Made available in DSpace on 2014-06-12T15:50:30Z (GMT). No. of bitstreams: 2 arquivo2039_1.pdf: 8929226 bytes, checksum: f8050813392af027d46d45ec6053fdfd (MD5) license.txt: 1748 bytes, checksum: 8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33 (MD5) Previous issue date: 2008 / A asma é uma doença inflamatória crônica multifatorial, caracterizada pela obstrução ao fluxo aéreo e hiperreatividade das vias aéreas. A inaloterapia é a primeira opção na tentativa de reverter o broncoespamo apresentado pelos pacientes e a ventilação não-invasiva (VNI) por pressão positiva tem sido utilizada em associação às nebulizações, porém poucos e controversos são os dados disponíveis na literatura acerca desta associação na crise de asma. Objetivos: Analisar a eficácia da inalação e da VNI durante as crises de asma, bem como o nível de evidência científica atingido com o uso destes recursos; e avaliar o efeito da nebulização associada à VNI durante a crise de asma na deposição do radioaerossol e nos parâmetros cardiopulmonares; correlacionar os dados da função pulmonar com o índice de deposição pulmonar (IDP), índice de penetração do radioaerossol (IPR) e o clareamento pulmonar (CP). Métodos: Para a realização da revisão do tema foram utilizados artigos publicados em periódicos científicos através da base de dados Lilacs e Pubmed. Posteriormente, foram estudados 21 pacientes asmáticos de ambos os sexos, idade média de 46,71 ± 9,83 anos e atendidos na emergência de um serviço público na cidade de Recife. Após randomização, os pacientes foram distribuídos em dois grupos: grupo controle que recebeu apenas nebulização (NEB - 11 pacientes) e grupo experimental, no qual foi associado à nebulização com a VNI (VNI + NEB - 10 pacientes). Foram mensurados os parâmetros cardiopulmonares (freqüência respiratória - FR; saturação periférica de oxigênio - SpO2; volume corrente - VC; volume minuto - VM; freqüência cardíaca - FC; pressão arterial sistólica - PAS e pressão arterial diastólica - PAD), prova de função pulmonar e através de cintilografia pulmonar verificou-se o IDR, o IPR e o CP. Resultados: No artigo de revisão foram discutidas as formas de inalação e sua eficácia no tratamento da asma, além do uso da VNI associada às nebulizações durante as exacerbações da asma e os níveis de evidências científicas reportados na literatura em relação a esses dois recursos. Com relação ao artigo original, foram observados redução da FR (p=0.00) e do VM (p=0.01), além do aumento do VC (p=0.01) no grupo VNI + NEB quando comparado ao grupo NEB. Similarmente o grupo VNI + NEB apresentou ganhos percentuais no VEF1 de 24.05±7.86 (p=0.00), na CVF de 20.67±8.88 (p=0.00), no PFE de 27.26±11.14 (p=0.00) e na CI de 32.82±17.55 (p=0.01). Não foi evidenciada diferenças com relação ao IDR e IPR entre os grupos, mas houve variação intragrupo com relação ao IDR. Ainda, houve correlação positiva do IPR com alguns dados espirométricos, sendo observada maior deposição pulmonar na região central em ambos os grupos. O tempo de CP foi de 34 min no grupo VNI + NEB e de 39 min para o grupo. Conclusão: A terapia inalatória mostra-se eficaz no tratamento das exacerbações da asma, mas a associação das nebulizações à VNI ainda necessita de maiores esclarecimentos devido aos poucos estudos relatados na literatura. Foi demonstrado que apesar da redução na deposição pulmonar, o principal efeito da associação da nebulização à VNI é a broncodilatação mecânica, devido ao uso da pressão positiva aplicada diretamente nas vias aéreas obstruídas

Submitted by Fernanda Rodrigues de Lima (fernanda.rlima@ufpe.br) on 2018-07-11T19:55:10Z No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) DISSERTAÇÃO Natália Lopes do Vale.pdf: 4577120 bytes, checksum: 71c1ae468c1363b749233bbdab5a91d2 (MD5) / Approved for entry into archive by Alice Araujo (alice.caraujo@ufpe.br) on 2018-07-18T18:31:48Z (GMT) No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) DISSERTAÇÃO Natália Lopes do Vale.pdf: 4577120 bytes, checksum: 71c1ae468c1363b749233bbdab5a91d2 (MD5) / Made available in DSpace on 2018-07-18T18:31:48Z (GMT). No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) DISSERTAÇÃO Natália Lopes do Vale.pdf: 4577120 bytes, checksum: 71c1ae468c1363b749233bbdab5a91d2 (MD5) Previous issue date: 2017-02-23 / CNPq / O processo de Deposição de Revestimentos por Atrito, ou mais comumente conhecido do inglês por Friction Surfacing, foi utilizado para a deposição de dois materiais consumíveis, a liga de Ti-6Al-4V e do titânio comercialmente puro grau 1, em barras redondas com diâmetro de 20 mm, sobre um substrato de 2 mm de espessura de Ti-6Al-4V. Foi avaliada a influência da velocidade de deposição e da velocidade de rotação do pino consumível na