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1	Synthesis, Characterization and Anion Complexation of Cationic Main Group Lewis Acids Kim, Youngmin 2010 August 1900 (has links) Due to favorable Coulombic effects, cationic main group Lewis acids should be more Lewis acidic than their neutral counterparts. To investigate this idea, this dissertation has been dedicated to the synthesis, characterization and anion binding properties of new cationic Lewis acids for selective anion complexation. The cationic borane [p-(Mes2B)C6H4(PPh3)] displays an enhanced anion affinity towards fluoride due to a combination of Coulombic and hydrophobic effects, and can be used to detect fluoride at levels below 4 ppm in water. A related phosphonium borane featuring a chromophoric dansyl amide moiety has been synthesized and used for the fluorescence turn on sensing of CN−. This borane is very sensitive and can be used to measure cyanide concentration in the 20-30 ppb range in water. The bidentate borane [o-(Mes2B)C6H4(PPh2Me)] is selective for N3 − over F− in water/chloroform biphasic mixtures because of the lipophilic character of the azide anion, as well as its ability to interact with both the boron and phosphorus Lewis acidic sites of the receptor via chelation (lp(N)s*(P-C)). Sulfonium borane [o(Mes2B)C6H4(SMe2)] can detect up to 50 ppb of cyanide in water at pH 7 due to favorable Coulombic effects. The sulfonium moiety interacts with the cyanide anion through both bonding and back-bonding interactions, thus enhancing the unusual affinity of [o-(Mes2B)C6H4(SMe2)] towards cyanide. This approach can be extended to Lewis acids containing fluorosilanes such as [1-Ant2FSi-2-Me2S-(C6H4)] whose fluoride affinity exceeds that of neutral fluorosilanes by several orders of magnitude. boranes fluorosilanes anion sensing sensors water
2	Beiträge zum Verständnis des sauren nasschemischen Ätzens von Silicium Lippold, Marcus 20 June 2014 (has links) (PDF) Der Siliciumauflöseprozess in HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen unterscheidet sich vom Ätzprozess in HF-HNO3-H2O-Standardmischungen in Bezug auf die Reaktivität gegenüber Silicium, erzielte Oberflächenmorpholgien sowie die beim Ätzen entstehenden gelösten und gasförmigen Produkte. Durch die Behandlung in H2SO4-reichen HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen werden auf Siliciumwafern Texturen mit hoher Rauigkeit und geringer Reflexion erzeugt. mc-Si-Solarzellen texturiert durch eine H2SO4-reiche Ätzlösung weisen vergleichend zu Solarzellen mit Standardtexturen höhere Wirkungsgrade auf. In HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen mit hohen Schwefelsäurekonzentrationen (c(H2SO4) > c(H2O)) wirkt sowohl das Salpetersäuremolekül HNO3 als auch das Nitrylion NO2+ als Oxidationsmittel. Trifluorsilan HSiF3 und Hexafluordisiloxan F3SiOSiF3 wurden erstmalig als gasförmige Produkte des sauren nasschemischen Ätzens identifiziert. Anhand von Modellreaktionen zur Reaktivität von Nitrylionen wurde deren Reduktionssequenz im Siliciumätzprozess aufgeklärt. Silicium Nasschemische Halbleiterätzverfahren Nitrylionen Fluorsilane Solarzellen Texturieren silicon wet chemical semiconductor etching nitronium ions fluorosilanes solar cells texturization ddc:540 Silicium Nassätzen Flusssäure Salpetersäure Schwefelsäure Silane Wafer Textur Ätzen
3	Beiträge zum Verständnis des sauren nasschemischen Ätzens von Silicium: Das System HF-HNO3-H2SO4/H2O Lippold, Marcus 09 May 2014 (has links) Der Siliciumauflöseprozess in HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen unterscheidet sich vom Ätzprozess in HF-HNO3-H2O-Standardmischungen in Bezug auf die Reaktivität gegenüber Silicium, erzielte Oberflächenmorpholgien sowie die beim Ätzen entstehenden gelösten und gasförmigen Produkte. Durch die Behandlung in H2SO4-reichen HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen werden auf Siliciumwafern Texturen mit hoher Rauigkeit und geringer Reflexion erzeugt. mc-Si-Solarzellen texturiert durch eine H2SO4-reiche Ätzlösung weisen vergleichend zu Solarzellen mit Standardtexturen höhere Wirkungsgrade auf. In HF-HNO3-H2SO4/H2O-Lösungen mit hohen Schwefelsäurekonzentrationen (c(H2SO4) > c(H2O)) wirkt sowohl das Salpetersäuremolekül HNO3 als auch das Nitrylion NO2+ als Oxidationsmittel. Trifluorsilan HSiF3 und Hexafluordisiloxan F3SiOSiF3 wurden erstmalig als gasförmige Produkte des sauren nasschemischen Ätzens identifiziert. Anhand von Modellreaktionen zur Reaktivität von Nitrylionen wurde deren Reduktionssequenz im Siliciumätzprozess aufgeklärt. info:eu-repo/classification/ddc/540 ddc:540

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