Ziel der Dissertation: Ziel ist die Weiterentwicklung und Charakterisierung eines nichtionisierenden Diagnoseverfahrens für die Detektion von Okklusalkaries auf Basis von polarisationssensitiver optischer Kohärenztomografie (PS OCT). Die Einführung eines erweiterten polarisationsmikroskopischen Verfahrens (Depolarisationsmikroskopie, DLM) ermöglicht erstmals die Visualisierung der Pathohistologie der Karies durch Depolarisationsbildgebung am Dünnschliff. Material und Methode: Insgesamt wurden 17 Zähne mit klinisch auffälligen Okklusalflächen in-vitro mit fünf Bildgebungsverfahren untersucht: digitale Bissflügelaufnahmen, µCT, PS-OCT und konventionelle sowie erweiterte Polarisationsmikroskopie (Depolarisationsmikroskopie). Die optischen Verfahren wurden an intakten Zähnen und histologischen Dünnschliffen angewendet. Die kariösen Läsionen konnten nach räumlicher Registrierung der verschiedenen Datensätze in Schnittebenen vergleichend visualisiert werden. Ergebnisse: Die vergleichende Darstellung der verschiedenen Verfahren in einer Schnittebene liefert einen Beitrag zum Grundverständnis der optischen Eigenschaften kariöser Läsionen. Die konventionelle zahnmedizinische Histologie wurde um zwei neue optische Bildgebungsverfahren ergänzt: PS-OCT und Depolarisationsmikroskopie. Die erstmalige Auswertung des DOP im histologischen Dünnschliff ermöglicht die Quantifizierung der pathohistologischen Zonen der Karies. Demineralisierte Schmelzareale sowie demineralisiertes, sklerosiertes und gesundes Dentin können farbunabhängig visualisiert werden. Die Ursache der Depolarisation in Schmelz und Dentin ist unterschiedlich. Die Studie liefert Erkenntnisse für die Auswertung von PS-OCT Daten in-vivo. Schlussfolgerung: Für die valide Interpretation zukünftiger klinischer PS-OCT Daten ist es erforderlich, die polarisationsoptischen Eigenschaften von Zahnhartsubstanzen genauer zu untersuchen. Dies wurde mit der Auswertung des Polarisationsgrades (Degree of Polarization, DOP) mit Polarisationsmikroskopie und PS-OCT im histologischen Präparat erzielt und dient dem Grundverständnis von PS-OCT Volumendaten für die zukünftige zahnärztliche Praxis. Die vorgestellten Verfahren sind eine relevante Ergänzung der klassischen zahnmedizinischen Histologie bei der wissenschaftlichen Charakterisierung kariöser Läsionen. / Objective: The aim of this doctoral thesis is the advancement and characterization of a non-invasive, non-ionizing diagnostic method for the detection of occlusal caries based on polarization-sensitive optical coherence tomography (PS-OCT). By introducing an expanded polarization microscopic technique (depolarized light microscopy, DLM), enables, for the first time, the visualization of the pathohistology of caries through depolarization imaging on thin sections. Material and Methods: A total of 17 teeth with clinically suspicious occlusal surfaces were examined in vitro using five imaging techniques: digital bitewing radiographs, µCT, PS-OCT, and conventional as well as expanded polarized light microscopy (depolarized light microscopy). The optical methods were applied to intact teeth and histological thin sections. After spatial registration of the different datasets, carious lesions were comparably visualized in sectional planes. Results: The comparative representation of various optical imaging methods within the same sectional plane contributes to the fundamental understanding of the optical properties of carious lesions. Traditional dental histology was supplemented by the inclusion of two innovative optical imaging methods: PS-OCT and depolarized light microscopy. The preliminary assessment of the degree of polarization (DOP) in histological thin sections enables the quantification of the pathohistological zones of caries. Demineralized areas in enamel as well as demineralized, sclerotic, and healthy dentin can be visualized color-independently. The cause of depolarization in enamel and dentin is different. The study provides insights for the evaluation of PS-OCT data in-vivo. Conclusion: For the valid interpretation of future clinical PS-OCT data, it is necessary to investigate the polarization-optical properties of dental hard tissues more closely. This was achieved by the evaluation of the degree of polarization (DOP) with polarized light microscopy and PS-OCT in histological preparations, contributing to the fundamental understanding of PS-OCT volumetric data for future dental practice. The presented methods are also a relevant addition to classical dental histology for characterizing carious lesions.

