Nesse trabalho são apresentados estudos sobre a deposição de filmes finos de óxidos semicondutores, óxido de zinco (ZnO), dióxido de titânio (TiO2) e dióxido de silício (SiO2), por meio da técnica denominada magnetron sputtering, utilizando fontes de potência de rádio frequência e corrente contínua. Os filmes de óxidos foram crescidos sobre substratos de silício e dióxido de silício, variando-se alguns parâmetros de deposição como: a distância axial (z0), a concentração de oxigênio na mistura de Ar e O2, a temperatura do substrato, a pressão de trabalho e a potência aplicada. As amostras foram caracterizadas por perfilometria, difração de raios-X (XRD), quatro pontas, RBS (Rutherford backscattering spectrometry) e nanoindentação. Os resultados mostraram que os filmes produzidos apresentam alterações estruturais de acordo com os parâmetros de deposição. Através das correlações entre os parâmetros de deposição e as características dos filmes, foi possível selecionar um conjunto de amostras com características elétricas e mecânicas mais adequadas para uso em sensores piezoresistivos. Entre os óxidos estudados, o ZnO foi o que apresentou melhores características, chegando-se a obter filmes com resistividade elétrica na ordem de 10-2 ?.cm, módulo de elasticidade de 156 GPa e gauge factor de 2,4. Destaque especial deve ser dado à eficiência do processo de recozimento térmico na obtenção desses resultados.

Made available in DSpace on 2014-06-11T19:22:16Z (GMT). No. of bitstreams: 0 Previous issue date: 2006-11-23Bitstream added on 2014-06-13T20:28:24Z : No. of bitstreams: 1 vigano_lls_me_botfca.pdf: 315511 bytes, checksum: 1c704179aaf952553a743ea80191f02c (MD5) / Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) / O presente trabalho teve como objetivo avaliar o efeito da assistência de ar junto à barra de pulverização e três volumes de aplicação na dessecação e deposição da calda em arroz vermelho sob cultivo de nabo forrageiro em recuperação de áreas de várzeas, pulverizado com herbicida paraquat e corante azul brilhante, respectivamente. Os volumes de calda de pulverização foram 100, 200 e 300 L ha-1, da solução contendo corante alimentício (0,15%, p/v). Tanto na presença do ar junto à barra quanto na sua ausência foram utilizadas pontas de pulverização de jato plano tipo AXI 110015 a pressão de 117,3 kPa, AXI 11002 e AXI 11003 a pressão de 276 kPa. A avaliação da deposição da pulverização deu-se em folhas de plantas de arroz vermelho. Verificou-se nos resultados que houve diferença na deposição entre diferentes técnicas e volumes de calda testados nas plantas de arroz vermelho. Maior deposição foi alcançada pelo maior volume aplicado (300 L ha-1) com a assistência de ar junto à barra pulverizadora. Não se constatou diferença na deposição quando aplicados os volumes de 100, 200 e 300 L ha-1 sem assistência de ar e 200 e 300 L ha-1 com assistência de ar. As maiores porcentagens de dessecação de arroz vermelho foram constatadas com a aplicação de 300 L ha-1, tanto na presença quanto na ausência de assistência de ar junto à barra pulverizadora. / The aim of this research was to evaluate the effect of air-assistance on spraying at three volumes in the dessecation and deposition on red rice under fodder radish cultivation. To evaluate the dessecation and spray deposition were used paraquat herbicide and a Brilliant Blue dye, respectively. The three volumes of spray were 100, 200 and 300 L ha-1, using a tracer dye at 0,15% (w/v). Both solution used flat fan nozzles AXI 110015 at 117.3 kPa, AXI 11002 and AXI 11003 at 276 kPa. The evaluation of deposition was made on red rice leaves. We observed no significant different deposition between spray techniques and application volumes on red rice plants. Higher deposition was obtained by 300 L ha-1 application with air assistance in the spray boom. No difference it was observed on spray deposition at 100, 200 and 300 L ha-1 volumes without air assistance and at 200 as well as 300 L ha-1 with air assistance. The highest percentages of red rice dessecation were observed with 300 L ha-1 application with or without air assistance at the sleeve boom sprayer.

