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Nahfeldoptische Untersuchungen zum lokalen Schaltverhalten photochromer FulgideMager, Oliver 10 July 2000 (has links)
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Ellipsometrische Untersuchungen an Plasmapolymeren und plasmamodifizierten PolymeroberflaechenRochotzki, Ralf 05 August 1996 (has links)
Ellipsometrische Untersuchungen an Plasmapolymeren und plasmamodifizierten
Polymeroberflächen Abstrakt Im Mittelpunkt der Arbeit stehen zwei Prozesse, die auf der
komplexen Wechselwirkung zwischen einem Niedertemperaturplasma und der dem Plasma
ausgesetzten Festkoerperoberflaeche beruhen: Plasmamodifizierung und Plasmapolymerisation.
Mit dem zerstoerungsfreien, optischen Messverfahren der Ellipsometrie koennen
Veraenderungen der makroskopischen optischen Eigenschaften infolge der Plasmaeinwirkung
nachgewiesen werden und so Rueckschluesse auf die Wechselwirkungsprozesse gezogen
werden. Dazu dienen ex situ Spektralellipsometrie (Wellenlaenge = 300 - 800 nm), Ellipsometrie
bei der Anregung von Oberflaechenplasmonen und in situ Ellipsometrie (Wellenlaenge = 632,8
nm), die mit Methoden der Strukturaufklaerung (XPS, SIMS, FTIR) kombiniert werden. Bei der
Plasmamodifizierung von Polyethylen und Polystyren im CF4 und O2 Plasma kommt es durch den
Eintrag neuer funktioneller Gruppen, durch Vernetzung und Aktivierung zu chemischen und
morphologischen Veraenderungen in einer duennen Oberflaechenschicht, die sich in einem
veraenderten Brechungsindex aeussern. Eine Erklaerung fuer die beobachteten Aenderungen ist
ueber die molaren Polarisierbarkeiten der neuen funktionellen Gruppen moeglich. Die
Untersuchungsergebnisse zum Tiefenbereich der Modifizierung sind qualitativ in guter
Uebereinstimmung mit den Eindringtiefen der verschiedenen Plasmaspezies. Bei der
Abscheidung duenner Plasmapolymerschichten dienen in situ und ex situ durchgefuehrte
ellipsometrische Messungen der Aufklaerung von Struktur-Eigenschafts-Beziehungen. Eine
deutliche Abhaengigkeit des Brechungsindex von HMDSO-Plasmapolymerschichten vom
spezifischen Energieeintrag ins aktive Plasmavolumen wird gefunden und modelliert. Durch
nichtstationaere Prozessfuehrung gelingt die Herstellung von Plasmapolymerschichten mit einem
Brechungsindex-Tiefenprofil.
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Waermeleitfaehigkeit amorpher Cu-Sn-SchichtenSchmidt, Ralf 19 August 1998 (has links) (PDF)
Es wird eine Methode vorgestellt, die es ermoeglicht,
Waermeleitfaehigkeitsmessungen an sowohl in-situ als auch
ex-situ hergestellten duennen Schichten durchzufuehren.
Es wurden Messungen der Waermeleitfaehigkeit und des elektrischen
Widerstandes fuer das System Cu_{x}Sn_{100-x} 0<=x<=100 im
Temperaturbereich von 1.2 K
bis 360 K durchgefuehrt. Die Proben wurden jeweils nach der
Herstellung im amorphen bzw. mikrokristallinen
Zustand und nach dem Anlassen auf 360 K im kristallisierten
Zustand gemessen.
Die Ergebnisse werden im Rahmen der in der Literatur
gebraeuchlichen Modelle diskutiert. Da es sich bei
Cu-Sn um ein metallisches System handelt, tragen sowohl
Elektronen als auch Phononen zur Waermeleitfaehigkeit bei.
Die Trennung der Beitraege mit Hilfe des Wiedemann-Franz'schen
Gesetzes bereitet wegen der starken Elektron-Phonon-Kopplung
Schwierigkeiten.