geometria do revestimento e nas propriedades mecânicas e metalúrgicas dos depósitos. Para a deposição foram realizados experimentos utilizando um equipamento de confecção própria pertencente ao Instituto HZG/WMP, com capacidade de aplicar força axial de 8 KN e torque de 60Nm. A qualidade dos revestimentos depositados foi avaliada através de uma caracterização da geometria do revestimento (espessura e largura) e da zona termicamente afetada por meio de macrografias através de microscopia ótica das seções transversais e micrografias em microscópio ótico, microscópio a laser e em microscópio eletrônico de varredura. As propriedades mecânicas foram avaliadas através de perfis de microdureza Vickers, ensaio de dobramento para avaliação da aderência do revestimento ao substrato e análise térmica. Os resultados indicaram que ambos os consumíveis podem ser depositados com sucesso sobre um substrato de Ti-6Al-4V utilizando diferentes valores de velocidades de deposição e de rotação, e que a espessura e a largura dos revestimentos, assim como a profundidade da zona termicamente afetada, são fortemente influenciadas por esses parâmetros. Para maiores velocidades de deposição e rotação os revestimentos apresentaram superfície mais homogênea, sem formação de defeitos na interface, além de uma boa aderência ao substrato. Os revestimentos exibiram uma microestrutura recristalizada dinamicamente, ultrapassando a temperatura de transição da fase β, e um aumento de dureza em relação ao metal de base foi notado. / The Friction Surfacing process was used for the deposition of two consumable materials, Ti-6Al-4V alloy and commercially pure titanium grade 1, in rounded bars with a diameter of 20 mm, on a 2 mm thick Ti-6Al-4V substrate. The influence of the deposition speed and rotational speed of the consumable rod on the coating geometry and on the mechanical and metallurgical properties of the coatings were evaluated. The experiments were carried out using a self - made equipment belonging to the HZG / WMP Institute, capable of applying axial force of 8 KN and torque of 60Nm. The quality of the deposited coatings was evaluated through a characterization of the coating geometry (thickness and width) and the heat affected zone by macrographs through optical microscopy of the cross sections and micrographs by optical microscope, laser microscope and scanning electron microscope. The mechanical properties were evaluated by Vickers microhardness profiles, bending test to evaluate the adhesion of the coating to the substrate and thermal analysis. The results indicated that both consumables can be deposited successfully on a Ti-6Al-4V substrate using different values of deposition and rotation speeds. Further, the thickness and width of the coatings, as well as the heat affected zone, were highly influenced by these parameters. For higher deposition and rotational speeds, the coatings presented a homogenous surface, without defect in the interface, besides a good adhesion to the substrate. The deposits showed a dynamic recrystallized microstructure, reaching the β- transus temperature, and a increase in the hardness in relation to the base metal is noticed.

Submitted by Fernanda Rodrigues de Lima (fernanda.rlima@ufpe.br) on 2018-08-28T22:32:40Z No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) TESE Roseana Florentino Pereira.pdf: 5029115 bytes, checksum: 567d2593b0716a916a10f59de192c44d (MD5) / Approved for entry into archive by Alice Araujo (alice.caraujo@ufpe.br) on 2018-09-06T22:58:01Z (GMT) No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) TESE Roseana Florentino Pereira.pdf: 5029115 bytes, checksum: 567d2593b0716a916a10f59de192c44d (MD5) / Made available in DSpace on 2018-09-06T22:58:01Z (GMT). No. of bitstreams: 2 license_rdf: 811 bytes, checksum: e39d27027a6cc9cb039ad269a5db8e34 (MD5) TESE Roseana Florentino Pereira.pdf: 5029115 bytes, checksum: 567d2593b0716a916a10f59de192c44d (MD5) Previous issue date: 2017-07-27 / No presente trabalho, revestimentos nanocompósitos de Ni-Co/SiC foram desenvolvidos por codeposição de nanopartículas de SiC em um banho eletrolítico com níquel e cobalto, utilizando o aço API 5L X80 como substrato. A influência da densidade de corrente catódica nas propriedades dos depósitos foi investigada e correlacionada com a eficiência de corrente. A morfologia e composição química da superfície e secção transversal dos revestimentos foi analisada por microscopia eletrônica de varredura acoplada com energia dispersiva de raios-X (MEV-EDS) e relacionadas aos resultados de microdureza Vickers (HV) e difração de raios-X (DRX). A adesividade foi verificada pela indentação Rockwell C. Medidas de potencial de circuito aberto (PCA), curvas de polarização