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Avaliação de revestimentos organicos atraves da tecnica de impedancia eletroquimicaDomingues, Sylvia Regina 07 October 1994 (has links)
Orientador: Celia Marina de Alvarenga Freire / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica / Made available in DSpace on 2018-07-20T11:20:46Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1994 / Resumo: A Técnica de lmpedância Eletroquímica tem sido considerada uma poderosa ferramenta na avaliação de diversos materiais. Neste trabalho foram analisados 4 Sistemas de Pintura usados como revestimentos contra a corrosão: Epoxi / PU, Acrílico / Água, Epoxi / AI e o tradicional Alquímico. Estes Sistemas foram envelhecidos em câmara climática, na forma de filmes livres, durante 600 horas divididas em 5 ciclos iguais. Os resultados mostraram que não houve mudanças significativas quanto à capacidade de proteção dos revestimentos nesse período e que a Técnica de lmpedância é bastante adequada e sensível para avaliação desse tipo de material. Foram utilizadas as Técnicas de Espectroscopia de lnfravermelho e de Reflectância como técnicas auxiliares / Abstract: Electrochemical lmpedance Technique has been considered as a powerful tooI in evaIuation of severaI materiaIs. There were anaIysed, in this work, 4 Paint Systems used as coatings against corrosion process: Epoxy / PU, Waterborne Acrylic , Epoxy / AI and the traditional Alquidic System. These Systems were aged into a climatic chamber, as free films, during 600 hours divided in 5 equal cycles. Results showed that no significative changes concerning protective capacity of the coatings was detected and lmpedance Technique is suitable and sensitive enough to evaluate this kind of material. lt was also used lnfrared and Reflectance Spectroscopy as auxiliar tecniques / Mestrado / Mestre em Engenharia Mecânica
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Espectroscopia de luminescencia resolvida no tempo : implementação da tecnica e aplicaçõesNovo, João Batista Marques, 1991- 15 July 2018 (has links)
Orientadores : Francisco B. T. Pessine, Oswaldo L. Alves / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Quimica / Made available in DSpace on 2018-07-15T22:46:44Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1992 / Doutorado
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Estudo do espalhamento Raman por polariton El(TO) em ZnOFreitas Junior, Jaime de Andrade 15 July 1977 (has links)
Orientador: Rogerio Cesar de Cerqueira Leite / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-16T02:34:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1977 / Resumo: No presente trabalho apresentamos pela primeira vez a observção de espalhamento Raman por polaritons do ramo superior em um semi condutor. A redução significante no ângulo sólido de coleção e o fator preponderante na permissão desta observação. Nestas condições experimentais medimos a largura de linha intrinseca e a intensidade de espalhamento Raman do polariton do modo El ( TO ) em ZnO, às temperaturas ambiente e do nitrogênio líquido, com as linhas 5145 Å e 4880 Å do laser de argônio. O comportamento da intensidade como função da frequência está de acordo com as previsões das teorias existentes. As medidas de largura de linha, extendidas a regiões nunca observadas anteriormente, mostram uma extraordinária anomalia à frequências mais baixas, indicando uma notável redução no tempo de vida nas proximidades de 180 cm-l. Isto é responsável pela emissão de fonons acústicos de grandes comprimentos de onda / Abstract: The first observation of Raman scattering from the upper branch polariton in a semiconductor is reported. The significant reduction in the collection solid angle is the main cause that allows for this observation. In this experimental conditions we have measured the intrinsic linewidth and the Raman scattering intensities of the lower branch E1( TO ) polariton mode in ZnO, at room and liquid nitrogen temperatures, with 5145 Å and 4880 Å argon laser lines. Intensity as a function of frequency shows a behaviour predicted by current theories. Measurements of linewidth extend to polariton frequencies never attained beforet showing a remarkable anomaly at lower frequencies indicating a striking lifetime reduction near 180 cm-1. This is accountable by emission of large wavevector acoustic phonons / Doutorado / Física / Doutor em Ciências
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Espalhamento magneto-Raman ressonante em semicondutor polarSampaio, Antonio Jose da Costa 15 July 1977 (has links)
Orientador: Roberto Luzzi / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-16T05:44:39Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1977 / Resumo: Neste trabalho discutimos o espalhamento Raman pelo sistema eletron-fónon LO na presença de um campo magnético constante no qual são os fonons os responsáveis diretos pelo processo. Estudamos um material semicondutor tipo n com pequena massa efetiva para campos tais que a frequência de ciclotron ( wc ) é aproximadamente igual a frequência da radiação incidente ( wl ) e daquela espalhada ( ws ). Para isso desenvolvemos um tratamento teórico onde, através de um. formalismo de matriz S e técnicas de propagadores no espaço dos momentos determinamos a Intensidade Integrada de espalhamento e a vida média dos estados eletrônicos.