Nous avons étudié les films de Langmuir de copolymères PS-b-PAA et la formation de nanostructures inorganiques par réduction d’ions Ag+ à leur voisinage. D’une part, nous avons déterminé précisément la structure de ces copolymères à l’interface air-eau pour différents pH, à l’aide de techniques complémentaires (isothermes π-A, réflectivité de neutrons, diffusion de rayons x rasants). Cette étude a démontré que l’interprétation usuelle de ces isothermes devait être reconsidérée et en particulier nous avons mis en évidence le rôle majeur du solvant d’étalement. Ce dernier reste partiellement adsorbé à la surface après le dépôt, la monocouche mixte copolymère-solvant est alors formée de nanostructures de surface. Ces nanostructures ont de taille caractéristique bien. Lorsque les chaînes de PAA sont neutres, le pseudo-plateau observé sur les isothermes correspond à l’expulsion réversible du solvant vers la sous-phase ce qui induit une réorganisation des nanostructures. Dans le cas de chaînes de PAA chargées, l’isotherme ne présente plus ce pseudo-plateau. Ceci est dû aux répulsions électrostatiques entre ces chaînes. La compression du film entraîne le «plongeon» d’une partie de la monocouche, copolymère et solvant, vers le volume. D’autre part, nous avons étudié le comportement des films de copolymères chargés en présence d’ions Ag+ dans la sous-phase avant et après leur réduction. Nous avons montré que la présence d’ions Ag+ induit le collapse des chaînes PAA à l’interface. La réduction des ions par la radiolyse de surface via les rayons x, produit des colloïdes d’argent agrégés selon une structure 2D «bicontinue» de taille caractéristique marquée. En revanche, la réduction par photochimie ne semble pas produire de couche homogène et dense de colloïdes. / We studied the copolymer PS-b-PAA Langmuir films and the formation of non-organic nanostructures by reduction of silver ions Ag+ in their neighborhood. On the one hand, we have precisely determined the structure of these copolymers at the air-water interface for different pH with many complementary techniques (isothermal, ?-A, neutron reflectivity, grazing-incidence x-ray scattering). This study proved that the classic interpretation of these isotherms should be reconsidered and we emphasized the major role played by the spreading solvent. This (solvent) is partially absorbed by the surface after the deposit and the mixed copolymer-solvent monolayer is created by the surface nanostructure. These nanostructures have a well-defined typical size. When the PAA chains are neutral, the pseudo-surface observed on the isotherms correspond to the reversible expulsion of the solvent to a subphase which induces a reorganization of the nanostructures. In the case of charged PPA chains, the isotherm does not show the flat surface. This is due to the electrostatic repulsion between these chains. The compression of the film induces the ?dive? of a part of the monolayer ? copolymer and solvent ? towards the volume. On the other hand, we studied the behavior of these charged copolymer films in the presence of silver ions Ag+ in the before and after reduction. We showed that the presence of ions Ag+ ions induces the collapse of the PAA chains at the interface. The ions reduction by surface x-rays radiolysis produces silver colloids following a ?bi-continuous? 2D structure with a typical length scale. However, the photo-chemical reduction does not seem to produce homogenous and dense layers of colloids.

Foi realizado um estudo entre 10 dentistas da cidade de Itu, interior do estado de São Paulo, para avaliar o impacto do conhecimento e aplicação das ferramentas de marketing nos consultórios odontológicos. Para isso foi feito um levantamento inicial e selecionado profissionais que não haviam tido nenhum contato especifico com cursos ou consultorias de marketing anteriormente. O protocolo final sugerido com 11Ps foi uma fusão adaptada baseada nas tradicionais ferramentas de marketing divulgadas por Kotler o mix de marketing; os 4P`s de serviço e complementares desenvolvidos e creditados a Lovelock; as estratégias de marketing baseadas nas armas da Madia Matrix e finalmente num plano de carreira com orientação financeira e qualidade de vida. Em apenas quatro meses todos os pesquisados tiveram expressivas melhorias de posicionamento e estratégia, aumento na receita bruta mensal, mudança de atitudes através das ferramentas sugeridas e finalmente grande percepção da importância do marketing aplicado em suas vidas profissionais. Os resultados demonstraram que o marketing pode ser um recurso eficiente, pode ser melhor utilizado pelos dentistas e deve ser visto como um aliado imprescindível na condução da sua vida profissional. / The research was conducted among 10 dentists in the city of Itu, in state of São Paulo, to evaluate the impact of knowledge and application of marketing tools in the dental office. To this research was done an initial survey and selected only professionals who had not any contact with specific courses or marketing consultancies previously. The final protocol with 11 Ps was suggested based on the traditional Marketing Mix released by Kotler, the 4 Ps Lovelock supplementary and complementary actions based on weapons of Madia Marketing Matrix and a career plan with financial quidance and quality of life. In less than four months all subjects had significant improvements in positioning and strategy, increase in gross monthly income, changing attitudes through the suggested tools and finally great sense of the importance of marketing applied in their professional lives. The results demonstrated that marketing can be a efficient tool that can be better used and should be a great allied in their career.