A deposição em regime de subtensão (DRS) tem sido amplamente utilizada para a formação de filmes semicondutores, mas muito pouco utilizada para estudar a dopagem de filmes eletrodepositados. Logo, neste trabalho é discutido o uso da DRS como técnica de dopagem de filmes de selênio. Para isso, estudou-se as condições de deposição de um filme de selênio trigonal sobre substrato de ouro (f-Se) e sua posterior modificação com a DRS de Bi (f-Se_Bi), Pb (f-Se_Pb) e Cu (f-Se_Cu). Estudos empregando voltametria cíclica, cronoamperometria, microscopia óptica, microscopia de varredura eletrônica e difração de raio-X evidenciaram a produção de um filme altamente cristalino, homogêneo e aderente formado por estruturas hexagonais em forma de microbastões com diâmetros entre 300 e 600 nm. Contudo, o filme com as características citadas é formado somente com a deposição a 80 ºC em HNO3 0,1 mol L-1 contendo SeO2 0,02 mol L-1, com polarização do substrato em -0,45 V (vs SCE), sob iluminação com lâmpada de halogênio 100 W, irradiância de 200 mW cm-2, agitação magnética e tempos de deposição ≥ 600 segundos. Essas estruturas são mantidas mesmo após a DRS dos metais, a qual foi caracterizada empregando a microbalança eletroquímica de cristal de quartzo (MECQ). A partir do perfil massométrico constatou-se a ocorrência de difusão dos metais para o interior da fase de selênio, visto que não se observou a saturação da superfície do filme. Além disso, os metais apresentam cinética de difusão diferentes, onde o metal com maior difusão é o cobre, sendo o único a apresentar dopagem efetiva da matriz de selênio. A caracterização óptica dos filmes determinou um band gap de aproximadamente 1,87 ±0,03 eV para f-Se, f-Se_Pb e f-Se_Bi, entretanto, o f-Se_Cu apresentou band gap de 3,19 eV. Ainda assim, ao avaliar a atividade fotoeletroquímica dos semicondutores constatou-se a obtenção de fotocorrentes distintas entre eles. O f-Se_Bi produz fotocorrente 3 vezes maior que o f-Se_Pb e 35 vezes mais elevada que os demais, embora o selênio puro e os filmes dopados com DRS de Bi e Pb apresentem densidade de portadores de carga similares, aproximadamente 6,0 x1015 cm-3, enquanto o f-Se_Cu exibe um aumento de 4 ordens de grandeza para o mesmo parâmetro. Logo, a elevada fotocorrente do filme f-Se_Bi está relacionada com a minimização da recombinação de cargas na interface semicondutor-eletrólito, enquanto a baixa fotocorrente exibida pelo f-Se_Cu se deve à elevada energia de band gap do filme. De qualquer forma, a dopagem de filmes semicondutores com a DRS mostrou ser uma maneira simples e barata de dopagem de filmes relativamente espessos. / The underpotential deposition (UPD) have been widely used to production of semiconductor films, but not applied to search the doping of electrodeposited films. Therefore, here is discussed the use of UPD as a technique to doping selenium films. Then, it was studied the conditions to attain deposits of trigonal selenium on gold substrate (f-Se) and after its modification with Bi UPD (f-Se_Bi), Pb UPD (f-Se_Pb) and Cu UPD (f -Se_Cu). Studies using cyclic voltammetry, chronoamperometry, optical microscopy, scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction (XRD) showed the production of a highly crystalline, homogeneous and adherent selenium film formed by hexagonal structures with microrod shape and diameters between 300 and 600 nm. However, the trigonal selenium with those features is synthezised only on the deposition into HNO3 0.1 M containing SeO2 0.02 M at 80 °C, -0.45 V (vs. SCE), under illumination with halogen lamp 100 W, irradiance of 200 mW cm-2, magnetic stirring and deposition time ≥ 600 seconds. These structures are maintained even after the UPD of the metals, which was characterized using electrochemical quartz crystal microbalance (EQCM). From massogram profile was possible to observe the occurrence of diffusion of the metals into the selenium phase, since was not verified the surface saturation of the film. Furthermore, the metals exhibited different diffusion kinetics, where the metal with higher diffusion was copper, which was the only one to show effective doping of selenium film. The optical characterization of the films determined a band gap average of 1.87 ±0,03 eV for f-Se, f-Se_Pb and f-Se_Bi, although, the f-Se_Cu presented band gap of 3.19 eV. Moreover, when it is studied the photoelectrochemical activity of the semiconductors films was noted different photocurrents between them. The f-Se_Bi produces photocurrent 3 times greater than the f-Se_Pb and 35 times higher than the other, but the pure selenium and those doped with Bi and Pb UPD present similar charge-carriers density, approximately 6.0 x1015 cm-3, while the f-Se_Cu shows an increase of 4 orders of magnitude for the same parameter. Therefore, the high photocurrent to f-Se_Bi is associated with the minimization of charge recombination at semiconductor-electrolyte interface, while the low photocurrent exhibited by f-Se_Cu is due to the higher energy band gap of the film. Anyway, the doping of the semiconductor film with the UPD proved to be a simple and inexpensive way to doping relatively thick films.