potenciodinâmica (PP) e espectroscopia de impedância eletroquímica (EIE) foram realizadas em solução de NaCl 3,5% para investigar a resistência à corrosão. Os resultados mostraram que os revestimentos obtidos possuem morfologia de grãos ramificados em forma de agulha, com valores de microdureza mais elevados do que a microdureza do aço carbono e estrutura de fase cúbica de face centrada com orientação preferencial do plano (220). Através da análise da secção transversal dos depósitos, verificou-se que os mesmos eram formados por camadas intermediárias com composições e microdurezas distintas, de acordo com a densidade de corrente catódica aplicada. Os revestimentos nanocompósitos de Ni-Co/SiC deslocaram o potencial de corrosão para valores mais nobres e aumentaram a resistência à polarização, que resultou em taxas de corrosão mais baixas quando comparadas ao aço API 5L X80 sem revestimento. O revestimento obtido na condição de 55 mA/cm² obteve as melhores propriedades de resistência à corrosão e o estudo cinético realizado nesta corrente revelou que a formação do revestimento ocorre através da depositação de camadas com caráter autocatalítico. / In the present work, Ni-Co / SiC nanocomposite coatings were developed by codepositioning of SiC nanoparticles in an electrolytic bath with nickel and cobalt using API 5L X80 steel as substrate. The influence of cathodic current density on deposit properties was investigated and correlated with current efficiency. The morphology and chemical composition of the surface and cross-section of the coatings was analyzed by scanning electron microscopy coupled with X-ray dispersive energy (SEM-EDS) and related to the results of Vickers microhardness (HV) and X-ray diffraction (XRD ). The adhesiveness was verified by the Rockwell C indentation. Open circuit potential (PCA) measurements, potentiodynamic polarization curves (PP) and electrochemical impedance spectroscopy (EIS) were performed in a 3.5% NaCl solution to investigate corrosion resistance . The results showed that the coatings obtained have a needle shaped branched grain morphology, with microhardness values higher than the carbon steel microhardness and a cubic face structure with a preferred orientation of the plane 220. Through the cross-sectional analysis of the deposits, it was found that they were formed by intermediary layers with different compositions and microhardness, according to the applied cathodic current density. Ni-Co / SiC nanocomposite coatings shifted corrosion potential to nobler values and increased bias resistance, which resulted in lower corrosion rates when compared to uncoated API 5L X80 steel. The coating obtained under the condition of 55 mA / cm 2 obtained the best corrosion resistance properties and the kinetic study carried out in this chain revealed that the formation of the coating occurs through the deposition of layers with an autocatalytic character.

Submitted by Mario BC (mario@bc.ufrpe.br) on 2017-06-20T14:08:57Z No. of bitstreams: 1 Priscila Antao dos Santos.pdf: 1037242 bytes, checksum: f92c76307a94b826876b81d1bd433c1b (MD5) / Made available in DSpace on 2017-06-20T14:08:57Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Priscila Antao dos Santos.pdf: 1037242 bytes, checksum: f92c76307a94b826876b81d1bd433c1b (MD5) Previous issue date: 2015-11-27 / Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - CAPES / The object of project was to determine the maximum genetic potential of nitrogen retention, modeling the digestible lysine requirements and estimate the amino acid relationships: lysine to methionine and cystine, threonine, tryptophan, arginine, valine, isoleucine and leucine with broiler slow growth, male, of Redbro plume strain. For this, the research was divided into two stage. The first stage consisted of three nitrogen balance tests in the following periods of age of the birds: 14-28 days (early phase); 42 to 56 days (growth phase); 70 the 84 days (last phase). The birds were housed individually and the collection period were divided into five days of adaptation and two periods of excreta collection, each with five days. The experimental design was completely randomized. The treatments were the same in different ages and consisted of seven isocaloric diets with different levels of nitrogen, being formulated by the technique of dilution, obtained from successive dilutions from the highest level and a diet free of nitrogen. The nitrogen levels were 8, 16, 24, 32, 40 and 48 g / kg. To prove that the responses of birds were due to the limiting amino acid has been added the seventh treatment consisting of diet with lower levels of nitrogen, but with the same lysine content of the second level. In the second stage they used 72 