Les membranes plasmiques et les membranes du trans-Golgi des cellules eucaryotes présentent une asymétrie des lipides qui les composent, avec les aminophospholipides (APLs : phosphatidylsérine et phosphatidyléthanolamine) enrichis dans le feuillet cytosolique. La dissipation de cette asymétrie est impliquée dans de nombreux processus (patho)physiologiques. Plusieurs études suggèrent que les ATPases P4 sont les candidats les plus probables pour le transport des APLs et le maintien de leur distribution asymétrique ; leur délétion dans la levure inhibe le trafic membranaire. En outre, des études ont montré que les ATPases P4 interagissaient avec les protéines de la famille CDC50 ; cette interaction est essentielle pour l’adressage et peut-être aussi la fonction des ATPases P4. Afin de contribuer à la compréhension du mécanisme de transport des lipides par les ATPases P4, l’objectif de ce travail a été de mettre au point la co-expression fonctionnelle, dans la levure, de l’ATPase P4 Drs2p et de sa protéine partenaire Cdc50p. Nous avons obtenu une fraction membranaire enrichie à 3% avec la protéine Drs2p, majoritairement en complexe avec Cdc50p. L’étude fonctionnelle du complexe nous a permis de mettre en évidence un rôle crucial du phosphatidylinositol-4-phosphate (PI(4)P), un important régulateur du trafic membranaire, au cours d’une étape particulière du cycle catalytique. Nous avons également développé un protocole de purification sur résine streptavidine du complexe Drs2p/Cdc50p. Enfin, comme un site potentiel d’interaction avec le PI(4)P est présent sur l’extrémité C-terminale de Drs2p, nous avons engendré différentes constructions de Drs2p, dans lesquelles une partie de l’extrémité C-terminale a été délétée ; dans une autre construction, l’extrémité N-terminale a également été délétée. Notre travail ouvre la voie à la caractérisation fonctionnelle et structurale détaillée du complexe Drs2p/Cdc50p, et à l’étude du rôle du transport de lipides dans le trafic membranaire. / Trans-Golgi membranes and plasma membranes of eukaryotic cells are asymmetric, with their cytosolic leaflet enriched in aminophospholipids (APLs: phosphatidylserine and phosphatidylethanolamine). Dissipation of this asymmetry is involved in many (patho)physiological processes. P4 ATPases are prime candidates for APL transport and for maintaining asymmetry across membranes. In addition, yeast deleted for P4 ATPases display membrane trafficking defects. Besides, CDC50 proteins have been shown to interact physically with P4 type ATPases, and this interaction is important for addressing the complex to the right destination, and possibly also for its function. To gain insight into the molecular mechanism of lipid transport by P4 ATPases, the goal of my thesis was to develop the co-expression, in yeast, of a functional P4 ATPase, Drs2p, together with its partner, Cdc50p. The strategy we developed allowed us to obtain a membrane fraction enriched in Drs2p (~3%), mainly in complex with Cdc50p. Functional characterization of the complex identified phosphatidylinositol-4-phosphate (PI4P), a major regulator of membrane trafficking, as a crucial component for rapid completion of the Drs2p/Cdc50p catalytic cycle. We also purified the complex in one step on streptavidin beads. Finally, we started investigating the potential auto-inhibitory roles of the C-terminus (as the C-terminus of Drs2p contains a PI4P binding site) and the N-terminus of Drs2p, by expressing various truncated versions of Drs2p. Our work sets the stage for detailed functional and structural characterization of the Drs2p/Cdc50p complex and its role in membrane traffic.

