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Processos de relaxação em sistemas longe do equilíbrio termodinâmicoMachado, Carlos Jose Freire 16 August 1985 (has links)
Orientador: Aurea Rosas Vasconcellos / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-14T14:54:30Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1985 / Resumo: Utilizamos o método do operador estatístico de não-equilíbrio desenvolvido, por D. N. Zubarev, baseado no formalismo da entropia máxima de E. T. Jaynes, para derivar um conjunto de equações de transporte que descrevem a evolução temporal de um plasma de semicondutor altamente excitado. A partir deste conjunto de equações obtemos a evolução temporal das variáveis termodinâmicas intensivas de interesse para a descrição do processo de relaxação do plasma, e aplicamos ao estudo dos semicondutores GaAs, CdS e CdSe / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Transição Mott exciton-plasma em CdSeMol, Anderson William, 1956- 24 July 1983 (has links)
Orientador: Eliermes Arraes Meneses / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-14T16:37:27Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1983 / Resumo: Fizeram-se medidas de fotoluminescência em regime de baixa e alta intensidade de excitação, para uma temperatura de banho do cristal de CdSe de 77 K, quando então o sistema, composto de elétrons e buracos livres. Esta transição pôde ser observada tanto pelo deslocamento da posição do pico para baixas energias, quanto pelo seu ganho óptico. Desenvolveu-se o cálculo teórico da densidade de transição utilizando o critério de Mott aplicado às condições experimentais. Obteve-se uma boa concordância entre este resultado e aquele encontrado a partir dos ajustes dos espectros de luminescência / Abstract: Photoluminescence measurements have been performed under low to high excitation level, for a crystal bath temperature of 77 K , when the system, electrons and holes, undergoes a Mott phase transition from an exciton gas to a free electron-hole plasma. This transition has been observed from the shift of the peak position to low energies as well as from its optical gain. The density has been evaluated theoretically by applying Mott criterion to the experimental conditions. We have obtained a good agreement between this experimental result and that from the fittings of luminescence spectra / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Condensação do plasma de elétrons e buracos fotoinjetados em CdsMotisuke, Paulo, 1943- 15 July 1977 (has links)
Orientador: Carlos Alfredo Arguello / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-14T19:38:52Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1977 / Resumo: Foram feitas medidas de espectros de transmissão e de luminescência, em amostras de CdS, sujeitas à altas densidades de excitações ópticas (ADEO) e à temperaturas criogênicas (~ 77oK e ~2oK). Os espectros de fotoluminescência mostraram ser muito difíceis de serem interpretados, quantitativamente, apesar de conterem muitas informações qualitativas. Assim sendo, dedicou-se à analise dos espectros de transmissão, que mostram:
ADEO podem fotoinduzir variações relativas no índice de refração, D n/n, com excitações de até ~106 W/cm2. Excitações superiores a estas não induzem D n/n adicionais;
alta concentração de portadores de carga fotoinduzidos podem diminuir a largura do "gap" de energia do material, bem como causar uma diminuição da vida média dos estados eletrônicos;
ADEO podem fotoinduzir, tanto uma amplificação (ganho), como uma atenuação (absorção) do feixe de luz transmitido pela amostra. Esta absorção ou ganho depende da região espectral em questão;
a posição espectral de transição ganho-absorção, definida como potencial químico do sistema, sofre um deslocamento de apenas ~2.6 meV (i.é de 2.5426 eV para 2.540 eV), quando a excitação é variada de ~105 W/cm2 para ~107 W/cm2;
o espectro de ganho-absorção apresenta uma longa cauda do "gap" de energia renormalizado.
Todas estas observações experimentais podem ser explicadas com um modelo simples de plasma de elétrons e buracos, se admitir que existe uma condensação deste plasma para uma concentração de equilíbrio, Neq~1018 cm-3, dependente da temperatura efetiva dos portadores / Abstract: Not informed. / Doutorado / Física / Doutor em Ciências
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Propagação de ondas ions-acusticas em plasmas quiescentesOliveira, Ivo de Castro 21 July 1978 (has links)
Orientador: Ricardo Magnus Osorio Galvão / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-15T00:35:41Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1978 / Resumo: Ondas íon-acusticas lineares e não lincares são estudadas experimentalmente em plasmas quiescentes. As ondas são excitadas quando um pulso de tensão é aplicado à uma única grade. Para a formação de ondas íon-acusticas a "sheath" concentração de íons em torno da grade quando esta é deixada flutuar no plasma desempenha um papel importante.
É fei ta uma análise do efeito das colisões íons-partículas neutras no amortecimento da onda.