As soluções aquosas obtidas após o tratamento final de efluentes de processos de eletrodeposição de Cd contém baixas concentrações de íons Cd2+. Neste trabalho determinaram-se as melhores condições para a utilização de eletrodos de carbono vítreo reticulado (CVR) no polimento destas soluções. A eletrodeposição do íon Cd2+ sobre eletrodo de carbono vítreo reticulado de porosidades distintas, 30, 60 e 100 ppi, com e sem recobrimento com polipirrol, foi investigada em soluções aquosas aeradas de ácido sulfúrico e sulfato de potássio em pH 4,8. Sob condições potenciostáticas, uma elevada eficiência de remoção foi obtida para soluções contendo 5 e 10 mg L-1 de íon Cd2+, na faixa de potenciais entre –0,9 e –1,1 V para CVR e em –3,0 V para CVR recoberto com polipirrol (CVR-PPy0). Após cada experimento de eletrodeposição, a diminuição da concentração do íon Cd2+ no eletrólito foi monitorada por voltametria de redissolução anódica. Neste experimenteo, empregando um eletrodo de gota pendente de mercúrio sendo estes resultados comparados com medidas por espectrometria de emissão atômica (ICP). Para o eletrodo de CVR, neste intervalo de potenciais, -0,9 e –1,1 V, a eletrodeposição do íon cádmio é controlada por transporte de massa e a concentração de íons cádmio varia exponencialmente com o tempo, seguindo uma cinética de pseudo primeira ordem. Para a concentração 10 mg L-1 e usando eletrodo de CVR 30 ppi, as eficiências de corrente e de remoção determinadas a -1,1 V após 30 minutos de eletrólise foram, 38 % e 97% , respectivamente. Para eletrodo de CVR 60 ppi foram encontrados 30 % e 99 %, respectivamente. Para o eletrodo de CVR-PPy0 a maior eficiência de remoção encontrada foi de 84% após 90 minutos de eletrólise em –3,0 V, sendo a eficiência de corrente menor do que 2%. A presença de Cd metálico depositado na superfície do eletrodo de CVR e CVR-PPy0 depois da redução em –1,1 V e –3,0 V, respectivamente, foi confirmada por análise de Microscopia Eeletrônica de Varredura (MEV) e espectrometria de energia dispersiva (EDS).

Tese de doutoramento. Engenharia Química e Biológica. 2007. Faculdade de Engenharia. Universidade do Porto

Orientador: Steven Frederick Durrant / Banca: José Humberto Dias da Silva / Banca: Johnny Vilcarromero Lopez / Resumo: Este trabalho investiga os efeitos de tratamento a plasma frio em polímeros convencionais, polipropileno e poliestireno, e em filme amorfo do tipo a-C-H, produzido através de Deposição Química de Vapor Assistida por Plasma (PECVD). Após etapas preliminares de escolha de gás e tempo a serem utilizados, as amostras foram tratadas em plasma de hexafluoreto de enxofre (SF6) em cinco diferentes potências e cinco diferentes pressões, totalizando 25 condições para cada substrato. As superfícies foram caracterizadas por goniometria, perfilometria, Espectroscopia de Infravermelho com Transformada de Fourier (FTIR), Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV), Espectroscopia de Raios-X por Energia Dispersiva (EDS) e Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios-X (XPS). Assim, foram examinados ângulo de contato, rugosidade, estrutura química, morfologia, composição química e composição química da superfície, respectivamente. O tratamento com SF6 aumenta a característica hidrofóbica dos três materiais, possivelmente devido à incorporação de flúor nas superfícies. A combinação de potência e pressão que promoveu aumento mais significativo em ϴ variou para cada material: 80 W e 80 mTorr para o filme amorfo, aumentando de 60,6° para 111,1° nestas condições, 20 W e 40 mTorr para o polipropileno, aumentando de 81,8° para 119° e 100 W e 60 mTorr para o poliestireno, aumentando de 74° para 95°. As análises por XPS indicaram a presença de flúor após os tratamentos com plasmas de SF6, mostrand... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo) / Abstract: The present work investigates the effects of plasma treatment on conventional polymers, polypropylene and polystyrene, and on amorphous hydrogenated carbon, a-C-H, obtained by Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition, (PECVD). After preliminary studies to establish the plasma gas and treatment times, samples were treated in sulphur hexafluoride (SF6) plasmas at five different powers and five different pressures. Surfaces were characterized by goniometry, profilometry, Fourier Transform Infrared Spectrometry, Scanning Electron Microscopy (SEM), EnergyDispersive X-ray Spectroscopy (EDS) and X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). Thus, contact angle, roughness, chemical structure, morphology, chemical composition and surface chemical composition were examined. Results show that SF6 treatments increase the hydrophobicity of the three substrates, possibly due to the surface incorporation of fluorine. The power and pressure combinations that caused the greatest improvements in ϴ were as follows: 80 W and 80 mTorr for the amorphous film, resulting in an increase from 60.6° to 111.11°; 20 W and 40 mTorr for polypropylene, resulting in an increase from 81,8° to 119°; 100 W and 60 mTorr for polystyrene, resulting in an increase from 74° to 95°. The presence of fluorine following the SF6 plasma treatments was confirmed by the XPS analyses, which showed that F/C increased from 0 for all the untreated samples to 0,03 on treated amorphous films, to 0,14 on treated polypropylene, and to ... (Complete abstract click electronic access below) / Mestre

Submitted by Ana Karollyna Alves De Matos (karollyna_matos1991@yahoo.com.br) on 2018-07-06T11:18:03Z No. of bitstreams: 1 Tese - Ana Karollyna Alves de Matos.pdf: 2576249 bytes, checksum: 22f4bfa1cf491222f11050a6f7be10c7 (MD5) / Approved for entry into archive by Maria Lucia Martins Frederico null (mlucia@fca.unesp.br) on 2018-07-06T11:55:39Z (GMT) No. of bitstreams: 1 matos_aka_dr_botfca.pdf: 2576249 bytes, checksum: 22f4bfa1cf491222f11050a6f7be10c7 (MD5) / Made available in DSpace on 2018-07-06T11:55:39Z (GMT). No. of bitstreams: 1 matos_aka_dr_botfca.pdf: 2576249 bytes, checksum: 22f4bfa1cf491222f11050a6f7be10c7 (MD5) Previous issue date: 2018-05-11 / Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) / A mistura de herbicidas é uma prática recorrente em diversos países do mundo, e proporciona vários benefícios para o manejo de plantas daninhas. Contudo, em virtude das possíveis interações entre os herbicidas que compõem uma mistura, é necessário o conhecimento dos efeitos da mistura de herbicidas, a fim de determinar os seus possíveis efeitos nas plantas e na dinâmica dos produtos. Diante disso, o objetivo desse trabalho foi avaliar os efeitos da aplicação em mistura comercial e mistura em tanque dos herbicidas diuron e sulfentrazone, na dinâmica dos herbicidas em solos e na palha; deposição em campo, e o comportamento em variedades de cana-de-açúcar. Em todos os experimentos foi realizada a aplicação da mistura comercial (Stone®) e mistura em tanque (Herburon 500 BR® + Boral 500 SC®) dos herbicidas diuron e sulfentrazone, nas doses de 1750 g i.a. ha-1 e 875 g i.a. ha-1, respectivamente. No primeiro estudo, avaliou-se os efeitos das formulações na lixiviação dos herbicidas diuron e sulfentrazone em solos com diferentes texturas. Em cada experimento, foi utilizado um solo (textura argilosa, arenosa e média) para preencher as colunas, que após a aplicação das formulações foram submetidas a simulação de diferentes lâminas de chuva (40, 80 e 120 mm). As soluções lixiviadas foram coletadas para posterior detecção e quantificação dos herbicidas, por cromatografia líquida e espectrometria de massas (LC-MS/MS). Para o estudo de dinâmica em palha foram utilizadas cápsulas de laminado de polipropileno preenchidas com palha de cana-de-açúcar (equivalente a 10 toneladas ha-1). Nas cápsulas submetidas à aplicação dos herbicidas, foi realizado nos períodos de 1, 15 e 30 dias após a aplicação (DAA), a simulação de diferentes lâminas de chuva (5, 10, 20, 50 e 100 mm) e coletada a água lixiviada para posterior quantificação cromatográfica. As caldas de aplicação utilizadas foram armazenadas, para posterior determinação da tensão superficial. O experimento de deposição foi realizado a campo, em uma área comercial de plantio de cana-de-açúcar, na qual foi avaliada a deposição dos herbicidas aplicados em mistura comercial e mistura em tanque em alvos artificiais (lâminas de vidro), em diferentes períodos após preparo de calda (0 e 6 horas). Logo após as aplicações, as lâminas foram levadas ao laboratório para extração e quantificação dos herbicidas. No quarto estudo, foram avaliadas a dinâmica de absorção e a taxa de transporte de elétrons em variedades de