Le coût de la poursuite de la miniaturisation des transistors en-dessous de 14 nm demande l’introductionde techniques moins onéreuses comme l’approche auto-alignée par copolymères à blocs (DSA) combinéeà la lithographie 193 nm. Etudiée principalement pour des motifs de tranchées (pour les FinFETs)ou de cylindres verticaux (pour les trous de contact, c’est ce cas qui nous intéressera), le polystyrène-bpolyméthylmétacrylate(PS-b-PMMA) est un des copolymères à blocs les plus étudiés dans la littérature,et dont la gravure présente de nombreux défis dûs à la similarité chimique des deux blocs PS et PMMA.Proposer une solution à ces défis est l’objet de cette thèse.Dans notre cas où le PS est majoritaire, le principe est d’obtenir par auto-organisation des cylindresverticaux de PMMA dans un masque de PS. Le PMMA est ensuite retiré par solvant ou par plasma,les motifs ainsi révélés dans le PS peuvent être alors transférés en utilisant ce dernier comme masque degravure. Une couche de copolymères statistiques PS-r-PMMA neutralise les affinités du PS/PMMA avecle substrat et permet l’auto-organisation.Un des problèmes majeurs est le contrôle des dimensions ; traditionnellement, le PMMA est retiré paracide acétique et le PS-r-PMMA gravé par plasma d’Ar/O2 qui aggrandit le diamètre des trous (CD)en consommant lattéralement trop de PS. Des temps de recuit acceptables pour l’Industrie donnent ausommet du masque de PS une forme de champignon induisant une dispersion importante des diamètresmesurés (~4-5 nm).Nos travaux montrent que la dispersion de CD peut être corrigée par plasma en facettant le sommetdes motifs. Dans un premier temps, un procédé de retrait du PMMA par plasma continu de H2N2 a étédéveloppé afin de s’affranchir des problèmes induits par l’acide acétique et les plasmas à base d’O2. Cecia permis de révéler des défauts d’organisation non rapportés dans la littérature à notre connaissance : desfilms de PS de quelques nanomètres peuvent aléatoirement se trouver dans le domaine du PMMA et ainsibloquer la gravure de certains cylindres. Afin de graver ces défauts sans perdre le contrôle des dimensions,un procédé composé d’un bain d’acide acétique et d’un plasma synchronisé pulsé de H2N2 à faible rapportde cycle et à forte énergie de bombardement a été mis au point. Il permet de retirer le PMMA, facetterle sommet du PS (ce qui réduit la dispersion de CD à moins de 2 nm), graver les défauts et la couche deneutralisation tout en limitant l’agrandissement des trous à moins d’un nanomètre. La dernière difficultévient des dimensions agressives et du rapport d’aspect important des trous de contact gravés. Afin delimiter la gravure latérale et la consommation des masques, des couches de passivation sont déposées surles flancs des motifs pendant la gravure mais à des échelles inférieures à 15 nm, ces couches de quelquesnanomètres sont trop épaisses et nuisent au contrôle des dimensions. Les plasmas doivent être alors moinspolymérisants et la création d’oxydes sur les flancs par ajout d’O2 doit être évitée.Enfin, les techniques de détermination des dimensions à partir d’images SEM ne sont plus assezrobustes à ces échelles. Afin d’en améliorer la robustesse, des algorithmes de reconstruction d’image etd’anti-aliasing ont été implémentés. / Shrinking transistor’s dimensions below 14 nm is so expensive that lower-cost complementary techniquessuch as Directed Self-Assembly (DSA) combined with 193 nm-lithography are currently beingdeveloped. Either organized as trenches for the FinFET’s fin or vertical cylinders for contact holes(which is our case study), Polystyrene-b-polymethylmetacrylate (PS-b-PMMA) is a well-studied blockcopolymer but introduces challenging etching issues due to the chemical similarities between the PS andPMMA blocks. The aim of this thesis is to overcome those etching challenges.In our case where PS is the dominant phase, the principle of DSA is to obtain through self-assemblya pattern of vertical cylinders of PMMA inside a mask constituted of PS. PMMA is then removed eitherby solvent or plasma, revealing the patterns in the PS mask, which will be used as an etching mask forpattern transfer. In order to allow self-assembly, a thin brush layer of random copolymers PS-r-PMMAis used to neutralize the affinity of each phase with the substrate.One of the main issues with DSA is the control of the dimensions (CD control): usually, PMMAis dissolved in acetic acid bath and the brush layer is etched by an Ar/O2 plasma which increasesdramatically the pore’s diameter (CD) by laterally etching the PS. Short duration of thermal annealingsuitable for the Industry induces some “mushroom” shape at the top of the mask which consequentlyincreases the measured CD dispersion (~ 4-5 nm).Our work shows that CD uniformity can be corrected by faceting the top of the patterns throughplasma etching. As a first step, a dry-etch process for PMMA based on H2N2 chemistry has beendeveloped in order to free ourselves from acetic-acid’s and O2-based plasma’s issues. As far as we know,the discovered kind of defects has never been reported in the literature: few nanometer-thick films madeof PS can randomly be found in the PMMA’s domain, thus delaying the etching of random cylinders. Inorder to etch those defects without loosing the CD control, an other process constituted of an acetic acidbath followed by a synchronously-pulsed H2N2 plasma at low duty cycle and high bias power has beendeveloped. This process removes PMMA, facets the top of the PS features (decreasing CD dispersionbelow 2 nm), etches both the defects mentionned above and the brush layer without increasing thepores’ diameters by more than one nanometer. One last etching challenge comes from the aggressivedimensions and the high aspect ratio of the contact holes. In order to limit the lateral etching and themask consumption overall, passivation’s layer are usually deposed on the sidewall of the features duringthe etching process, but at dimensions below 15 nm, those layers are too thick and cause a CD control lossthough they are only few-nanometer thick. The polymerization’s capacity of plasmas has to be loweredat this scale and oxidized layer’s formation by adding O2 to the plasma chemistry has to be avoided.Last but not least, the techniques based on SEM images to determine the pore’s dimensions are notrobust enough at those scales. In order to gain in robustness, image reconstruction and anti-aliasingalgorithm have been implemented.

