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UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文, 寒川, 誠二, 塚田, 勉 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度
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水素化アモルファスシリコン半導体の放射線照射効果に関する研究佐藤, 真一郎 26 March 2012 (has links)
Kyoto University (京都大学) / 0048 / 新制・論文博士 / 博士(工学) / 乙第12649号 / 論工博第4077号 / 新制||工||1547(附属図書館) / 29727 / (主査)教授 伊藤 秋男, 教授 高木 郁二, 准教授 土田 秀次 / 学位規則第4条第2項該当
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ラジカル制御を用いた表面反応過程及び薄膜形成に関する研究後藤, 俊夫, 河野, 明廣, 堀, 勝, 伊藤, 昌文 03 1900 (has links)
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:08405005 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1996-1998年度
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