Quando uma grande tensão degreu positiva é aplicada à grande, são excitadas ondas íon-acusticas não lineares. É observada a distorção não lineares do pacote de onda excitado devido a efeitos de interação não linear partícula-onda / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RFBalachova, Olga Viatcheslavovna 19 June 1998 (has links)
Orientador: Edmundo da Silva Braga / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-07-23T20:25:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1998 / Resumo: Os filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) foram fabricados através da técnica de deposição química a partir da fase de vapor assistida por plasma de rádio freqüência ( RF ), em um reator de placas paralelas, utilizando como fonte gasosa o metano ( CH4). Os filmes de carbono (a-C:H) foram depositados sobre substratos de silício ( Si ), óxido de silício ( Si02 ) e quartzo de espessuras diferentes. Foram obtidas as curvas características da taxa de deposição dos filmes de carbono em função da potência de RF e da espessura do substrato. Foi estudado o comportamento dos filmes de carbono (a-C:H) no plasma de oxigênio ( 02 ) e tetrafluoreto de carbono (CF 4 ) e foram obtidas as curvas de taxas de corrosão correspondentes. Também como resultado das experiências foram obtidas as curvas de taxa de corrosão de Si e Si02 no plasma de CF 4. Foram determinados também os valores da taxa de corrosão do fotorresiste Az 5214 no plasma de O2 e CF 4 / Mestrado / Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica / Mestre em Engenharia Elétrica
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Instabilidades resistivas em sistemas de confinamento magnético com campo reversoSantiago, Marcos Antonio Matos 23 July 1982 (has links)
Orientador: Ricardo Magnus Osorio Galvão / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-16T16:34:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1982 / Resumo: Estudamos modos resistivos na configuração de campo reverso incluindo o efeito da rotação da coluna de plasma a qual quebra-se em um número discreto de anéis ao longo de seu comprimento.
É mostrado que o modo m = 0, onde m é o número azimutal, se reduz ao modo "tearing" usual somente no limite de rotação nula do plasma. Para um valor finito da rotação, o modo m = 0 torna-se compressivel, com sua taxa de crescimento proporcional à potência 1/3 da resistividade do plasma. A análise feita é análoga à do modo gravitacional resistivo em uma "fatia de plasma".
Um modo resistivo m = 1 é mostrado existir nesta configuração sem cizalhamento. Este modo tem um perfil radial quase constante desde o eixo magnético até, o raio onde o campo magnético se anula. Sua taxa de crescimento varia com a potência 1/3 da resistividade do plasma e os correspondentes deslocamentos perturbados paralelos às linhas de campo são muito maiores que os perpendiculares na região resistiva. Este modo pode levar ao rompimento da coluna de plasma em muitos anéis e ser o mecanismo responsável pela instabilidade rotacional m = 1 que é observada em descargas em q-pinches. É mostrado que com cizalhamento na rotação a taxa de crescimento torna-se complexa e o modo pode ser estabilizado / Abstract: Resistive modes are studied in the reversed - field configuration including the effect of the rotation of the plasma column which breaks into a number of discrete rings along its length.
It is shown that the mode m = 0, where m is the azimuthal mode number, reduces to the usual tearing mode only in the limit of vanishing plasma rotation. For a finite value of rotation, the mode = 0 mode becomes compressional with its growth rate proportional to the 1/3 power of the plasma resistivity. The analysis made is analogous to the gravitational resistive mode in a "slab plasma".
A resistive m = 1 mode is shown to exist in the present configuration whithout shear. The mode has an almost constant radial profile from the magnetic axis to the radius where the magnetic field vanishes. Its growth rate scale with the 1/3 power of the plasma resistivity and the corresponding perturbed displacement parallel to the field lines is much larger than the perpendicular on in the resistive region. This mode may lead to the splitting of the plasma column into many rings and may also be a triggering mechanism for the rotational m = 1 instability that is observed in q-pinch discharges. It is shown that in the presence of sheared rotation, the growth rate becomes complex and the mode may be stabilized. / Doutorado / Física / Doutor em Ciências
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Modelo de um gás de buracos negros sujeito a um campo gravitacional de fundo para núcleos ativos de galaxias com aplicação ao calculo dos espectros contínuos de emissão de partículas de massa nula (fótons, neutrinos e grávitons)Pinto Neto, Antonio 12 January 1987 (has links)
Orientador: Jose Inacio Cotrim Vasconcellos / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-16T22:42:32Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1987 / Resumo: Apresentamos neste trabalho, um novo modelo teórico para Núcleos Ativos de Galáxias que descreve o espectro contínuo de partículas de massas de repouso nulas (fótons, neutrinos e grávitons) no intervalo de freqüências desde o rádio até raios g. O modelo consiste em um gás de buracos negros em interação com um campo gravitacional de fundo.