La complexité et le coût croissant des processus nécessaires pour fabriquer des processeurs de plus en plus puissants de l'industrie microélectronique conduit à des structures de plus en plus petites. La photolithographie, technologie clé pour la nanostructuration, atteint aujourd'hui ses limites en termes de résolution. Des méthodes alternatives doivent donc être trouvées afin de continuer à produire des transistors plus efficaces, tout en gardant les coûts de production à un niveau raisonnable. La combinaison de la photolithographie classique et de l'auto-assemblage de copolymères à blocs (CPB) semble être une alternative prometteuse. Les copolymères à blocs ont la propriété de créer une séparation de phases à l'échelle du nanomètre grâce à l'incompatibilité chimique (décrite par le paramètre d'interaction chi) des blocs. De cette façon, lorsque cette séparation de phase est formée à la surface d’un substrat, des structures telles que des sphères, des cylindres ou des lamelles peuvent être obtenues et utilisées comme masques de gravure pour la nanostructuration. Le CPB le plus utilisé est le Polystyrène-Polyméthacrylate de méthyle (PS-PMMA), qui a été étudié pendant plus de 20 ans. Le PS-PMMA est un CPB de faible chi et ne peut pas atteindre des tailles de structure inférieure à 10nm. Plus l'incompatibilité des blocs (c’est-à-dire le chi) est importante, plus la taille des structures possibles est petite. Cette thèse traite principalement le système Polystyrène-Polydiméthylsiloxane (PS-PDMS), un CPB de haute valeur de chi, et évalue son éventuelle intégration dans l'industrie de la microélectronique. Des procédés ont été développés et optimisés en vue de leur utilisation future dans l'industrie. Un procédé de recuit commun pour les "high-chi" est le recuit sous vapeur de solvant (RVS), où la couche de CPB est exposée aux vapeurs de solvants. Les molécules de solvant gonflent le CPB et augment ainsi la mobilité des chaînes de polymère, permettant l’organisation des structures à grande échelle. Bien que ce procédé soit largement utilisé, il n'a jamais été rapporté sur des lignes de production à grande échelle. Le RVS est un processus très complexe qui est sensible à l'environnement et utilise souvent des solvants toxiques. Au cours de cette thèse, des mécanismes de RVS sont étudiés et des solvants non-toxiques qui sont compatibles avec l'environnement industriel sont proposés comme alternative. Une autre solution pour le recuit de CPBs "high-chi" sans solvant est également proposée. En formulant la solution de CPB avec des molécules de plastifiant, un auto-assemblage rapide avec un simple recuit thermique est possible. La faisabilité de ce processus a été démontrée sur des tranches de silicium de 300mm de diamètre. Le transfert des motifs par gravure est une étape importante et problématique en nanofabrication. Plus les tailles sont réduites, plus le facteur d'aspect est haut et le processus de gravure difficile. Des procédés de gravure par plasma différents, tous généralement utilisés dans les procédés de gravure industrielle, sont étudiés sur le matériau PS-PDMS. Des nanostructures de silicium de 10nm de large et des structures avec un rapport d'aspect de 6:1 ont été gravées avec succès. Enfin, un processus d’inclusion d’oxydes métalliques par simple dépôt par centrifugation a été démontré sur le polymère PS-PMMA. Ce BCP a l'avantage d’être un système bien connu grâce aux nombreux groupes de recherche qui s’y intéresse. Cependant, ses performances en gravure pour le transfert des motifs est peu satisfaisant à cause de la faible sélectivité entre les blocs PS et PMMA. Des procédés de gravure compliqués en plusieurs étapes doivent être effectués afin de transférer les motifs de manière satisfaisante. En introduisant des sels métalliques de manière sélective dans l'un des blocs, le contraste de gravure est considérablement augmenté et le transfert du motif peut être obtenu en une seule étape de gravure plasma. / The increasing cost and complexity of processes needed to keep up with the ever increasing demand for more powerful processors in the IC industry, lead to smaller and smaller feature sizes. Photolithography, once the workhorse for nanostructuration, reaches now its physical limits in terms of resolution. Other, alternative methods have thus to be found in order to continue producing more efficient integrated circuits, while keeping the production costs at a reasonable level. The combination of conventional photolithography and directed self-assembly of block copolymers (BCP) seems to be one promising alternative. Block copolymers have the unique property to phase separate at the nanometer scale driven by the chemical incompatibility (described by the Flory-Huggins interaction parameter chi) of the blocks. This way, when brought onto a substrate, structures like spheres, cylinders or lamellar can be obtained and used as