Apesar dos fornecedores de materiais e componentes serem a principal fonte de inovação no setor da construção, eles geralmente apresentam uma postura passiva na implantação de novas tecnologias no processo produtivo das empresas construtoras. Nos últimos anos, porém, diversos pesquisadores têm apontado para uma nova tendência no sentido de as construtoras estreitarem relações com seus fornecedores, buscando ampliar a atuação destes. Indo além do simples fornecimento de componentes, essas empresas são chamadas a dividir ou assumir maior responsabilidade em todo o processo produtivo. Entretanto, essas relações não vêm se fazendo de maneira sistêmica, ocorrendo em função da experiência de cada um dos envolvidos. Este trabalho reúne e analisa os principais estudos disponíveis na literatura a respeito dos processos de desenvolvimento e de implantação de inovações, no setor de construção de edifícios, bem como estudos que tratam das relações entre construtoras e seus fornecedores, destacando-se aqueles que tratam de parcerias. Além disso, apresenta-se um caso prático, relativo a uma inovação destinada à produção de vedação vertical de edifícios de múltiplos pavimentos, que vem sendo desenvolvida e comercializada por um grande fabricante de componentes de alvenaria do Estado de São Paulo. Essa inovação tem sido implementada por meio de parceria com empresas construtoras e fornecedoras de materiais, componentes e serviços. Os resultados do presente trabalho permitem depreender que, através da aplicação de um modelo de desenvolvimento adequado, o fornecedor da inovação ampliou seu mercado de atuação e, além disso, aumentou a rentabilidade de seus negócios. Com a reunião de dados da literatura e a partir da análise do caso prático sintetiza-se um modelo que pode auxiliar os fornecedores de materiais e componentes no desenvolvimento e implantação de uma inovação tecnológica, além do estabelecimento de relações mais adequadas com as empresas construtoras. / Although the suppliers of materials and components have been the main source of innovation in the construction industry, they generally present a passive attitude in the implementation of new technologies into the production process of construction companies. Recently, researchers identified a new trend under which construction companies are working closer to suppliers, mainly through partnerships, looking to them to increase their roles from the mere supply of components to the sharing of responsibility for the entire production process. Such relationship vary on a case by case basis, depending on the experience of each participant. This work compiles and analyzes the major studies available in the literature related to the development and implementation processes of innovation as well as research about the relationship between construction companies and their suppliers, focusing on partnerships. Moreover, this work presents a case study involving innovation applied to walls of multiple-level buildings, which has been developed and commercialized by a large manufacturer of mansory components in the state of São Paulo, Brazil, through partnership with construction companies and suppliers of materials, components and services. The results indicate that, through application of an appropriate development model, the supplier of innovation enlarged his market and, in addition, increased the profitability of his business. Based on literature and a practical case study this work summarizes a development model that may help suppliers of materials and components to develop and implement technology innovation as well as to establish an appropriate relationship with the construction companies.

Esse trabalho descreve um implantador iônico em termos de sua caracterização e aplicação. O texto está dividido em três capítulos que são apresentados resumidamente a seguir. O primeiro capítulo descreve em detalhes um novo tipo de implantador, denominado implantador invertido. Nesse capítulo é descrito o desenvolvimento e a caracterização do implantador invertido. A otimização de uma parte dos circuitos eletrônicos e o desenvolvimento e construção do restante dos circuitos é dada em detalhes. Uma caracterização do implantador quanto à maximização do feixe iônico é apresentada, onde é realizado um estudo sistemático com a variação de parâmetros como potencial extrator, corrente do canhão de plasma (arco catódico) dentre outros. Finalizando o primeiro capítulo, é apresentado um mapeamento da densidade do feixe iônico no porta amostras do implantador invertido. No segundo capítulo é discutida a neutralidade do feixe iônico do implantador invertido. Um feixe neutro viabiliza implantações em amostras isolantes, sem que haja acúmulo de cargas positivas, o que