Completamos o trabalho com uma aplicação ao caso Específico do InSb onde discutimos uma série de pontos interessantes. Não são incluídos efeitos de temperatura / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Espectroscopia fotoacústica em gases na região dos 10umPereira, Daniel, 1955- 23 July 1981 (has links)
Orientador: Artemio Scalabrin / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-16T03:53:43Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1981 / Resumo: Apesar de há um século o efeito fotoacústico ser conhecido, o interesse por ele está sempre se renovando, e aumentando seu campo de utilização. Partindo dessa idéia, decidimos no capítulo I, apresentar um breve histórico e o desenvolvimento teórico com dedução de algumas fórmulas básicas desde a absorção de luz pelo gás até a detecção do sinal acústico gerado, e u número razoável de referências que; sem nos iludirmos com a perspectiva de uma análise completa ser feita; cremos possa ajudar pesquisadores que queiram iniciar estudos nesta área.
No capítulo II apresentamos dados característicos dos sistemas fotoacústicos utilizados por nós, e a discussão e sugestão de formas de se fazer a maximização da razão sinal/ruído, (S/N), sendo apresentada uma configuração que elimina o sinal fotoacústico espúrio proveniente da absorção de luz do feixe incidente pelas janelas da cela, que já há muito era o fator limitante na sensibilidade de sistemas fotoacústicos gasosos.
No capítulo III mostramos a viabilidade desses sistemas serem utilizados como monitores de poluentes atmosféricos, através de dados espectroscópicos obtidos. Apresentamos também o espectro fotoacústico de absorção do CH3OH, CH3CH2OH, CH3CH2OH + N2, CH3CH2OH + H2O, CF4 e SF6. Medidas do tempo de relaxação molecular do nível n3 do SF6 também são realizadas / Abstract: Although the photoacoustic effect has been known for a century, its interest keeps on renewing and increasing the range of its applications. Starting from this point we decided to present in chapter I a brief historical introduction together with a theoretical explanation containing the deduction of some of the basic equations, beginning with the absorption of light by the gas and mp to the generation of the-acoustic signal. We also list a reasonable number of references which can be of help to researchers who are beginning to work in this field.
In Chapter II we present the characteristics of the photoacoustic systems we built, with a discussion and suggestions on methods to maximize the signal to noise ratio. We present a configuration which eliminates the spurious photoacoustic signal generated by the absorption of light by the cell windows, which has been for a long time the limiting factor in the sensitivity of gaseous photoacoustic systems.
In chapter III we show the possibility of utilization of such systems as atmospheric pollutants monitors, with a collection of spectroscopic data obtained. We also present the photoacoustic spectra of CH3OH, CH3CH2OH, CH3CH2OH + N2, CH3CH2OH + H2O, CF4 and SF6. Relaxation time measurements of the n3 level of SF6 were also realized. / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Construção e diagnóstico de um maçarico de plasma para corteVicente, Luiz Carlos 16 April 1985 (has links)
Orientador: Aruy Marotta / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-17T12:44:53Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1985 / Resumo: Foi construído um maçarico de plasma para corte e uma fonte de potência, onde realizamos corte de chapas inox de até 16,0 mm de espessura, com velocidade de corte de 0,5 m/min e potência relativamente baixa (~ 8 KW), usando somente argônio como gás de trabalho.
Foram feitos estudos qualitativos sobre a entrada do gás em vórtice, pressão dinâmica e também dos diversos problemas encontrados no maçarico de plasma construído, como por exemplo, arco duplo, instabilidade da coluna, etc. Foi estimada a temperatura central da coluna de plasma (T0 ~ 11,4x103 K), usando parâmetros de corte.