etching masks for nanostructuration. Probably the most used BCP is Polystyrene-b-Polymethylmethacrylate (PS-b-PMMA), which has been studied for over 20 years. PS-b-PMMA is a so called “low-chi” BCP and can reach feature sizes not smaller than 10 nm. The higher the incompatibility of the blocks (i.e. the higher the chi-value), the smaller the obtainable feature size. This thesis deals primarily with “high-chi” Polystyrene-b-Polydimethylsiloxane (PS-b-PDMS) block copolymers and evaluates its possible integration into IC industry. Processes are developed and optimized in view of their future application in industry. A common annealing method for “high-χ” block copolymers is solvent vapor annealing (SVA), where the BCP layer is exposed to solvent vapors. Solvent molecules swell then the BCP layer, increasing the mobility of polymer chains and allowing long range ordering of the features. Although this method is widely used, it has never been reported on large scale production lines, for example on 300 mm wafers. The SVA is a very complex process that is sensitive to the environment and uses often toxic solvents. During this thesis, mechanisms of solvent vapor annealing are studied and safe solvents that are compatible with industrial environment are studied. Furthermore alternative solutions for annealing high-chi BCPs without solvents are proposed. Blending the BCP with plasticizer molecules, for example, leads to rapid self-assembly with thermal annealing and the feasibility of this process was shown on 300 mm wafers.Pattern transfer etching is a problematic step in IC nanostructuring. The smaller the features, the higher the aspect ratio, the more challenging the etching process. Different plasma etching procedures, all typically used in industrial gate etching processes, are studied on PS-b-PDMS. Challenging silicon features of down to 10 nm and aspect ratios of up to 6:1 are obtained.Finally, a simple spin-coating process of metal-oxide inclusion on widespread PS-b-PMMA is introduced in which etch selectivity of the BCP is highly increased. PS-b-PMMA has the advantage of being studied by numerous research groups and the understanding of the BCP is very advanced. However, its etching quality for pattern transfer are very poor as to the poor etch selectivity between PS and PMMA. Complicated multiple-step etching processes, where wet etching and dry etching are alternated have to be performed in order to transfer the patterns satisfactorily. By introducing metal salts selectively in one of the blocks, the etch contrast is considerably enhanced and the pattern transfer can be obtained in one single step of dry etching.

Foi realizado um estudo entre 10 dentistas da cidade de Itu, interior do estado de São Paulo, para avaliar o impacto do conhecimento e aplicação das ferramentas de marketing nos consultórios odontológicos. Para isso foi feito um levantamento inicial e selecionado profissionais que não haviam tido nenhum contato especifico com cursos ou consultorias de marketing anteriormente. O protocolo final sugerido com 11Ps foi uma fusão adaptada baseada nas tradicionais ferramentas de marketing divulgadas por Kotler o mix de marketing; os 4P`s de serviço e complementares desenvolvidos e creditados a Lovelock; as estratégias de marketing baseadas nas armas da Madia Matrix e finalmente num plano de carreira com orientação financeira e qualidade de vida. Em apenas quatro meses todos os pesquisados tiveram expressivas melhorias de posicionamento e estratégia, aumento na receita bruta mensal, mudança de atitudes através das ferramentas sugeridas e finalmente grande percepção da importância do marketing aplicado em suas vidas profissionais. Os resultados demonstraram que o marketing pode ser um recurso eficiente, pode ser melhor utilizado pelos dentistas e deve ser visto como um aliado imprescindível na condução da sua vida profissional. / The research was conducted among 10 dentists in the city of Itu, in state of São Paulo, to evaluate the impact of knowledge and application of marketing tools in the dental office. To this research was done an initial survey and selected only professionals who had not any contact with specific courses or marketing consultancies previously. The final protocol with 11 Ps was suggested based on the traditional Marketing Mix released by Kotler, the 4 Ps Lovelock supplementary and complementary actions based on weapons of Madia Marketing Matrix and a career plan with financial quidance and quality of life. In less than four months all subjects had significant improvements in positioning and strategy, increase in gross monthly income, changing attitudes through the suggested tools and finally great sense of the importance of marketing applied in their professional lives. The results demonstrated that marketing can be a efficient tool that can be better used and should be a great allied in their career.