levaria a amostra a um potencial diferente do planejado. A energia de implantação efetiva foi avaliada estudando os perfis de implantação através de microscopia de força atômica condutiva (AFM-C) e microscopia eletrônica de transmissão (TEM), e comparando com simulações numéricas realizadas pelo programa TRIDYN. Os resultados sugerem que o feixe não é neutro. No terceiro capítulo, o implantador invertido foi utilizado para modificação de superfície de alumina, gerando uma camada de nanocompósito logo abaixo de sua superfície, formada por nanopartículas de titânio na matriz de alumina. A formação dessas nanopartículas se dá espontaneamente e pode ser explicada pela ocorrência de concentração dos átomos metálicos acima do limite de solubilidade no substrato implantado, levando à nucleação e crescimento das nanopartículas metálicas. Caracterização por TEM foi utilizada para a visualização direta das nanopartículas que apresentaram dimensões da ordem de 20 nm. Simulações utilizando o programa TRIDYN foram realizadas, gerando perfis de profundidade dos íons de titânio implantados no substrato de alumina, que mostraram excelente acordo com o perfil em profundidade obtido por RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry). Medidas de resistividade da camada compósita foram obtidas, in situ, em função da dose implantada. Utilizando modelos teóricos de percolação foi possível determinar a dose de saturação &#966;0 = 2,2 x 1016 átomos/cm2, que é a dose máxima para a qual o material continua a ser um nanocompósito, e para a condutividade de saturação foi &#966;0 = 480 S/m. A dose de percolação obtida foi &#966;c = 0,84 x 1016 átomos/cm2, que é a dose abaixo da qual o material tem a mesma condutividade que a matriz isolante. O expoente crítico obtido foi t = 1,4 e, como a condição t < 2 é satisfeita, o processo de condutividade se dá devido a percolação, sendo o tunelamento desprezível. / This work describes an ion implanter in terms of characterization and application. The text is divided in three chapters that are briefly presented below. The first chapter describes in detail a new type of implanter called inverted implanter. In this chapter is considered my contribution in the development and characterization of the inverted implanter. The optimization of part of the electronic circuits, and development and construction of other circuits are given in details. A characterization of the implanter by the maximization the ion beam is presented, where is carried out a systematic study through the variation of parameters such as extractor potential, plasma gun current (cathodic arc) and others. Finally, it presents a mapping of the ion beam density at the sample holder of the inverted implanter. The second chapter discusses the neutrality of the ion beam of the inverted implanter. A neutral beam allows implantation into insulating samples without positive charges accumulation, which would lead sample at a different potential than expected. The effective energy evaluation was carried out studying the implantation profiles by conductive atomic force microscopy (AFM-C) and transmission electron microscopy (TEM), and compared with numerical simulations performed by TRIDYN program. The results suggest that the ion beam isn\'t neutral. In the third chapter, the inverted implanter was used for alumina surface modification, generating a nanocomposite layer just below the surface, formed by titanium nanoparticles in alumina matrix. The nanoparticles formation occurs spontaneously and can be explained by the occurrence of metal atom concentration above the solubility limit in the impalnted substrate, leading to nucleation and growth of metal nanoparticles. Characterization by TEM was used for direct visualization of the nanoparticles what presented dimensions of about 20 nm. Simulations using the TRIDYN program were performed, generating depth profiles of titanium ions implanted into the alumina substrate, which showed excellent agreement with the depth profile obtained by RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry). Resistivity measurements were obtained from the composite layer, in situ, as function of implanted dose. Using theoretical percolation models, it was possible to determine the saturation dose &#966;0 = 2,2 x 1016 atoms/cm2, that is the maximum dose for which the material remains a nanocomposite, and the saturation conductivity &#966;0 = 480 S/m. The percolation was achieved for dose &#966;c = 0,84 x 1016 atoms/cm2, that is the dose below which the material has the same conductivity as the insulating matrix. The critical exponent obtained was t = 1,4 and, since it satisfies to condition t < 2, the conductivity process is due to percolation, tunneling being negligible.

