da corrosão naftênica por espectrometria de massas.pdf: 10701056 bytes, checksum: 7912e39576c3f3d1c9b91b6618a7c1b5 (MD5) Previous issue date: 2014 / Capes / Os ácidos naftênicos são considerados os principais responsáveis pela corrosão no processo de refino do petróleo, e se não for devidamente monitorada, a corrosão naftênica pode causar graves prejuízos para a indústria petroquímica. No primeiro capítulo deste trabalho duas amostras de petróleo, tratadas a 300°C/2h e 350°C/6h, foram postas em contato com aço carbono AISI 1020 durante 15 dias. A acidez do óleo original e dos produtos oriundos do tratamento térmico foi monitorada por número de acidez total (NAT), espectrometria de massas de altíssima resolução e exatidão (ESI(-)- FT-ICR) e a corrosão no aço foi monitorada por microsospia de força atômica (AFM). Os dados de ESI(-)-FT-ICR MS mostraram que na classe O2, as principais espécies majoritárias detectadas foram de número de carbono C25-C32 e DBE = 3. Para o tratamento a 350ºC/6h, observou-se uma redução de ~ 80% no NAT. Os resultados obtidos por AFM mostraram que a topografia da superfície do aço exposto ao óleo tratado a 300°C/2h possui efeitos mais pronunciados de corrosão, pois, o padrão de rugosidade medido pela "altura de pico a pico" da superfície, indicou que a superfície exposta ao óleo 300°C/2h, embora apresente uma série de irregularidades é menos pronunciada, que a superfície do aço exposto ao óleo tratado a 350°C/6h. No segundo capítulo, dois petróleos com acidez distinta, J e G, foram caracterizados por ESI (-) - FT-ICR MS. O aço AISI 316 foi analisado por microscopia ótica, microscopia de força atômica e por espectroscopia Raman. Os resultados mostraram que as principais classes identificadas nas amostras foram as classes O2 e N2. Em relação à classe O2, as principais espécies majoritárias detectadas foram de número de carbono C24-C35 e DBE= 3 e C29-C35 e DBE= 4. As imagens de AFM revelaram que para o intervalo de 14 dias, o aço exposto ao óleo J, apresentou fortes alterações topográficas em relação ao branco,caracterizando o início do processo corrosivo. Essas informações são compatíveis com os espectros de Raman, em que para este intervalo de tempo foram evidenciados a formação de Goetita, Magnetita e Hematita. As alterações topográficas para o aço exposto ao petróleo G, só puderam ser observadas após 21 dias de análise por AFM. No terceiro capítulo, uma amostra de petróleo foi tratada termicamente, na presença e ausência de catalisador, a 300 e 350 ºC pelo período de 2, 4 e 6 horas. A acidez do petróleo original e dos produtos oriundos do tratamento térmico com catalisador foi determinada pelo NAT. A variação do conteúdo de polares nas amostras, em especial a classe O2, foi monitorada por ESI (-)-FT-ICR MS. De uma maneira geral, as principais classes identificadas para ambas às amostras foram O2, N e NO2, respectivamente. Em relação à classe O2 correspondente aos ácidos naftênicos, as principais espécies majoritárias foram de C25-C32 e DBE = 4. Observou-se uma redução de 43,50% no petróleo degradado á 350°C durante 4h na presença do catalisador evidenciando assim a eficiência da remoção dos ácidos naftênicos nas condições avaliadas. / Naphthenic acids are considered primarily responsible for corrosion in the oil refining process, and if not properly monitored, the naphthenic corrosion can cause severe damage to the petrochemical industry. In the first chapter of this work, two oil samples treated at 300°C/2h 350°C/6h, were brought in contact with carbon steel AISI 1020 for 15 days. The acidity of the original and products from oil heat treatment was monitored by TAN ESI (-) - FT-ICR-MS and corrosion on steel was monitored by AFM. The ESI (-) - FT-ICR MS showed that the O2 class, the major species detected were majority carbon number of C25-C32 and DBE = 3. For treatment at 350°C/6h, there was a reduction of ~ 80% in the TAN. The results showed that AFM topography of the steel surface exposed to the oil treated at 300°C/2h has higher effects of corrosion, since the pattern of roughness measured by "peak to peak height" of the surface, indicated that the surface exposed to the oil 300°C/ 2h, although it presents a number of irregularities is less pronounced, the surface exposed to the oil-treated steel at 350°C/6h. In the second chapter, two oils with different J and G acidity were characterized by ESI (-) - FT-ICR MS. The AISI 316 steel was analyzed by optical microscopy, atomic force microscopy and Raman spectroscopy. The results showed that the major classes were identified in the samples classes O2 and N2. Regarding O2 class, the major species detected were majority of carbon number C24 and C35 = 3 DBE and DBE and C29-C35 = 4. The AFM images showed that the interval for 14 days, the steel exposed to oil J, showed strong topographic changes from white, characterizing the onset of the corrosion process. This information is consistent with the Raman spectra that for this period of time the formation of goethite, hematite and magnetite were evidenced. Topographical changes to the exposed steel to oil G could only be observed after 21 days of analysis by AFM. The third chapter, a sample oil was thermally treated in the presence and absence of catalyst at 300 and 350 ° C for a period of 2, 4 and 6 hours. The acidity of the original oil and products derived from thermally treated catalyst was determined by TAN. The variation in the content of polar samples, particularly class O2 was monitored by ESI (-) - FT-ICR MS. Generally, the major classes identified for both samples were N, NO2, and O2, respectively. Regarding O2 class corresponding to naphthenic acids, the major species were majority of C25-C32 and DBE = 3. There was a 43.50% reduction in the degraded oil at 350°C for 4h in the presence of the catalyst thus demonstrating the efficiency of removal of naphthenic acids under the conditions evaluated.