Le procédé de dépôt physique en phase vapeur assisté par plasma thermique (PS-PVD) consiste à évaporer le matériau sous forme de poudre à l’aide d’un jet de plasma d’arc soufflé pour produire des dépôts de structures variées obtenus par condensation de la vapeur et/ou dépôt des nano-agrégats. Dans le procédé de PS-PVD classique, l’intégralité du traitement du matériau est réalisée dans une enceinte sous faible pression, ce qui limite les phénomènes d’évaporation ou nécessite d’utiliser des torches de puissance importante. Dans ce travail, une extension du procédé de PS-PVD conventionnel à un procédé à deux enceintes est proposée puis explorée par voie de modélisation et de simulation numérique : la poudre est évaporée dans une enceinte haute pression (105 Pa) reliée par une tuyère de détente à une enceinte de dépôt basse pression (100 ou 1 000 Pa), permettant une évaporation énergétiquement plus efficace de poudre de Zircone Yttriée de granulométrie élevée, tout en utilisant des torches de puissance raisonnable. L’érosion et le colmatage de la tuyère de détente peuvent limiter la faisabilité d’un tel système. Aussi, par la mise en oeuvre de modèles numériques de mécaniquedes fluides et basé sur la théorie cinétique de la nucléation et de la croissance d’agrégats, on montre que, par l’ajustement des dimensions du système et des paramètres opératoires ces deux problèmes peuvent être contournés ou minimisés. En particulier, l’angle de divergence de la tuyère de détente est optimisé pour diminuer le risque de colmatage et obtenir le jet et le dépôt les plus uniformes possibles à l'aide des modèles susmentionnés, associés à un modèle DSMC (Monte-Carlo) du flux de gaz plasmagène raréfié. Pour une pression de 100 Pa, les résultats montrent que la barrière thermique serait formée par condensation de vapeur alors que pour 1 000 Pa, elle serait majoritairement formée par dépôt de nano-agrégats. / Plasma Spray Physical Vapor Deposition (PS-PVD) aims to substantially evaporate material in powder form by means of a DC plasma jet to produce coatings with various microstructures built by vapor condensation and/or by deposition of nanoclusters. In the conventional PS-PVD process, all the material treatment takes place in a medium vacuum atmosphere, limiting the evaporation process or requiring very high-power torches. In the present work, an extension of conventional PS-PVD process as a two-chamber process is proposed and investigated by means of numerical modeling: the powder is vaporized in a high pressure chamber (105 Pa) connected to the low pressure (100 or 1,000 Pa) deposition chamber by an expansion nozzle, allowing more energetically efficient evaporation of coarse YSZ powders using relatively low power plasma torches. Expansion nozzle erosion and clogging can obstruct the feasibility of such a system. In the present work, through the use of computational fluid dynamics, kinetic nucleation theory and cluster growth equations it is shown through careful adjustment of system dimensions and operating parameters both problems can be avoided or minimized. Divergence angle of the expansion nozzle is optimized to decrease the clogging risk and to reach the most uniform coating and spray characteristics using the aforementioned approaches linked with a DSMC model of the rarefied plasma gas flow. Results show that for 100 Pa, the thermal barrier coating would be mainly built from vapor deposition unlike 1,000 Pa for which it is mainly built by cluster deposition.