birds Redbro plume, males for each phase of the nitrogen balance. The treatments consisted of nine diets with eight repetitions formulated according to the nutritional recommendations suggested for chickens lineage Redbro plume, but the ideal relations of amino acids used was suggested by Brazilian tables. The diets with different amino acids were obtained by limiting dilution of the control diet with corn starch (70%) and supplemented with crystalline amino acids, amino acid except for the study. The relationship between amino acid utilization efficiency (b / c) estimated for each treatment relative to the amino acid was used to determine the ideal ratio of amino acids. The results of the first stage estimated the maximum potential for nitrogen retention was 3276, 2585 and 2603 mg/BWkg0.67.day, nitrogen maintenance requirement was 225, 135 and 122 mg/BWkg0.67.day and efficiency of nitrogen utilization were 313×10-6, 406×10-6 and 415×10-6 in the phases of 14-28, 42-56 and 70-84 days old birds. The digestible lysine intake for the periods I, II and III, based on 60% of the maximum potential for nitrogen retention, were 711, 989 and 1272 mg/day (1.225, 1.137 and 1.09 % of lysine in the diet for a daily feed intake of 58, 87 and 117 g/day), respectively. From the results of the experiments of stage II, the following aminoacidic relations were estimated: 67, 73 and 71metionina + cystine; 63, 69 and 69 threonine; 17, 18 and 17 tryptophan; 105, 102 and 103 arginine; 85, 80 and 78 valine; 67, 67 and 68 isoleucine; 104, leucine 109 and 108, respectively, for initial phase, growing and finishing the birds. / O presente projeto teve como objetivo determinar o máximo potencial genético de retenção de nitrogênio, modelar as exigências de lisina digestível e estimar as relações aminoácido:lisina para metionina+cistina, treonina, triptofano, arginina, valina, isoleucina e leucina com frangos de corte de crescimento lento, machos, da linhagem Redbro plumé. Para isso, a pesquisa foi dividida em duas Etapas. A primeira etapa consistiu de três ensaios de balanço de nitrogênio nos seguintes períodos de idade das aves: 14 a 28 dias (fase inicial); 42 a 56 dias (fase crescimento); 70 a 84 dias (fase final). As aves foram alojadas individualmente e o período de coleta foram divididos em cinco dias de adaptação e dois períodos de coleta de excretas, cada um com cinco dias. O delineamento experimental utilizado foi o inteiramente casualizado. Os tratamentos aplicados foram os mesmos nas diferentes idades e consistiram de sete dietas isoenergética com diferentes níveis de nitrogênio, sendo formuladas pela técnica da diluição, obtidos a partir de sucessivas diluições entre o maior nível e uma ração isenta de nitrogênio. Os níveis de nitrogênio foram: 8, 16, 24, 32, 40 e 48 g/kg. Para comprovar que as respostas das aves foram em função do aminoácido limitante foi incluído o sétimo tratamento, que consistiu da dieta com menor nível de nitrogênio, mas com o mesmo teor de lisina digestível do segundo nível. Na segunda Etapa utilizaram-se 72 aves Redbro plumé, machos para cada fase do balanço de nitrogênio. Os tratamentos consistiram de nove dietas com oito repetições formuladas de acordo com as recomendações nutricionais sugeridas para linhagem frangos Redbro plumé, mas as relações ideais de aminoácidos adotadas foram as sugeridas pelas tabelas brasileiras. As dietas com diferentes aminoácidos limitantes foram obtidas por diluição da dieta controle com amido de milho (70%) e suplementadas com aminoácidos cristalinos, exceto para o aminoácido em estudo. A relação entre as eficiências de utilização do aminoácido (b/c) estimados para cada tratamento relativo ao aminoácido foi utilizada para determinar a relação ideal dos aminoácidos. Os resultados da primeira etapa estimaram o potencial máximo para a retenção de nitrogênio 3276, 2585 e 2603 mg/PCkg0.67.dia, a exigência de nitrogênio de mantença foram de 225, 135 e 122 mg/PCkg0.67.dia e eficiência de utilização de nitrogênio foi 313 × 10-6, 406 × 10-6 e 415 × 10-6 nas fases de 14-28, 42-56 e 70-84 de idade das aves. O consumo de lisina digerível para os períodos I, II e III, com base em 60% do máximo potencial de retenção de nitrogênio, foram 711, 989 e 1272 mg/dia (1,225, 1,137 e 1,09% de lisina na dieta para um consumo diário de ração de 58, 87 e 117 g/dia), respectivamente. A partir dos resultados dos experimentos da etapa II foram estimadas as seguintes relações aminoacídicas: 67, 73 e 71 para metionina + cistina; 63, 69 e 69 para treonina; 17, 18 e 17 para triptofano; 105, 102 e 103 para arginina; 85, 80 e 78 para valina; 67, 67 e 68 para isoleucina; 104, 109 e 108 para leucina, respectivamente para fase inicial, crescimento e final das aves.