cana-de-açúcar (RB928064 e a RB855453) após a aplicação das formulações de diuron e sulfentrazone. A análise de absorção foi realizada com a coleta, lavagem e maceração das folhas das plantas, 24h após a aplicação. O monitoramento do fluxo de transporte de elétrons (ETR) foi realizado nos períodos de 0; 1; 5; 24; 30; 54; 78 e 168 horas após aplicação (HAA), por fluorescência da clorofila a em folhas totalmente expandidas. As formulações não influenciaram o potencial de lixiviação dos herbicidas nos solos de textura média e argilosa, porém, verificou-se maior movimentação dos herbicidas no solo arenoso, com a aplicação de mistura em tanque. Na palha, a aplicação da mistura comercial favoreceu a transposição dos herbicidas em comparação à mistura em tanque, mesmo com o maior intervalo entre a aplicação e a ocorrência de chuvas. A aplicação dos herbicidas em mistura comercial resultou em maior uniformidade de deposição no campo dos herbicidas comparada à utilização da mistura em tanque, em especial, quando as aplicações foram realizadas seis horas após o preparo da calda. Nas plantas, verificou-se o aumento na absorção dos herbicidas pelas plantas da variedade RB855453 com a aplicação da mistura comercial, havendo redução no ETR após a aplicação dos herbicidas, sem distinção entre as formulações. A aplicação da mistura comercial melhorou a deposição e a dinâmica em palha dos herbicidas, sem efeitos significativos de fitointoxicação nas plantas ou variação no potencial de lixiviação do diuron e sulfentrazone. / The mixture of herbicides is a recurrent practice in different countries of the world, and provides several benefits for the weed management. However, because of possible interactions between herbicides that compose a mixture, knowledge of the effects of the herbicides mixture is necessary to determine its possible effects on plants and products dynamics. Therefore, the objective of this work was to evaluate the effects of the application in commercial mixture and tank mixture of the herbicides diuron and sulfentrazone, the dynamics of herbicides in soils and straw; deposition on the field, and behavior in sugarcane varieties. In all experiments, the commercial mixture (Stone®) and tank mixture (Herburon 500 BR® + Boral 500 SC®) of the herbicides diuron and sulfentrazone were applied at doses of 1750 g a.i. ha-1 and 875 g a.i. ha-1, respectively. In the first study, were evaluated the effects of the formulations on the leaching of the diuron and sulfentrazone herbicides in soils with different textures. In each experiment, a soil (clayey, sandy and medium texture) was used to fill the columns that after the application of the formulations were submitted to simulation of different rainfalls (40, 80 and 120 mm). The leached solutions were collected for further detection and quantification of the herbicides, by liquid chromatography and mass spectrometry (LC-MS/MS). For the study of dynamics in straw were used polypropylene laminated capsules filled with sugarcane straw (equivalent to 10 tons ha-1). In the capsules submitted to the application of the herbicides was carried out in the periods 1, 15 and 30 days after application (DAA) the simulation of different rainfalls (5, 10, 20, 50 and 100 mm) and collected leachate water for further chromatographic quantification. The spray solutions used were stored for further determination of the surface tension. The deposition experiment was carried out in the field, in a commercial area of sugarcane plantation, in which was evaluated the deposition of the herbicides applied in commercial mixture and tank mixture in artificial targets (glass slides), in different periods after preparation of spray solution (0 and 6 hours). Soon after the applications, the slides were taken to the laboratory for extraction and quantification of the herbicides. In the fourth study, were evaluated the absorption dynamics and the rate of electron transport in sugarcane varieties (RB928064 and RB855453) after application of diuron and sulfentrazone formulations. The absorption analysis was carried out with the collection, washing and maceration of the plants leaves, 24 hours after the application. Electron transport flux (ETR) monitoring was carried out in periods of 0; 1; 5; 24; 30; 54; 78 and 168 hours after application (HAA), by chlorophyll