In der Waermeleitfaehigkeit der amorphen Cu-Sn-Legierungen
bei tiefen Temperaturen wird ein Bereich schwaecherer
Temperaturabhaengigkeit gefunden.
Dieser Plateaubereich deutet auf zusaetzliche Wechselwirkungsmechanismen
hin und verschiebt sich mit steigender Cu-Konzentration
zu kleineren Temperaturen. Er tritt bei den Cu-reichen Proben,
die aufgrund der hohen Kristallisationstemperatur einen geringeren
Kristallisationsgrad aufweisen, auch im kristallisierten Zustand
auf. Demzufolge ist das Plateau in diesem Fall zu tieferen
Temperaturen verschoben. Die Verschiebung des Plateaus mit der
Konzentration kann im Rahmen des Modells der Phonon-Rotonen
verstanden werden. Phonon-Rotonen sind lokalisierte niederenergetische
Anregungen, die bei Wellenzahlen Q_{pe}=K_{pe}
auftreten und bei einer charakteristischen Temperatur
T_{0} angeregt werden koennen. Sie tragen entgegen
den Debye-Phononen selbst
nicht zur Waermeleitfaehigkeit bei, sondern wirken als deren
Wechselwirkungspartner. K_{pe} bezeichnet die Lage eines elektronisch
induzierten Strukturpeaks, dessen Hoehe mit der Zusammensetzung
der Legierung skaliert. Die Hoehe des Strukturpeaks ist umgekehrt
proportional zur Anregungsenergie der Phonon-Roton-Zustaende.
Das bedeutet, dass ein Plateaubereich bei hohen Temperaturen
auftritt, wenn der Strukturfaktor bei K_{pe} klein ist und umgekehrt.
Damit ist es gelungen, im Gegensatz zum Modell
der Zwei-Niveau-Systeme die
Tieftemperaturanomalien in der Waermeleitfaehigkeit aehnlich wie
die Anomalien in der Thermokraft bei tiefen Temperaturen direkt
auf die Struktur der Proben zurueckzufuehren.
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Ellipsometrische Untersuchungen an Plasmapolymeren und plasmamodifizierten PolymeroberflaechenRochotzki, Ralf 09 July 1996 (has links)
Ellipsometrische Untersuchungen an Plasmapolymeren und plasmamodifizierten
Polymeroberflächen Abstrakt Im Mittelpunkt der Arbeit stehen zwei Prozesse, die auf der
komplexen Wechselwirkung zwischen einem Niedertemperaturplasma und der dem Plasma
ausgesetzten Festkoerperoberflaeche beruhen: Plasmamodifizierung und Plasmapolymerisation.
Mit dem zerstoerungsfreien, optischen Messverfahren der Ellipsometrie koennen
Veraenderungen der makroskopischen optischen Eigenschaften infolge der Plasmaeinwirkung
nachgewiesen werden und so Rueckschluesse auf die Wechselwirkungsprozesse gezogen
werden. Dazu dienen ex situ Spektralellipsometrie (Wellenlaenge = 300 - 800 nm), Ellipsometrie
bei der Anregung von Oberflaechenplasmonen und in situ Ellipsometrie (Wellenlaenge = 632,8
nm), die mit Methoden der Strukturaufklaerung (XPS, SIMS, FTIR) kombiniert werden. Bei der
Plasmamodifizierung von Polyethylen und Polystyren im CF4 und O2 Plasma kommt es durch den
Eintrag neuer funktioneller Gruppen, durch Vernetzung und Aktivierung zu chemischen und
morphologischen Veraenderungen in einer duennen Oberflaechenschicht, die sich in einem
veraenderten Brechungsindex aeussern. Eine Erklaerung fuer die beobachteten Aenderungen ist
ueber die molaren Polarisierbarkeiten der neuen funktionellen Gruppen moeglich. Die
Untersuchungsergebnisse zum Tiefenbereich der Modifizierung sind qualitativ in guter
Uebereinstimmung mit den Eindringtiefen der verschiedenen Plasmaspezies. Bei der
Abscheidung duenner Plasmapolymerschichten dienen in situ und ex situ durchgefuehrte
ellipsometrische Messungen der Aufklaerung von Struktur-Eigenschafts-Beziehungen. Eine
deutliche Abhaengigkeit des Brechungsindex von HMDSO-Plasmapolymerschichten vom
spezifischen Energieeintrag ins aktive Plasmavolumen wird gefunden und modelliert. Durch
nichtstationaere Prozessfuehrung gelingt die Herstellung von Plasmapolymerschichten mit einem
Brechungsindex-Tiefenprofil.