Introdução: A síndrome dos ovários policísticos (SOP) é a desordem endócrina mais comum em mulheres durante o período reprodutivo. Contudo, representa ainda um desafio, principalmente, quando há infertilidade. Portanto, há necessidade de mais estudos nesta área, em especial, no endométrio. Nosso estudo tem como objetivo realizar a análise da expressão gênica e proteica de marcadores de receptividade endometrial em pacientes com Síndrome dos Ovários Policísticos, comparando-a com a de mulheres com ciclos menstruais regulares. Casuística e métodos: Foram avaliadas 36 mulheres na menacme, divididas em dois grupos: Grupo SOP (n=23) e Grupo Controle - mulheres com ciclos menstruais regulares (n=13). As pacientes do grupo SOP receberam progesterona micronizada na dose de 400mg ao dia, por via vaginal, durante 10 dias. Após o 14º dia do fluxo menstrual, receberam novamente a mesma dose de progesterona natural, por 10 dias. A biópsia de endométrio foi feita durante os últimos dias do emprego da progesterona (6º ao 10º dia de tratamento). No Grupo Controle, a biópsia foi feita na fase secretora (janela de implantação - 20º ao 24º dia). Além disso, foi feita biópsia endometrial em um grupo de mulheres com SOP durante a fase proliferativa. O material coletado foi processado e analisado por técnicas de biologia molecular (avaliação gênica por microarray) e análise imunoistoquimica relacionada à angiogênese. Resultados: As mulheres com SOP apresentaram alterações do metabolismo de carboidratos, hiperinsulinemia e hiperandrogenismo. Após o uso de progesterona natural, o endométrio revelou, na janela de implantação, modificações secretoras, assemelhando-se ao das mulheres com ciclos menstruais regulares. Os dados imunoistoquímicos mostraram haver redução da expressão do VEGF nas mulheres com SOP tratadas com progesterona natural em relação às com ciclo menstrual regular. Após a análise gênica, registrou-se predomínio de genes que podem interferir negativamente com a angiogênese no endométrio das pacientes com SOP tratadas com progesterona natural. Conclusão: O endométrio das mulheres com SOP, mesmo após tratamento com progesterona natural, mostra-se inadequado para a implantação endometrial devido à redução da angiogênese local / Introduction: The Polycystic ovary syndrome (PCOS) is the most common endocrine disorder in women during the reproductive period. However, it still presents a challenge, especially when there is infertility. Therefore, there is a need for further studies in this area, mainly in the endometrium. Our study aims to perform the analysis of gene and protein expression of endometrial receptors in patients with PCOS, comparing it with that of women with regular menstrual cycles. Patients and methods: Thirty-six women in the study were divided into two groups: PCOS group (n = 23) and Control Group - women with regular menstrual cycles (n = 13). Patients in the PCOS group received micronized progesterone at a dose of 400mg per day, vaginally, for 10 days. After the 14th day of menstrual flow, they again received the same dose of natural progesterone for 10 days. Endometrial biopsy was performed during the last days of the use of progesterone (6th to 10th day of treatment). In the Control Group, the biopsy was done in the secretory phase (implantation window - 20th to 24th day). In addition, endometrial biopsy was performed in a group of women with PCOS during the proliferative phase. The collected material was processed and analyzed by molecular biology techniques (microarray gene evaluation) and immunohistochemical analysis related to angiogenesis. Results: PCOS women had some changes in carbohydrate metabolism, hyperinsulinemia and hyperandrogenism. After the use of natural progesterone, the endometrium revealed, during the implantation window, secretory modifications, resembling that of women with regular menstrual cycles. Immunohistochemical data showed reduced expression of VEGF in PCOS women treated with natural progesterone compared to those with a regular menstrual cycle. After gene analysis, there was a predominance of genes that could negatively interfere with the endometrial angiogenesis in patients with PCOS treated with natural progesterone. Conclusion: The endometrium of women with PCOS, even after treatment with natural progesterone, may be inadequate for endometrial implantation due to the reduction of local angiogenesis