Fizemos um estudo do comportamento da coluna de plasma, quando esta é confinada por um canal refrigerado, usando a equação de Elenbaas-Heller.
A distribuição radial da temperatura na coluna de plasma foi determinada usando espectroscopia. Para isso, construímos um sistema óptico espectral de alta resolução espacial (da ordem de 37,5 mm) e um anodo rotatório. Sendo a coluna não homogênea, foi necessário utilizar a Transformada de Abel para inverter a intensidade lateral medida experimentalmente, para a intensidade radial das linhas espectrais observadas.
A temperatura foi determinada pela razão de intensidades relativas das linhas 4300 Þ e 4259 Þ do átomo de argônio, supondo que o plasma se encontra em equilíbrio termodinâmico local. A temperatura central obtida foi de 6x103 K. Essa temperatura, que é quase a metade da estimada acima se deve a que a potência elétrica empregada aqui foi aproximadamente a metade da empregada no corte / Abstract: A plasma-torch for cutting metals and a power supply have been built and are working reliably. The plasma-torch is cutting 16 mm thickness stainless steel with a velocity of 0.5 m/min, using electrical power of 8 KW and argon as working gas. During this work we identified and solved problems like double arc, low dynamic pressure and instabilities which prevented the plasma-torch of working well.
We performed calculations using a simple model described by the Elenbaas-Heller equations which showed some of the important qualitative features of the plasma-torch.
In order to make spectroscopic measurements a rotatory anode was projected and build. Using this anode, the plasma torch and an optical set-up with a spatial resolution of 37.5 mm we measured the temperature profile of the argon plasma jet. For this purpose we assumed L.T.E. and optically thin plasma conditions and the temperature was found through the relative intensities of argon lines. The center temperature was 6,000 K / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Determinação de impurezas em silicio por espectroscopia de absorção atomicaBraga, Adriana Franco Bueno 19 February 1993 (has links)
Orientador: Roberto de Toledo Assumpção / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica / Made available in DSpace on 2018-07-18T05:29:08Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1993 / Resumo: o Brasil possui uma posição de destaque como segundo maior produtor mundial de silício. Este material tem emprego em setores industriais variados, como, o metalúrgico (na produção de ligas de aço e de aluminio), a produção de organosilanos e uma pequena fração representada pela indústria microeletrônica. Este último segmento, apesar de ser o menor, apresenta um caráter importante, devido ao crescimento tecnológico nesta àrea na última década e do, conseqüente, capital envolvido. A eficiência de um dispositivo, produzido pela indústria microletrônica, està associada à concentração de impurezas. Dessa forma o controle da presença de elementos quimicos em concentrações definidas é muito importante. O trabalho propõe a técnica de Espectroscopia de Absorção Atômica como uma alternativa viável de anàlise quimica. Um estudo da preparação da amostra bem como uma avaliação dos fenômenos de interferência no método de análise empregado, são mostrados através da determinação em chama de Alumínio, Ferro, Titânio, Manganês, Cálcio e Cromo / Abstract: Metallurgical-grade silicon is used in the manufacture of a wide range industry fields (metalurgical steel and aluminium alloys, organosilicon industry and microelectronics). Special problems exist in the analysis of material used in microelectronics (raw material and final product) . Analytical methods with very good absolute detection limits are needed to qnalytical problems occurring in the analysis. Atomic Absorption Spectroscopy (AAS) has been used in the last ten years in silicon analisys. The present work reports atomic absorption methods developed for the determination of AI, Fe, Ti, Mn, Ca, and Cr impurities in metalurgical- grade silicon. An study of sample preparation, and interfering phenomenon in analisys analisys. method, are present in flame analysis / Mestrado / Mestre em Engenharia Mecânica
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Espectroscopia atômica de emissão dos gases nobres argônio e criptônioMania, Antonio Jamil 31 March 1992 (has links)
Orientador: Antonio G. Trigueiros / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-18T07:23:27Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1992 / Resumo: Um trabalho experimental de obtenção de placas fotográficas, onde são registradas as transições utilizando um q-pinch como fonte de radiação, é apresentado. A confecção de uma tabela contendo os dados espectroscópicos e a extensão da análise do espectro do Ar V, é então conseguida. O espectro do Kr V utilizando dados do q-pinch de Lund, também é estendido.