Submitted by Marco Antônio de Ramos Chagas (mchagas@ufv.br) on 2018-08-23T10:40:15Z No. of bitstreams: 1 texto completo.pdf: 891696 bytes, checksum: 1186c6fb853a0011984fcc62007acb2b (MD5) / Made available in DSpace on 2018-08-23T10:40:15Z (GMT). No. of bitstreams: 1 texto completo.pdf: 891696 bytes, checksum: 1186c6fb853a0011984fcc62007acb2b (MD5) Previous issue date: 2018-02-28 / Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de Minas Gerais / As formigas são consideradas um dos mais importantes invertebrados dispersores de sementes. A dispersão de sementes por formigas (mirmecocoria) pode ser dividida em três fases principais: i) Remoção; ii) Manipulação; e iii) Deposição. Contudo, essas três fases nunca foram testadas simultaneamente e a importância relativa de cada uma delas na germinação de sementes e estabelecimento das plantas não é conhecida. Dessa maneira, nosso objeto foi determinar experimentalmente e em condições de campo os efeitos separados de cada fase da mirmecocoria nos estágios mais críticos da vida das plantas: a germinação e o estabelecimento das plântulas. Nós escolhemos como modelos biológicos, a árvore mirmecocorica Mabea fistulifera e a formiga cortadeira Atta sexdens. Para simular o efeito da distância de remoção nos usamos 30 distancias diferentes das árvores de M. fistulifera mais próximas. Para testar a manipulação colocamos em cada uma dessas distancias três tratamentos de sementes manipuladas por A. sexdens no laboratório: não manipulada, não escarificada/sem elaiossoma e escarificada/sem elaiossoma. Finalmente, para testar o efeito da deposição colocamos esses mesmo grupos de sementes perto e longe do ninho. Nós acompanhamos a germinação por 90 dias e a sobrevivência e crescimento das plântulas por um ano. Nós encontramos que com o aumento da distância para a árvore de M. fistulifera mais próxima, há um decréscimo na germinação e um aumento no crescimento das plântulas mas, a mortalidade não foi afetada. Além disso, não houve nem efeito do ninho nem da manipulação das sementes pelas formigas na germinação, crescimento e sobrevivências das plântulas. Dessa forma, nós mostramos que em condições de campo o papel do distanciamento de sementes mirmecocoricas das proximidades de plantas co-especificas. Além disso, nós sugerimos a existência de um conflito na historia dessa planta, associado ao distanciamento das sementes que prejudica a germinação e beneficia o crescimento das plântulas. / Ants are considered one of the most remarkable invertebrates to disperse seeds. Seed dispersion by ants (myrmecochory) can be divided in three main phases: i) Removal; ii) Manipulation and iii) Deposition. However, all three phases have never been tested simultaneously and the contribution of each one on seed fate and seedling establishment remains unknown. In this purpose, our main aim was to determine experimentally and in field conditions the separate effect of each myrmechocory’s phase on the most critical plant stages: seed germination and seedling establishment. We choose as model organisms, the myrmecochous tree Mabea fistulifera and the leaf-cutting ant Atta sexdens. To simulate the effect of removal we used 30 distances of from the closest conspecific adult tree. To test the manipulation, in each distance we set three seed treatments levels manipulated by A. sexdens in laboratory: unmanipulated, non-scarified/without elaiosome, and scarified/without elaiosome. Finally, to test the deposition effect, we placed seed treatments over and away from ant nests. We evaluate seed germination for 90 days and seedling growth and survival for a year. We found that the increase in distance from the closest M. fistulifera adult tree decreases seed germination and increases seedling growth but have no effect on seedling survival. Moreover, neither the nest environment nor ant manipulation treatments affect seed germination, seedling growth, and survival. We experimentally showed in field conditions the role of myrmecochorous seed distancing from conspecific plants. Moreover, we suggest a life history conflict on this plant, associate to seed distancing that impairs seed germination and beneficiate seedling growth.

Orientador: Ioshiaki Doi / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-07T10:45:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Teixeira_RicardoCotrin_D.pdf: 2331304 bytes, checksum: 01dc54b878be8180e9b3c17033a3feb1 (MD5) Previous issue date: 2006 / Resumo: Conforme os dispositivos eletrônicos atingem dimensões nanométricas, surgem limitações que não podem ser solucionadas com os materiais empregados atualmente, como efeito de canal curto, depleção de porta, corrente de fuga e variação do Vt devido à variação estatística da dopagem. Dessa forma, novos materiais devem ser introduzidos no processo de fabricação para solucionar estes problemas. Um dos materiais cotados é a liga de silício germânio policristalino (SiGe-poli) em substituição ao Silício poli cristalino (Si-poli), utilizado atualmente como material de porta em MOSFET's. Nesta tese, estudamos a deposição de filmes de SiGe-poli utilizando um reator LPCVD vertical visando a fabricação de dispositivos MOS. Tanto o processo de deposição como características morfológicas e físicas dos filmes obtidos foram analisadas. Também foram