Esse trabalho descreve um implantador iônico em termos de sua caracterização e aplicação. O texto está dividido em três capítulos que são apresentados resumidamente a seguir. O primeiro capítulo descreve em detalhes um novo tipo de implantador, denominado implantador invertido. Nesse capítulo é descrito o desenvolvimento e a caracterização do implantador invertido. A otimização de uma parte dos circuitos eletrônicos e o desenvolvimento e construção do restante dos circuitos é dada em detalhes. Uma caracterização do implantador quanto à maximização do feixe iônico é apresentada, onde é realizado um estudo sistemático com a variação de parâmetros como potencial extrator, corrente do canhão de plasma (arco catódico) dentre outros. Finalizando o primeiro capítulo, é apresentado um mapeamento da densidade do feixe iônico no porta amostras do implantador invertido. No segundo capítulo é discutida a neutralidade do feixe iônico do implantador invertido. Um feixe neutro viabiliza implantações em amostras isolantes, sem que haja acúmulo de cargas positivas, o que levaria a amostra a um potencial diferente do planejado. A energia de implantação efetiva foi avaliada estudando os perfis de implantação através de microscopia de força atômica condutiva (AFM-C) e microscopia eletrônica de transmissão (TEM), e comparando com simulações numéricas realizadas pelo programa TRIDYN. Os resultados sugerem que o feixe não é neutro. No terceiro capítulo, o implantador invertido foi utilizado para modificação de superfície de alumina, gerando uma camada de nanocompósito logo abaixo de sua superfície, formada por nanopartículas de titânio na matriz de alumina. A formação dessas nanopartículas se dá espontaneamente e pode ser explicada pela ocorrência de concentração dos átomos metálicos acima do limite de solubilidade no substrato implantado, levando à nucleação e crescimento das nanopartículas metálicas. Caracterização por TEM foi utilizada para a visualização direta das nanopartículas que apresentaram dimensões da ordem de 20 nm. Simulações utilizando o programa TRIDYN foram realizadas, gerando perfis de profundidade dos íons de titânio implantados no substrato de alumina, que mostraram excelente acordo com o perfil em profundidade obtido por RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry). Medidas de resistividade da camada compósita foram obtidas, in situ, em função da dose implantada. Utilizando modelos teóricos de percolação foi possível determinar a dose de saturação &#966;0 = 2,2 x 1016 átomos/cm2, que é a dose máxima para a qual o material continua a ser um nanocompósito, e para a condutividade de saturação foi &#966;0 = 480 S/m. A dose de percolação obtida foi &#966;c = 0,84 x 1016 átomos/cm2, que é a dose abaixo da qual o material tem a mesma condutividade que a matriz isolante. O expoente crítico obtido foi t = 1,4 e, como a condição t < 2 é satisfeita, o processo de condutividade se dá devido a percolação, sendo o tunelamento desprezível. / This work describes an ion implanter in terms of characterization and application. The text is divided in three chapters that are briefly presented below. The first chapter describes in detail a new type of implanter called inverted implanter. In this chapter is considered my contribution in the development and characterization of the inverted implanter. The optimization of part of the electronic circuits, and development and construction of other circuits are given in details. A characterization of the implanter by the maximization the ion beam is presented, where is carried out a systematic study through the variation of parameters such as extractor potential, plasma gun current (cathodic arc) and others. Finally, it presents a mapping of the ion beam density at the sample holder of the inverted implanter. The second chapter discusses the neutrality of the ion beam of the inverted implanter. A neutral beam allows implantation into insulating samples without positive charges accumulation, which would lead sample at a different potential than expected. The effective energy evaluation was carried out studying the implantation profiles by conductive atomic force microscopy (AFM-C) and transmission electron microscopy (TEM), and compared with numerical simulations performed by TRIDYN program. The results suggest that the ion beam isn\'t neutral. In the third chapter, the inverted implanter was used for alumina surface modification, generating a nanocomposite layer just below the surface, formed by titanium nanoparticles in alumina matrix. The nanoparticles formation occurs spontaneously and can be explained by the occurrence of metal atom concentration above the solubility limit in the impalnted substrate, leading to nucleation and growth of metal nanoparticles. Characterization by TEM was used for direct visualization of the nanoparticles what presented dimensions of about 20 nm. Simulations using the TRIDYN program were performed, generating depth profiles of titanium ions implanted into the alumina substrate, which showed excellent agreement with the depth profile obtained by RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry). Resistivity measurements were obtained from the composite layer, in situ, as function of implanted dose. Using theoretical percolation models, it was possible to determine the saturation dose &#966;0 = 2,2 x 1016 atoms/cm2, that is the maximum dose for which the material remains a nanocomposite, and the saturation conductivity &#966;0 = 480 S/m. The percolation was achieved for dose &#966;c = 0,84 x 1016 atoms/cm2, that is the dose below which the material has the same conductivity as the insulating matrix. The critical exponent obtained was t = 1,4 and, since it satisfies to condition t < 2, the conductivity process is due to percolation, tunneling being negligible.