Os modelos anteriormente proposto para os Núcleos Ativos de Galáxias, sejam aqueles que admitem um buraco negro super-massivo no centro da galáxia (modelos de Lynden-Bell e Hills), seja o modelo de um gás ideal de buracos negros na ausência de campos gravitacionais de fundo (HGBN) proposto por Vasconcellos Guerra são também expostos.
Toda a fundamentação teórica baseada na Teoria Geral da Relatividade de Einstein para a definição e estudo das propriedades das singularidades (buracos negros), sejam como um dos possíveis estados terminais da evolução estelar, sejam na forma de buracos negros primordiais são também apresentados / Abstract: Not informed. / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Construção e diagnóstico de um maçarico de plasma para corteVicente, Luiz Carlos 16 April 1985 (has links)
Orientador: Aruy Marotta / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-07-17T12:44:53Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1985 / Resumo: Foi construído um maçarico de plasma para corte e uma fonte de potência, onde realizamos corte de chapas inox de até 16,0 mm de espessura, com velocidade de corte de 0,5 m/min e potência relativamente baixa (~ 8 KW), usando somente argônio como gás de trabalho.
Foram feitos estudos qualitativos sobre a entrada do gás em vórtice, pressão dinâmica e também dos diversos problemas encontrados no maçarico de plasma construído, como por exemplo, arco duplo, instabilidade da coluna, etc. Foi estimada a temperatura central da coluna de plasma (T0 ~ 11,4x103 K), usando parâmetros de corte.
Fizemos um estudo do comportamento da coluna de plasma, quando esta é confinada por um canal refrigerado, usando a equação de Elenbaas-Heller.
A distribuição radial da temperatura na coluna de plasma foi determinada usando espectroscopia. Para isso, construímos um sistema óptico espectral de alta resolução espacial (da ordem de 37,5 mm) e um anodo rotatório. Sendo a coluna não homogênea, foi necessário utilizar a Transformada de Abel para inverter a intensidade lateral medida experimentalmente, para a intensidade radial das linhas espectrais observadas.
A temperatura foi determinada pela razão de intensidades relativas das linhas 4300 Þ e 4259 Þ do átomo de argônio, supondo que o plasma se encontra em equilíbrio termodinâmico local. A temperatura central obtida foi de 6x103 K. Essa temperatura, que é quase a metade da estimada acima se deve a que a potência elétrica empregada aqui foi aproximadamente a metade da empregada no corte / Abstract: A plasma-torch for cutting metals and a power supply have been built and are working reliably. The plasma-torch is cutting 16 mm thickness stainless steel with a velocity of 0.5 m/min, using electrical power of 8 KW and argon as working gas. During this work we identified and solved problems like double arc, low dynamic pressure and instabilities which prevented the plasma-torch of working well.
We performed calculations using a simple model described by the Elenbaas-Heller equations which showed some of the important qualitative features of the plasma-torch.
In order to make spectroscopic measurements a rotatory anode was projected and build. Using this anode, the plasma torch and an optical set-up with a spatial resolution of 37.5 mm we measured the temperature profile of the argon plasma jet. For this purpose we assumed L.T.E. and optically thin plasma conditions and the temperature was found through the relative intensities of argon lines. The center temperature was 6,000 K / Mestrado / Física / Mestre em Física
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Aplicação do metodo das diferenças finitas no dominio do tempo a meios giroeletricos dispersivos : plasma magnetizadoSegatto, Marcelo Eduardo Vieira 01 September 1994 (has links)
Orientador: Attilio Jose Giarola / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica / Made available in DSpace on 2018-07-19T21:32:35Z (GMT). No. of bitstreams: 1
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Previous issue date: 1994 / Resumo: A formulação das diferenças finitas no domínio do tempo (FDTD), para a análise das características de propagação de estruturas bidimensionais e tridimensionais contendo materiais giroelétricos e dispersivos, é apresentada. Nesta formulação, o método FDTD é usado na solução numérica das equações rotacionais de Maxwell no domínio do tempo. Como resultado, o sistema de equações, diferenciais parciais formado pelas componentes dos campos elétrico e magnético é substituído por um sistema de equações de diferenças finitas que será resolvido iterativamente. A formulação foi desenvolvida para incluir materiais giroelétricos dispersivos (neste caso, um plasma magnetizado), com perfil de índice de refração variando arbitrariamente e limitados por paredes metálicas condutoras perfeitas. A variação percentual da freqüência de ressonância de uma cavidade, completamente preenchida com plasma, é calculada em função das freqüências do plasma e as características de dispersão, para estruturas envolvendo o guia retangular preenchido com plasma também são calculadas em função das freqüências do plasma. O desenvolvimento teórico foi usado para resolver problemas particulares e os resultados têm mostrado boa concordância com aqueles obtidos utilizando-se outros métodos. Resultados foram obtidos para algumas estruturas de guiamento