realizadas medidas elétricas nas amostras e em dispositivos. Verificamos que os filmes obtidos apresentam uma excelente uniformidade e suas características elétricas permitem o seu uso em eletrodos de porta de dispositivos MOS / Abstract: As electron devices shrinks to nanometric scale, new concerns emerge that can not be solved using the materials employed nowadays such as short channel effect, gate depletion, high leakage current and Vt spreading due to statistical variation of the doping process. Thus, new materials must be included in the manufacturing process in order to solve these problems. One of these materials is the polycrystalline silicon germanium alloy (poly-SiGe) as substitution for the polycrystalline silicon (poly-Si) in MOSFET gate applications. In this thesis, we study the deposition of poly-SiGe thin films using a vertical LPCVD reactor aiming for MOS devices fabrication. 80th the deposition process and morphological and physical characteristics of the deposited samples were evaluated. Electrical measurements were also performed on the samples and on devices. We found that the obtained samples have an excellent uniformity and that the electrical characteristics allow its usage as gate electrodes in MOS devices / Doutorado / Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica / Doutor em Engenharia Elétrica

Orientador: Carlos Kenichi Suzuki / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Mecanica / Made available in DSpace on 2018-07-23T15:15:20Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Watanabe_Noemia_M.pdf: 11788880 bytes, checksum: f32c97abd30fa0b8660125ac7fc2143f (MD5) Previous issue date: 1998 / Resumo: Uma das limitaçõesna utilização industrial de filmes de diamante pelo processo CVD (Chemical Vapor Deposition), é a ocorrência da tensão residual na interface entre o filme e o substrato, o que está diretamente relacionada com a sua boa aderência. A origem da tensão residual usualmentepode ser classificadaem duas: (i) a intrínsica,que é devido à diferença de paràmetro de rede entre o filme e o substrato, (ii) a térmica, em virtude da diferença de coeficiente de dilatação térmica entre o filme de diamante e o substrato, considerandoque a deposição se processa na temperatura de 50o-S00°c. Com o objetivo de estudar a tensão residual em filmes de diamante, o presente projeto foi desenvolvido em três etapas: (1) o desenvolvimento da instrumentação; (2) a deposição de diamante em diversos substratos; e (3) a caracterização estrutural e medida da tensão residual nos filmes de diamante usando a técnica de diftação de raios-X. Três tipos distintos de filmes de diamante sintético foram estudados: O) diamante policristalino obtido por combustão oxi-acetilênica;(ii) diamante policristalino preparado em reator de filamentoquente; e (iii) diamante monocristalino homoepitaxial crescido em plasma induzido por microondas (crescimento realizado no NIRIM -National Institute of Research in Inorganic Materials), Japão, no laboratório do Dr. Mutsukazu Kamo. Usando a metodologia para quantificar a razão fase diamante cristalino / fase carbono amorfo, observou-se que a tensão residual é crescente com o grau de cristalinidade da amostra (policristal). Um outro resultado de relevância foi a observação da variação da quantidade e da forma de agregação da fase carbono amorfo com a velocidade de rotação do substrato. Para a velocidadede rotação do substrato a partir de 600 rpm, há a formação de DLC - Diamond Like Carbon, tratando-se de um método inédito de grande interesse científico e tecnológico. A caracterização do filme monocristalino de diamante sintético por topografia e goniometria de raios-X fornece uma análise qualitativa e quantitativa da tensão residual gerada na interface filme substrato / Abstract: Industrial utilization of diamond films obtained by CVD- "Chemical Vapor Deposition" method are limited by the residual stress created in the substrate and film interface, which is directly related with its adherence. The origin of the total residual stress of a diamond filmon a substrate is usuallycomposed of (i) intrinsic stress, due to the difference of the interplanar distance in the layer and (ii) thermal stress, due to the difference between the thermal expansion of diamond and the substrate, because the deposition occurs at 500-800°C. This work was developed in three parts to study the residual stress in diamond films: (1) instrumental development; (2) diamond films deposition in different substrates; and (3) structural characterization and residual stress determination using the X-ray diffraction technique. Three kinds of synthetic diamond films were studied: (i) polycrystalline diamond obtained by oxyacetylene combustion; (ii) polycrystalline diamond prepared in hot filament chamber; and (iii) homoepitaxial diamond growth in microwave plasma reactor done in the Df. Mutsukazu Kamo laboratory at NIRIM - National Institute of Research in Inorganic Materials, Japan. The relation ship of the residual stress to the crystal line levei in a diamond sample has been quantified by measuring the ratio diamond/amorphous carbon. It was observed an increase in the residual stress with the amount of crystal line phase. Another important result was the observation of aggregation form and the amount of amorphous carbon according to the substrate rotation velocity.DLC - "Diamond-LikeCarbon" was formed by rotating the substrate around 600 rpm. It is a very important result to scientific and technological development.The synthetic monocrystalline diamond film characterization was carried out by X-ray goniometric and topographic techniques, which offers a qualitative and a quantitative analysisof residual stress created in the film and substrate interface / Mestrado / Materiais e Processos de Fabricação / Mestre em Engenharia Mecânica