Neste trabalho são apresentados os resultados obtidos com a implantação iônica de nitrogênio por imersão em plasma (IIIP ou 3IP) do polietileno de ultra-alto peso molecular (PEUAPM). Um dos principais objetivos do tratamento foi o de promover a melhora das propriedades mecânicas do PEUAPM, principalmente a dureza e o módulo de elasticidade. Tais propriedades foram melhoradas a partir de alterações estruturais, induzidas na superfície do polímero, quando submetido ao bombardeamento por íons de nitrogênio por imersão em plasma. Verificou-se, através da espectroscopia Raman e da espectroscopia de fotoelétrons excitados por raio-X, que a implantação forçada de íons energéticos no polímero causa o rompimento, em sua grande maioria, de ligações carbono-hidrogênio, levando à desidrogenação do material em sua superfície. Em decorrência da desidrogenação do material, e da conseqüente alteração no modo de hibridização de grande parte dos átomos de carbono, que passam de carbonos sp2 para carbonos sp3, há a formação de ligações cruzadas entre cadeias carbônicas adjacentes. Esse fenômeno é associado à formação de uma fina camada de material muito duro sobre a superfície do polímero chamado Carbono tipo Diamante (DLC). A técnica de nanoindentação foi usada para se determinar a dureza e módulo de elasticidade após o tratamento e a técnica AFM usada para se verificar as alterações de rugosidade na superfície do material. Além de se constatar a formação do DLC e a melhora de algumas propriedades mecânicas do material, o trabalho se estende um pouco além, buscando determinar a influência da intensidade dos pulsos e do tempo do tratamento na formação do DLC, com o intuito de apresentar informações que possam indicar ou sugerir condições ótimas de tratamento do PEUAPM por 3IP de nitrogênio.

Este trabalho envolve o tratamento superficial das ligas de alumínio, Al5052, Al7475 e Al2024, empregando a técnica de implantação iônica por imersão em plasma (3IP ou IIIP) de nitrogênio. Os experimentos foram executados no Laboratório Associado de Plasma do INPE usando-se os três sistemas 3IP (baixa, média e alta energia) que atualmente encontram-se em operação. A utilização do 3IP de nitrogênio nas ligas de alumínio teve como finalidade a formação de uma camada de nitreto de alumínio, AlN, que confere às ligas melhores resistência à corrosão, propriedades mecânicas e tribológicas do que o material sem tratamento. Para avaliar as propriedades das superfícies tratadas das ligas de alumínio foram realizadas medidas de polarização potenciodinâmica anódica, difração de raios X, microscopia eletrônica de varredura, espectroscopias Auger e XPS, microindentação e nanoindentação. Os experimentos de implantação iônica por imersão em plasma de nitrogênio realizados nas ligas de alumínio, utilizando energias que variaram de 2,5 a 50 keV, foram feitos buscando as condições ótimas para este tratamento nestas ligas de alumínio. A liga mais estudada e na qual foram obtidos os melhores resultados quanto à resistência à corrosão foi a liga Al5052, que apresentou na maioria das vezes densidades de corrente de corrosão bem inferiores às da liga não tratada, cerca de dez até mil vezes menores. Depois da implantação iônica de nitrogênio, as ligas apresentaram camadas nitretadas de 100 a 1000 nm de espessura que promoveram uma maior resistência à corrosão destes materiais. Com relação à dureza, este melhor desempenho não foi verificado para todos os casos estudados, devido às temperaturas atingidas durante alguns dos tratamentos 3IP terem ultrapassado 300 C, resultando no amolecimento das ligas. Entretanto, em um dos tratamentos empregando energia moderada (17,5 keV, 450 C), a camada obtida foi bastante espessa (1000 nm), devido à difusão do nitrogênio para o interior da amostra do Al5052. A formação desta camada passiva rica em nitrogênio tornou a superfície bem mais resistente à corrosão do que antes da implantação iônica.