Uma análise via sequência-isoeletrônica para o Ar VII, revela a necessidade da alteração de valores da maior parte dos níveis até então conhecidos e aceitos. Essa análise então, extensivamente ampliada para todo o complexo (3,3) e fazendo uso da tabela do CIOp sobre o Ar, envolveu 35 níveis, dos quais 31 são novos e 76 transições, das quais 64 são novas. O ajuste dos parâmetros HF, a composição de auto-vetores e a otimização dos níveis energéticos, terminando a análise são determinados pelo uso de códigos computacionais / Abstract: An experimental work for obtaining photographic plates, where transitions from a q-pinch as a radiation source were recorded, is presented. A table of data and the extension of the analysis of Ar V spectrum are produced. Using data from Lund q-pinch, the Kr V spectrum is also obtained.
An analysis, using the iso-electronic sequence for Ar VII, showed the need for alteration of most existing well-known accepted energy level values. Extending such analysis to the whole complex (3,3) and using CIOp table for Ar, allowed to cover 35 levels (31 of which are new) and 76 transitions (64 of which are new). Concluding the analysis, the fitting of HF parameters, leading percentage and energetic level optimization are determined using computer codes / Doutorado / Física / Doutor em Ciências
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Preparação e caracterização de vidros de óxidos de metais pesados para óptica não linearSolano Reynoso, Victor Ciro 17 January 1993 (has links)
Orientador: Luiz C. Barbosa / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-18T10:17:23Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1992 / Resumo: Estudamos o sistema de vidros TiO2 - BaO - ZnO - B2O3, onde fixamos as composições do ZnO e do B2O3, variando a razão TiO2/BaO de 0,87 a 1,76. Fez-se uso de um forno super kanthal para fundir os compontos em um cadinho de alumina, à temperatura de 1200 °C, durante 10 minutos. Após a fusão, os vidros foram vazados em um molde na forma de uma chapa de aço inoxidável e esfriados rapidamente pelo " quenching" .
Os vidros obtidos foram homogêneos, transparentes e livres de bolhas. Estes foram caracterizados pela difratometria de raio-X, espectroscopia infravermelha com transformada de Fourier (FTIR), espectroscopia de absorção UV-Vis, dilatometria e medidas do índice de refração linear. As curvas de difração de todos os vidros apresentaram características típicas da formação de uma fase vítrea. O espectro infravermelho (IV) mostrou que a composição do vidro influencia tanto o "cut off" infravermelho como o UV-Vis. Da dilatometria foi verificado que tanto Td como Tg apresentaram caráter anômalo. O coeficiente de expansão térmica linear a apresentou comportamento anômalo em relação as concentrações de TiO2. Tanto a densidade como o índice de refração aumentam e atingem um máximo com a razão TiO2/ BaO em torno de 1,5. Após este ponto, ambos decrescem. O soft point Td aumenta e da mesma maneira decresce. Sugerimos, que Ti4+ joga um papel dual neste sistema de vidros, assumindo coordenação predominantemente tetraédrica nas regiões com baixas concentrações de TiO2 e predominantemente octaedral nas regiões com altas concentrações de TiO2. Tratamentos térmicos em temperaturas intermediárias fazem com que este sistema de vidros aumente seu índice de refração de maneira anômala.
Por outro lado, também estudamos a influência do Bi2O3 nas propriedades estruturais do sistema de vidros Bi2O3 - B2O3 - PbO - GeO2, onde fixamos as composições de dois constituintes do mesmo e variamos outras duas. Utilizamos o forno super kanthal para fundir os compostos na forma de pó internamente em um cadinho de alumina à temperatura de 1000 °C, durante 30 minutos. Após a fusão, os vidros foram vazados em moldes de aço e receberam tratamento térmico de recozimento à temperatura de 350 °C durante 5 horas.