Orientadores: Peter Jurgen Tatsch, Jose Alexandre Diniz / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-07-26T08:12:11Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Sotero_AnnaPauladaSilva_D.pdf: 5591978 bytes, checksum: facb394156f11ef20e8b46319d5225bc (MD5) Previous issue date: 1999 / Resumo: Este trabalho descreve a obtenção e caracterização de filmes finos e ultra-finos de óxido (SiO2) e oxinitreto de silício (SiOxNy)em sistema "home-made"de plasma remoto (RP) de baixa temperatura. O sistema RP, com gerador de microondas de 2.45GHz e potência de saída de 6OOW,permite a formação de filmes tanto por processos de deposição (RPCVD) como pelo processo de oxidação (RPO). Os filmes foram caracterizados por elipsometria, perfilometria, por taxa de decapagem, microscopia eletrônica de transmissão (TEM), por espectrometria de absorção de intra-vermelho (FTIR), por espectrometria de fotoelétron de raios-x (XPS), por espectrometria de massa do íon secundário SIMS), medidas de capacitância versus tensão (C-V) e medidas de corrente versus tensão (1-V). As espessuras dos filmes produzidos variaram de 3nm a 160nm, as densidades de carga efetivas entre 1.7xl010/cm2eT5xlp12/cm2 e o campo de ruptura dielétrica foi de até 18.3MV/cm...Observação: O resumo, na íntegra, poderá ser visualizado no texto completo da tese digital / Abstract: This work describes the formation and the characterization of thin and ultra-thin silicon oxide (SiO2) and oxynitride (SiOxNy) films formed by a home-made low temperature remote plasma system (RP). In this system, a 6O0W, 2.45GHz microwave generator, allows the formation of films by deposition (RPCVD) and oxidation (RPO) processes. The films were characterized by ellipsometry, profilometry, etching rate, transmission electronic microscopy (TEM), fourier transform infrared spectrometry (FTIR), x-ray photoeletron spectrometry (XPS), secondary ion mass spectrometry (SIMS), capacitance versus voltage (C-V) and current versus voltage (I-V) measurements. The films presented thicknesses ranging trom 3nm to 160nm, effective charge densities ranging ITom 1.7xlOlO/cm2to 2.5xlO12/cm2and dieletric breakdown fields of 18.3MV/cm...Note: The complete abstract is available with the full electronic digital thesis or dissertations / Doutorado / Doutor em Engenharia Elétrica

Orientador: Mario Antonio Bica de Moraes / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin / Made available in DSpace on 2018-08-09T02:50:52Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Rouxinol_FranciscoPauloMarques_M.pdf: 1569781 bytes, checksum: dbadfea1682b172f533c81260f079ca8 (MD5) Previous issue date: 2003 / Resumo: Este trabalho descreve uma nova técnica de deposição de filmes finos de óxido de tungstênio e apresenta uma investigação sobre o processo de deposição e propriedades dos filmes. Os filmes foram obtidos em uma câmara de deposição a vácuo contendo um filamento de tungstênio aquecido por uma fonte de corrente alternada. O oxigênio era admitido na câmara usando um fluxômetro de massa. Os filmes eram formados em um substrato posicionado próximo ao filamento pelos precursores voláteis WxOy, formados na superfície aquecida do tungstênio pela reação entre o oxigênio e o tungstênio. A espessura dos filmes era medida com um perfilômetro e a taxa de deposição, R, foi determinada em função da temperatura do filamento, TF, da pressão de oxigênio na câmara, PO2 e da distância substrato-filamento, D. Um aumento no valor de R foi observado com o aumento de TF de 1500 a 1950 K, mantendo-se PO2fixo. A taxa de deposição também mostrou um aumento quando PO2 era aumentada de 0,8 para 2,1 Pa, para TF fixo. Foi alcançada uma taxa de deposição de 93 nm/min para TF= 1950 K e PO2 = 2.1 Pa. Através do espectro de transmissão ultravioleta-visível dos filmes, o coeficiente de absorção e o gap óptico, EG, foram determinados. Foi encontrado um valor médio de EG de 3,56 ± 0,08 eV. As ligações químicas nos filmes foram investigadas usando-se espectroscopia infravermelha por transformada de Fourier, tanto com luz não polarizada como polarizada, e espectroscopia de fotoelétrons por raios-X. Os dados de espectroscopia infravermelha revelaram a presença de água nos filmes. A análise do pico de XPS W4f mostrou que os átomos de W estão no estado de valência W +6 , típica do tungstênio na estequiometria WO3. Através da análise dos filmes por espectroscopia de espalhamento Rutherford, foi determinada uma razão atômica média entre o oxigênio e tungstênio igual a 3,5 ± 0,3. A difração de raio-X mostrou que os filmes são amorfos. A análise por microscopia de varredura por elétrons mostrou que a superfície dos filmes era uniforme, enquanto as micrografias da seção retas dos mesmos revelaram um material sem estrutura e compacto. As