Este trabalho tem como objetivo melhorar as propriedades superficiais da liga Ti-6Al-4V, de alto potencial de uso nas áreas aeroespacial e médica, visto que possui excelente combinação de propriedades, como alta resistência mecânica, boa tenacidade e baixa massa específica, além de notáveis características de biocompatibilidade, aliadas a uma excelente resistência à corrosão, porém, com pobres propriedades tribológicas. Visando sanar essa desvantagem, são utilizados tratamentos assistidos a plasma no desenvolvimento deste estudo. São feitos tratamentos híbridos: IIIP (Implantação Iônica por Imersão em Plasma) combinado com NP (Nitretação por Plasma), e processos simples IIIP em baixas e altas temperaturas. Para os tratamentos em altas temperaturas, o potencial de plasma é variado entre 90V e 420V. Os melhores resultados obtidos são para os tratamentos realizados a 800C e baixo potencial de plasma (PP). Uma camada modificada de 1.500 nm é medida por GDOS ("Glow Discharge Optical Spectroscopy") para amostra tratada durante 240 minutos, cerca de 15 vezes mais espessa do que amostra tratada em processo IIIP simples (sem aquecimento adicional) por 100 minutos (melhor resultado obtido nessas condições). É observado um grande aumento na sua resistência ao desgaste, com coeficiente de atrito diminuindo de um valor médio de 0,4 (amostra de referência) para cerca de 0,1 - 0,05 para amostras tratadas, o que atribui alta resistência ao desgaste. É obtido também aumento da dureza superficial, da ordem de 250% em relação à amostra sem tratamento em valores aproximados de 22 GPa (dureza do nitreto de titânio). Após os tratamentos, as amostras preservam também sua boa resistência à corrosão. Essas modificações nas propriedades da estrutura devem-se a formação de nitreto de titânio, que pode ser detectado pela técnica de difração de raios X (XRD). Além de melhoria das propriedades de desgaste do material, é comprovada a eficiência do dispositivo de aquecimento interno ao porta-amostra, para a realização de tratamentos por plasma em altas temperaturas.

Os filmes de carbono tipo diamante (DLC) são materiais que possuem excelentes propriedades tais como: alta dureza, alta resistência ao desgaste, baixo coeficiente de atrito, biocompatibilidade, inércia química, baixa rugosidade, transparência óptica, alta resistividade elétrica entre outras, o que fazem com que o DLC tenha uma variedade de aplicações. Entretanto, sabe-se que o DLC possui fraca adesão sobre substratos metálicos resultando em delaminações. Com o objetivo investigar esse problema, foi realizado neste trabalho o estudo da sua deposição em lâminas de silício, aço inoxidável, liga de alumínio e liga de titânio, segundo duas técnicas baseadas em implantação iônica por imersão em plasma (IIIP ou 3IP). A primeira consistiu em 3IP e deposição com magnetron sputtering (3IP&D). Para este caso, duas condições foram estudadas, sendo a primeira: implantação em 30 minutos e deposição em 60 minutos e a segunda condição foi alternando 20 minutos de implantação e 20 de deposição, totalizando 80 minutos. As outras condições estudadas foram implantando com metano por 60 minutos, acetileno também com 60 minutos e metano com 30 minutos mais 60 minutos com acetileno. Após a deposição, os filmes foram caracterizados pelas técnicas de perfilometria, espectroscopia Raman, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e de força atômica (AFM), corrosão, estudo da aderência, medidas de coeficiente de atrito e nanodureza. Com os resultados obtidos podemos dizer que o filme que apresentou melhores resultados foram os obtidos com implantação de metano por 30 minutos mais implantação com acetileno por mais 60 minutos.

As ligas Ti-Ni com efeito de memória de forma possuem aplicações em diversas áreas por apresentarem alta ductilidade e boa resistência à fadiga e a corrosão. É um material promissor na área biomédica devido às propriedades de efeito de memória de forma e superelasticidade. Uma possibilidade para melhorar as propriedades tribológicas e a biocompatibilidade desse material é modificação superficial através do processo de implantação iônica por imersão em plasma de nitrogênio (IIIP-N). Os materiais utilizados neste trabalho são as ligas Ti-49,93 at.% Ni, denominado VIM 47, e Ti-49,42 at.% Ni, denominado VIM 40. O processo IIIP-N foi realizado em baixa e alta temperatura. Para o material VIM 47, foram realizadas implantação em duas condições: no material fundido e em amostras solubilizadas a 900C durante 30 minutos. A implantação foi realizada em temperaturas menores que 250C e 320C. Para o material VIM 40, trabalhou-se apenas com amostras forjadas, sendo realizada IIIP-N em temperaturas menor que 250C, 290C e 560C. A técnica de espectroscopia Auger confirma a presença de nitreto de titânio nas superfícies das amostras, apresentando como melhor resultado na liga VIM 47 a amostra implantada a 320C com espessura próxima a 400 nm, duas vezes superior à camada da amostra fundida implantada na mesma condição experimental. A liga VIM 40, apresenta como melhor resultado a camada com espessura de 150 nm medida por GDOS ("Glow Discharge Optical Spectroscopy") na amostra implantada a 560C, três vezes superior à amostra implantada na temperatura menor que 250C. Nas análises de desgaste pino-sobre-disco, o coeficiente de atrito diminui significativamente através do processo IIIP-N. O melhor resultado obtido foi para amostra do material VIM 40, implantada a 560C, com coeficiente de atrito em torno de 0,1, resultado oito vezes menor comparado com a amostra de referência.