Os vidros obtidos foram caracterizados pela difratometria de raio-X, espectroscopia infravermelha por transformada de Fourier (IFTIR) , espectroscopia UV-Vis, dilatometria, densidade e medidas do índice de refração. O espectro infravermelho, o coeficiente de expansão térmica linear a , Td e Td mostraram dependências com o aumento da concentração de Bi2O3. O índice de refração linear apresentou valores muito altos. Estas características foram produzidas pela influência das propriedades estruturais do Bi2O3 neste sistema de vidros. Determinou-se o gap óptico de uma série de composições deste sistema de vidros, os valores da cauda de Urbach e com estes dados encontrou-se os valores do índice de refração não linear n2 / Abstract: We studied the system TiO2 - BaO - ZnO - B2O3, where we fixed the ZnO and B2O3 compositions, vaying the ratio TiO2/ BaO from 0.87 a 1.76. A super-Kanthal resistance furnace was used to melt the compounds inside alumina crucibles, at about 1200 °C, during 10 minutes. After melting, the glasses were poured out in steel moldes and rapidly cooled by quenching.
The glasses obtained were homogeneous, transparent and bubble free. Tehy were characterized by X-ray diffratometry, Fourier transform infrared (FTIR), UV-Vis, dilatometry, density and refractive index. The diffraction curves of all glasses presented typical character of vitreous phase formation. The IR spectra show that the compositions influence both infrared "cut off" and UV- Vis "cut off". From dilatometry was verified that the Td and Tg values are anomalous. The linear dilatation coefficient a presented an anomalous behavior in relation to TiO2 concentrations. The density and refractive index increase with the ratio concentration TiO2/BaO around 1.5. After this point the density and refractive index decreases. The soft point Td increase and the same manner decrease. It is suggested that Ti4+ plays a dual part in the system, assuming a predominantly tetrahedral coordination in the low titania region and a predominantly octahedral co-ordination in the high titania region.
By the way, we studied composition influence in structural properties of Bi2O3 in Bi2O3 - B2O3 - PbO - GeO2 glass system, where we fixed two compositions, varying another two. A super-Kanthal resistance furnace was used to melt the powder compound inside alumina crucible, at about 1000 °C, during 30 minutes. After melting, the glasses were poured out in steels moldes.
The obtained glasses were characterized by X -ray diffratometry, infrared spectroscopy, dilatometry and linear refractive index. The infrared spectra, coefficient of linear thermal expansion, Td and Tg, show a dependency with increasing of Bi2O3 composition. The linear refractive index was very high. These features were produced by the composition influence of structural properties of Bi2O3 in this glass system / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Projeto e desenvolvimento de uma maquina com extremos de diamante para geração de altas pressões hidrostaticas : (10GPa)Mei, Jose Renato 08 October 1993 (has links)
Orientadores : Volia Lemos Crivelenti, Cecilia Amelia de Carvalho Zavaglia / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica / Made available in DSpace on 2018-07-18T23:23:21Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1993 / Resumo: Este trabalho relata a construção de uma cela para altas pressões com extremos de diamante, usando diamantes com área de topo maior que a usual, para ser carregada com amostras de espessura rv 150 /-lm. Isto permite o aumento da eficiência Raman como conseqüência do aumento do volume de espalhamento. O limite atingível foi estabelecido ser P = 8,4 GPa. Várias modificações foram introduzi das para melhorar o projeto original tipo NBS (National Bureau of Standard). A mais importante foi o método empregado aqui para fixar os diamantes permanentemente. A cela foi testada em uso, para estudar o espalhamento Raman"do LiCsS04 até 7 GPa. Como o uso impôs diversas medições, a cela demonstrou perfeito funcionamento até o limite de pressão deste projeto / Abstract: In this work a diamond anvil cell was built, using diamonds with top tables bigger than usual, to be loaded with samples of thichnesses "-' 150 J-Lm. This allo~ for the increase of Raman efficiency as ~ consequence of increasing the scattering volume. The limit attainable was established to be P = 8.4 GPa. Several modifications were introduced to improve the project of the original NBS - type cell (National Bureau of Standard - type). The most important was the method employed here to fix the diamonds permanently. The cell was tested in use, to study the Raman scattering of LiCsS04 up to 7 GPa. As the -use imposed several runs, the cell proved perfect- 0peration up to the limiting= pressure"i)f this -project / Mestrado / Mestre em Engenharia Mecânica
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