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Waermeleitfaehigkeit amorpher Cu-Sn-SchichtenSchmidt, Ralf 23 July 1998 (has links)
Es wird eine Methode vorgestellt, die es ermoeglicht,
Waermeleitfaehigkeitsmessungen an sowohl in-situ als auch
ex-situ hergestellten duennen Schichten durchzufuehren.
Es wurden Messungen der Waermeleitfaehigkeit und des elektrischen
Widerstandes fuer das System Cu_{x}Sn_{100-x} 0<=x<=100 im
Temperaturbereich von 1.2 K
bis 360 K durchgefuehrt. Die Proben wurden jeweils nach der
Herstellung im amorphen bzw. mikrokristallinen
Zustand und nach dem Anlassen auf 360 K im kristallisierten
Zustand gemessen.
Die Ergebnisse werden im Rahmen der in der Literatur
gebraeuchlichen Modelle diskutiert. Da es sich bei
Cu-Sn um ein metallisches System handelt, tragen sowohl
Elektronen als auch Phononen zur Waermeleitfaehigkeit bei.
Die Trennung der Beitraege mit Hilfe des Wiedemann-Franz'schen
Gesetzes bereitet wegen der starken Elektron-Phonon-Kopplung
Schwierigkeiten.
In der Waermeleitfaehigkeit der amorphen Cu-Sn-Legierungen
bei tiefen Temperaturen wird ein Bereich schwaecherer
Temperaturabhaengigkeit gefunden.
Dieser Plateaubereich deutet auf zusaetzliche Wechselwirkungsmechanismen
hin und verschiebt sich mit steigender Cu-Konzentration
zu kleineren Temperaturen. Er tritt bei den Cu-reichen Proben,
die aufgrund der hohen Kristallisationstemperatur einen geringeren
Kristallisationsgrad aufweisen, auch im kristallisierten Zustand
auf. Demzufolge ist das Plateau in diesem Fall zu tieferen
Temperaturen verschoben. Die Verschiebung des Plateaus mit der
Konzentration kann im Rahmen des Modells der Phonon-Rotonen
verstanden werden. Phonon-Rotonen sind lokalisierte niederenergetische
Anregungen, die bei Wellenzahlen Q_{pe}=K_{pe}
auftreten und bei einer charakteristischen Temperatur
T_{0} angeregt werden koennen. Sie tragen entgegen
den Debye-Phononen selbst
nicht zur Waermeleitfaehigkeit bei, sondern wirken als deren
Wechselwirkungspartner. K_{pe} bezeichnet die Lage eines elektronisch
induzierten Strukturpeaks, dessen Hoehe mit der Zusammensetzung
der Legierung skaliert. Die Hoehe des Strukturpeaks ist umgekehrt
proportional zur Anregungsenergie der Phonon-Roton-Zustaende.
Das bedeutet, dass ein Plateaubereich bei hohen Temperaturen
auftritt, wenn der Strukturfaktor bei K_{pe} klein ist und umgekehrt.
Damit ist es gelungen, im Gegensatz zum Modell
der Zwei-Niveau-Systeme die
Tieftemperaturanomalien in der Waermeleitfaehigkeit aehnlich wie
die Anomalien in der Thermokraft bei tiefen Temperaturen direkt
auf die Struktur der Proben zurueckzufuehren.
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