Introdução: A síndrome dos ovários policísticos (SOP) é a desordem endócrina mais comum em mulheres durante o período reprodutivo. Contudo, representa ainda um desafio, principalmente, quando há infertilidade. Portanto, há necessidade de mais estudos nesta área, em especial, no endométrio. Nosso estudo tem como objetivo realizar a análise da expressão gênica e proteica de marcadores de receptividade endometrial em pacientes com Síndrome dos Ovários Policísticos, comparando-a com a de mulheres com ciclos menstruais regulares. Casuística e métodos: Foram avaliadas 36 mulheres na menacme, divididas em dois grupos: Grupo SOP (n=23) e Grupo Controle - mulheres com ciclos menstruais regulares (n=13). As pacientes do grupo SOP receberam progesterona micronizada na dose de 400mg ao dia, por via vaginal, durante 10 dias. Após o 14º dia do fluxo menstrual, receberam novamente a mesma dose de progesterona natural, por 10 dias. A biópsia de endométrio foi feita durante os últimos dias do emprego da progesterona (6º ao 10º dia de tratamento). No Grupo Controle, a biópsia foi feita na fase secretora (janela de implantação - 20º ao 24º dia). Além disso, foi feita biópsia endometrial em um grupo de mulheres com SOP durante a fase proliferativa. O material coletado foi processado e analisado por técnicas de biologia molecular (avaliação gênica por microarray) e análise imunoistoquimica relacionada à angiogênese. Resultados: As mulheres com SOP apresentaram alterações do metabolismo de carboidratos, hiperinsulinemia e hiperandrogenismo. Após o uso de progesterona natural, o endométrio revelou, na janela de implantação, modificações secretoras, assemelhando-se ao das mulheres com ciclos menstruais regulares. Os dados imunoistoquímicos mostraram haver redução da expressão do VEGF nas mulheres com SOP tratadas com progesterona natural em relação às com ciclo menstrual regular. Após a análise gênica, registrou-se predomínio de genes que podem interferir negativamente com a angiogênese no endométrio das pacientes com SOP tratadas com progesterona natural. Conclusão: O endométrio das mulheres com SOP, mesmo após tratamento com progesterona natural, mostra-se inadequado para a implantação endometrial devido à redução da angiogênese local / Introduction: The Polycystic ovary syndrome (PCOS) is the most common endocrine disorder in women during the reproductive period. However, it still presents a challenge, especially when there is infertility. Therefore, there is a need for further studies in this area, mainly in the endometrium. Our study aims to perform the analysis of gene and protein expression of endometrial receptors in patients with PCOS, comparing it with that of women with regular menstrual cycles. Patients and methods: Thirty-six women in the study were divided into two groups: PCOS group (n = 23) and Control Group - women with regular menstrual cycles (n = 13). Patients in the PCOS group received micronized progesterone at a dose of 400mg per day, vaginally, for 10 days. After the 14th day of menstrual flow, they again received the same dose of natural progesterone for 10 days. Endometrial biopsy was performed during the last days of the use of progesterone (6th to 10th day of treatment). In the Control Group, the biopsy was done in the secretory phase (implantation window - 20th to 24th day). In addition, endometrial biopsy was performed in a group of women with PCOS during the proliferative phase. The collected material was processed and analyzed by molecular biology techniques (microarray gene evaluation) and immunohistochemical analysis related to angiogenesis. Results: PCOS women had some changes in carbohydrate metabolism, hyperinsulinemia and hyperandrogenism. After the use of natural progesterone, the endometrium revealed, during the implantation window, secretory modifications, resembling that of women with regular menstrual cycles. Immunohistochemical data showed reduced expression of VEGF in PCOS women treated with natural progesterone compared to those with a regular menstrual cycle. After gene analysis, there was a predominance of genes that could negatively interfere with the endometrial angiogenesis in patients with PCOS treated with natural progesterone. Conclusion: The endometrium of women with PCOS, even after treatment with natural progesterone, may be inadequate for endometrial implantation due to the reduction of local angiogenesis