Die europäische Zahlungsdiensterichtlinie enthält ein detailliertes Haftungsregime für Drittmissbrauch im bargeldlosen Zahlungsverkehr, das von den Mitgliedstaaten bis Ende Oktober 2009 in nationales Recht umzusetzen war. Ziel der harmonisierten Haftungsregelungen ist die Verbesserung von Wettbewerbsfreiheit, Rechtssicherheit und Verbraucherschutz sowie die Minderung von Missbrauch. Eine rechtsvergleichende Untersuchung zeigt jedoch, dass die Haftungsordnung diesen Zielvorgaben nicht konsequent folgt und zudem von fundamentalen Grundsätzen des europäischen Haftungsrechts abweicht. / The European Payments Services Directive contains detailed liability regulations concerning the abuse of non cash payments. The deadline of transposal for this Directive passed in October 2009. The key aims of the harmonized liability rules are amendment of competition, legal certainty, consumer protection and future reduction of abuse. However, a comparative analysis reveals a considerable lack of consistency in relation to those goals and a renunciation of basic principles of European liability law.

Die Arbeit geht der Frage nach, wie die meisten EU-Mitgliedstaaten eigenständige Regelungen für die Kontrolle ausländischer Direktinvestitionen haben können, obgleich ausländische Direktinvestitionen seit 2009 der gemeinsamen Handelspolitik der EU zuzuordnen sind. Die gemeinsame Handelspolitik ist eine ausschließliche Kompetenz der EU und schließt damit die Mitgliedstaaten von der Rechtsset-zung aus. Mit der Verordnung (EU) 2019/452 (Screening-Verordnung) werden den Mitgliedstaaten kaum Vorgaben gemacht, weshalb die Screening-Verordnung nicht als Ermächtigung der Mitgliedstaa-ten qualifiziert werden kann. Zunächst bestimmt die Arbeit die Weite der Kompetenzübertragung in Art. 207 AEUV im Bereich der autonomen Maßnahmen in Bezug auf ausländische Direktinvestitionen. Nachdem die Zuordnungskrite-rien der Rechtsprechung zur gemeinsamen Handelspolitik auf die neue Sachmaterie der ausländischen Direktinvestitionen übertragen wurde, werden verbreitete autonome Maßnahmen in Bezug auf auslän-dische Direktinvestitionen der gemeinsamen Handelspolitik zugeordnet. Unter Berücksichtigung des Art. 207 Abs. 2 AEUV stellt die Arbeit fest, dass die ausschließliche Kompetenz der EU im Bereich der autonomen Handelspolitik auf eine Rahmenrechtssetzungskompe-tenz beschränkt ist. Im Anschluss daran werden Kriterien für die Abgrenzung von Rahmenrechtsakten entwickelt. Sodann wird festgestellt, dass Art. 64 Abs. 2 AEUV eine geteilte Kompetenz für Vollrege-lungen für autonome Maßnahmen in Bezug auf ausländische Direktinvestitionen enthält und die aus-schließliche Rahmenrechtssetzungskompetenz der EU ergänzt. In Randbereichen kann sich ein Kompetenzvorbehalt zu Gunsten der Mitgliedstaaten ergeben. Die Arbeit untersucht daher die Regelungen zur nationalen Sicherheit in Art. 4 Abs. 2 EUV und Art. 346 Abs. 1 AEUV sowie den Eigentumsvorbehalt in Art. 345 AEUV. Abschließend stellt die Arbeit die Screening-Verordnung als Rahmenrechtsakt im Sinne des Art. 207 Abs. 2 AEUV dar. / The thesis examines the question of how most EU Member States can have independent regulations for the control of foreign direct investments, although foreign direct investments have become part of the EU's common commercial policy in 2009. The common commercial policy is an exclusive compe-tence of the EU and therefore excludes the member states from legislation in this field. Regulation (EU) 2019/452 (Screening Regulation) hardly sets any requirements for the member states, which is why the Screening Regulation cannot be qualified as an empowerment of the member states. First, the thesis determines the scope of the delegation of powers in Article 207 (1) TFEU in the area of autonomous measures in relation to foreign direct investments. After the classification criteria of the case law on the common commercial policy have been transferred to the new subject matter of foreign direct investments, widespread autonomous measures in relation to foreign direct investment are classified to the common commercial policy. Taking into account Article 207 (2) TFEU, the thesis establishes that the exclusive competence of the EU in the area of autonomous common commercial policy is limited to the competence to adopt framework regulations. Subsequently, criteria for framework regulations are developed. It is then es-tablished that Article 64 (2) TFEU contains a shared competence for regulations that goes beyond the scope of framework regulations for the autonomous regulation of foreign direct investment and supp-lements the EU's exclusive competence for framework regulations. In marginal areas, there may be a reservation of competence in favor of the member states. Therefo-re, the thesis examines the regulations on national security in Article 4 (2) TEU and Article 346 (1) TFEU as well as the reservation of ownership in Article 345 TFEU. Finally, the work presents the Screening Regulation as a framework regulation within the meaning of Article 207 (2) TFEU.