a fluorescence in fully expanded leaves. The formulations did not influence the leaching potential of the herbicides in the medium and clayey texture soils, however, it was verified a greater movement of the herbicides in the sandy soil, with the application of tank mixture. In the straw, the application of the commercial mixture favored the transposition of the herbicides in comparison to the tank mixture, even with the longer interval between the application and the occurrence of rainfalls. The application of the herbicides in commercial mixture resulted in greater uniformity of deposition in field compared to the use of the tank mixture, especially when the applications were carried out six hours after the preparation of the spray solution. On plants, was verified the increase in herbicide absorption by plants of the variety RB855453 with the application of the commercial mixture, with reduction in the ETR after the application of the herbicides, without distinction between the formulations. Application of the commercial mixture improved the straw deposition and dynamics of herbicides, without significant phytotoxic effects on plants or variation in the leaching potential of diuron and sulfentrazone.

Nesta dissertação, foram investigadas as propriedades físico-químicas de filmes finos de óxido de alumínio (Al2O3). O Al2O3 foi depositado sobre substratos germânio (Ge) e silício (Si) por magnetron sputtering reativo, utilizando uma fonte DC pulsada, visando a produzir camadas com baixas quantidades de OH e H2O, em comparação àquelas produzidas pelo processo de deposição por camadas atômicas (ALD). Dados obtidos por espectroscopia de fotoelétrons (XPS) e perfis de concentração obtidos por reações nucleares ressonantes (NRP) evidenciaram a formação de uma camada de GeO2 sobre os substratos de Ge, durante o processo de deposição. Quando as amostras foram submetidas a tratamentos térmicos em atmosferas de Ar e forming gas, foi verificada a redução desse óxido. Foi observado que a camada de transição remanescente na interface é constituída essencialmente de germanatos de alumínio. O efeito dos principais contaminantes introduzidos pela técnica de ALD (água e/ou grupos hidroxila) foi investigado por meio de tratamentos térmicos em atmosferas de oxigênio (O2) e vapor d’água. Dados de NRP mostraram que a incorporação de O aumenta com a temperatura de tratamento e depende do gás empregado. Também observou-se que o O proveniente da fase gasosa interage fortemente com o substrato semicondutor de Ge, efeito não observado nas amostras de Si. Análises com técnicas por espalhamento de íons evidenciaram um aumento na concentração de Ge dentro da camada de Al2O3 e na superfície das amostras, efeito associado à oxidação do substrato de Ge. Essas observações podem ser explicadas pela dessorção de GeO resultante de reações químicas que ocorrem na interface dielétrico/substrato. / In this dissertation, physico-chemical properties of aluminum oxide (Al2O3) thin films were investigated. Al2O3 was deposited by pulsed DC reactive magnetron sputter on Germanium (Ge) and Silicon (Si) substrates aiming at producing layers with reduced OH and H2O content, in comparison with those produced by the atomic layer deposition (ALD) process. Photoelectron spectroscopy (XPS) and nuclear reaction profiling (NRP) evidenced the formation of a GeO2 layer during deposition of thin film. Thermal annealing in Ar and forming gas atmospheres reduced the amount of this oxide layer. The remaining transition layer consisted essentially of aluminum germanates. The effects of the main contaminants introduced by ALD techniques (water and/or hydroxyl groups) could be probed by exposing as-deposited samples to water vapor or oxygen (O2) atmospheres. NRP revealed that O incorporation increases with the thermal annealing temperature and also depends on the employed atmosphere. We also found that O from the gas phase strongly interacts with the Ge semiconductor substrate, effect not observed in Si samples. Ion scattering analyses evidenced an increase of Ge concentration throughout the Al2O3 dielectric layer and on the sample surface, associated with the oxidation of the Ge substrate. These findings are explained by GeO desorption resulting from chemical reactions occurring at the dielectric/Ge interface.