de ondas, de grande interesse, particularmente no desenvolvimento de dispositivos utilizados em circuitos integrados de microondas / Abstract: A formulation of the finite difference method in the time domain, for analysis of the propagation characteristics of bidimensional and tridimensional structures, is presented. In this formulation, the finite difference in the time domain method is used for a numerical solution of Maxwell's equations in time domain. As result, the system of partial difference equations of the electric and magnectic field components is replaced by a system of finite difference equations that will be solved following an iterative procedure. The formulation was developed to include dispersive gyroelectric materials (in this case, magnetized plasma), with a refractive index profile varying arbitrarily, and limited by perfect1y conducting metal walls. The percent variation of the ressonant frequency of a cavity, completely filled with plasma, is calculated as a function of plasma frequency. Dispersion characterists are also calculated for a rectangular waveguide filled with plasma, as functions of the plasma frequency. The theorical development was used to solve particular problems and the results show a good agreement with those obtained using other methods. Results were also obtained for some waveguide structures, of particular interest in the development of microwave integrated circuits / Mestrado / Mestre em Engenharia Elétrica
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Estudo do comportamento magnético de plasma durante o processo de implantação iônica por imersão em plasma /Mitma Pillaca, Elver Juan de Dios. January 2007 (has links)
Orientador: Konstantin Georgiev Kostov / Banca: Joaquim José Barroso de Castro / Banca: Mario Ueda / Resumo: O estudo do efeito do campo magnético sobre o processo de implantação iônica por imersão em plasma (3IP) é de grande interesse para o tratamento de materiais. Sendo 3IP uma técnica relativamente nova e de grande relevância para diversas aplicações tecnológicas é importante que ela seja pesquisada e analisada detalhadamente. A aplicação de um campo magnético estático, transversal em relação ao campo elétrico formado durante este processo produz um sistema de campos cruzados ExB. Este sistema de campos cruzados gera um aumento significativo da densidade de plasma na vizinhança do alvo, resultando num maior corrente de implantação, e conseqüentemente um tratamento mais rápido e uma dose retida mais alta em relação ao processo 3IP convencional. Neste trabalho, analisamos mediante simulação numérica, o efeito da distribuição do campo magnético axial no processo 3IP. O campo magnético é produzido por um par de bobinas instaladas fora da câmara de vácuo cujos raios e distância de separação são variadas. Encontramos que a densidade de corrente de implantação depende essencialmente da configuração do campo magnético. Assim, com uma adequada configuração das bobinas (10,0 cm de raio e 42,0 cm de separação) obtivemos uma densidade de corrente quase uniforme de aproximadamente 1,5 mA/cm2 que é 1.5 vezes maior em relação ao caso do sistema 3IP sem campo magnético. O efeito da tensão aplicada assim como da pressão do gás sobre o plasma no processo 3IP é também investigado. O sistema 3IP com campos ExB cruzados é estudado utilizando a técnica de simulação numérica em duas dimensões. Esta simulação é realizada com o código computacional KARAT que emprega o algoritmo "particle-in-cell" (PIC) para simular o movimento de partículas carregadas no campo eletromagnético. / Abstract: Detailed investigation of the effect of magnetic field on the process of plasma immersion ion implantation (PIII) is of great interest for the material treatment. Being a relatively novel and of great relevance for technological applications technique, the PIII demands further research and careful analysis. The application of static magnetic field, transversal in respect to the electric field established during this process, produces a system of crossed fields ExB. This system of crossed fields promotes an increase of the plasma density, resulting in higher implantation current, and consequently in a shorter treatment time and a higher retained dose in comparison to the conventional PIII process. In this work we have analyzed by means of numerical simulation the effect of magnetic field distribution on the PIII processing. The magnetic field is produced by a pair of external coils, whose radii and separation distance were varied. We found that the density of the implantation current essentially depends on the magnetic field configuration. Thus, with an appropriate configuration of the coils (10,0 cm radius and separation of 42,0 cm) we have obtained an almost uniform current density of approximately 1,5 mA/cm2 that is 1,5 times bigger in relation to the case PIII without magnetic field. The effect of the target bias as well as the gas pressure on the ion current incident on the target is also investigated. The PIII system with crossed ExB fields has been studied using two-dimensional numerical simulation. The simulation is accomplished by the computer code KARAT which employs the particle-in-cell (PIC) algorithm for simulating the movement of charged particles in the electromagnetic field. / Mestre
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