As soluções aquosas obtidas após o tratamento final de efluentes de processos de eletrodeposição de Cd contém baixas concentrações de íons Cd2+. Neste trabalho determinaram-se as melhores condições para a utilização de eletrodos de carbono vítreo reticulado (CVR) no polimento destas soluções. A eletrodeposição do íon Cd2+ sobre eletrodo de carbono vítreo reticulado de porosidades distintas, 30, 60 e 100 ppi, com e sem recobrimento com polipirrol, foi investigada em soluções aquosas aeradas de ácido sulfúrico e sulfato de potássio em pH 4,8. Sob condições potenciostáticas, uma elevada eficiência de remoção foi obtida para soluções contendo 5 e 10 mg L-1 de íon Cd2+, na faixa de potenciais entre –0,9 e –1,1 V para CVR e em –3,0 V para CVR recoberto com polipirrol (CVR-PPy0). Após cada experimento de eletrodeposição, a diminuição da concentração do íon Cd2+ no eletrólito foi monitorada por voltametria de redissolução anódica. Neste experimenteo, empregando um eletrodo de gota pendente de mercúrio sendo estes resultados comparados com medidas por espectrometria de emissão atômica (ICP). Para o eletrodo de CVR, neste intervalo de potenciais, -0,9 e –1,1 V, a eletrodeposição do íon cádmio é controlada por transporte de massa e a concentração de íons cádmio varia exponencialmente com o tempo, seguindo uma cinética de pseudo primeira ordem. Para a concentração 10 mg L-1 e usando eletrodo de CVR 30 ppi, as eficiências de corrente e de remoção determinadas a -1,1 V após 30 minutos de eletrólise foram, 38 % e 97% , respectivamente. Para eletrodo de CVR 60 ppi foram encontrados 30 % e 99 %, respectivamente. Para o eletrodo de CVR-PPy0 a maior eficiência de remoção encontrada foi de 84% após 90 minutos de eletrólise em –3,0 V, sendo a eficiência de corrente menor do que 2%. A presença de Cd metálico depositado na superfície do eletrodo de CVR e CVR-PPy0 depois da redução em –1,1 V e –3,0 V, respectivamente, foi confirmada por análise de Microscopia Eeletrônica de Varredura (MEV) e espectrometria de energia dispersiva (EDS).

Imagens georreferenciadas LANDSAT 5 TM da região da Mina Leão II, situada na Depressão Central do Estado do Rio Grande do Sul, foram processadas e classificadas digitalmente com objetivo de gerar o mapa de uso e cobertura do solo. Destas imagens, a drenagem foi extraída na forma vetorial, com o objetivo de determinar a faixa de proteção em torno dela. Dados topográficos plani-altimétricos analógicos foram tratados gerando o modelo digital do terreno e mapas de declividades. Foram definidos critérios para selecionar sítios adequados à colocação de rejeitos de carvão. Imagens de uso e cobertura do solo, declividades, rede de drenagem, litologias, estruturas geológicas, e distância a partir da boca da mina foram transformadas em sete fatores. Três fatores são absolutos ou restrições: zona de proteção da drenagem, zona de restrição em torno dos falhamentos e declividades superiores a 8%. Os restantes, são fatores relativos: uso e cobertura do solo reclassificado, declividade inferior a 8%, substrato litológico e distância a partir da mina. Aos quatro fatores relativos foi atribuída uma ponderação pareada. Através das ferramentas computacionais de apoio à decisão, em um Sistema de Informação Geográfica, os oito diferentes fatores foram cruzados, resultando um mapa temático que localiza e classifica sítios para a locação de rejeitos de carvão. As classes identificadas foram: área de restrição, péssima, regular, boa e ótima. O mapa de uso e cobertura do solo foi reclassificado em função de ser elaborada uma imagem de superfície de atrito, a partir do local da boca da mina, com a finalidade de se projetar vias de menor custo, desde a mina até a BR290 e a um porto situado no rio Jacuí. Dados sobre a espessura da camada de carvão inferior, "I", de uma campanha de sondagem de 182 furos, foram tratados por metodologia de geoestatística. Estudos de estatística descritiva, análise de continuidade espacial e estimação foram realizados, culminando com a cubagem da camada na área de estudo. Foi escolhido o processo de interpolação através da krigagem ordinária. A tonelagem da camada de carvão "I" foi estimada na ordem de 274.917.234 a 288.046.829 t. com nível de confiança de 95%.