propriedades eletrocrômicas dos filmes foram estudas pela intercalação de Li + em uma cela eletrolítica. Foram encontradas eficiências ópticas de 78 e 125 cm 2 C -1 para 623,8 e 950 nm, respectivamente / Abstract: This work describes a novel technique for the deposition of tungsten oxide thin films and reports an investigation on their deposition process and properties. The films were obtained in a vacuum deposition chamber fitted with a tungsten filament heated by an ac power supply. Oxygen was admitted into the chamber using mass flow meters. The films were formed on a substrate positioned near the filament from the volatile Wx Oy precursors generated on the heated filament surface from the reactions between oxygen and tungsten. Film thicknesses were measured using a perfilometer and the deposition rate, R, was determined as a function of the filament temperature, TF, pressure of oxygen in the chamber, PO2, and substrate-filament distance, D. An increase in the R-value was observed for TF increasing from 1500 to 1950 K, for a fixed PO2. The deposition rate also increased for a PO2 increase from 0.8 to 2.1 Pa, for a fixed TF. Deposition rates as high as 93 nm/min was observed for TF= 1950 K and PO2= 2.1 Pa. From the transmission ultraviolet-visible spectra of the films, the absorption coefficient and the optical gap, EG, were determined. An average EG-value of 3.56 ± 0.08 eV was found. The chemical bonds in the films were investigated using Fourier transform infrared spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy. In the former, unpolarized and polarized infrared beams were employed. The infrared spectroscopy data revealed the presence of water in the films. Lineshape analyses of the W4f XPS peak showed that the W-atoms were in the W+6 valence state, typical of tungsten in the WO3 stoichiometry. From Rutherford backscattering spectroscopy analysis of the films, an average O/W atomic ratio of 3.5 ± 0.3 was determined. X-ray diffraction revealed that the films were amorphous. Scanning electron microscopy analysis showed that the film surface was smooth and uniform, while the fracture micrographs of the film cross-section revealed a structureless and compact material. The electrochromic properties of the films were studied for Li + intercalation using an electrochemical cell. Coloration efficiencies of 78 and 125 cm 2C -1 at wavelengths of 632,8 and 950 nm, respectively, were measured. / Mestrado / Física da Matéria Condensada / Mestre em Física

Esta Tese descreve a preparação de novos eletrodos modificados (EMs) fazendo uso de um método novo, a deposição de partículas de metais nobres, como níquel, paládio e platina sobre partículas de metais comuns, como cobre e ferro. Este método leva aos denominados EMs mistos, que podem apresentar características diferentes e mais eficientes que os EMs Ni, Pd e Pt já estudados, sendo a principal aplicação nas reações de hidrogenação eletrocatalítica (HEC) de substratos orgânicos insaturados. A preparação dos EMs mistos se inicia pelo recobrimento da superfície do eletrodo de trabalho com um filme polimérico. O polímero usado foi o poli-(éter alílico do ácido p-benzenossulfônico), um filme aniônico com boa estabilidade química e mecânica, que pode fazer troca iônica de seus íons H+ por cátions metálicos. Este filme é preparado por varreduras de voltametria cíclica de uma solução do respectivo monômero, que se oxida eletroquimicamente iniciando a reação química de polimerização. Os metais cobre e ferro são introduzidos ao polímero pelo método de troca iônica/redução eletroquímica, onde o EM é mergulhado em uma solução saturada de um sal de cobre ou de ferro para ocorrer a troca iônica. Em seguida, estes íons são reduzidos eletroquimicamente por varreduras de voltametria cíclica, usando uma faixa de potencial adequada. Para se preparar os EMs mistos, mergulhou-se estes EMs (Cu ou Fe) na solução do banho electroless de níquel, paládio e platina. Por esta metodologia partículas destes metais nobres são depositadas pelo processo de deposição metálica electroless (DME), que faz uso de um agente redutor, hipofosfito de sódio, para reduzir os íons destes metais de forma adequada nos EMs Cu ou Fe e onde se espera obter grande área superficial. Os EMs mistos preparados foram: Cu/Ni, Cu/Pd, Cu/Pt, Fe/Ni, Fe/Pd e Fe/Pt. A caracterização dos metais dos EMs mistos foi feita indiretamente por geração eletroquímica de hidrogênio (GH) de uma solução ácida e diretamente pelas técnicas de Difração de Raios X e Microscopia de Varredura Eletrônica (MEV). O processo de deposição metálica foi investigado por medidas de potencial de circuito aberto, realizadas durante a deposição dos metais nobres que indicou a ocorrência do processo de DME em alguns casos e DG (deposição galvânica) em outros. Devido a alguns resultados do processo de deposição metálica, foi estudado o mecanismo de catalise na deposição direta das partículas de níquel, paládio e platina pela redução química por hipofosfito dos íons correspondentes. Preparou-se EMs Ni, Pd e Pt por dois métodos: troca iônica/redução eletroquímica e troca iônica/redução química catalisada pelo filme. Estes foram caracterizados por GH e utilizando o ácido p-toluenossulfônico como modelo, estudos de espectroscopia na região UV/Vis. foram realizados. Estas medidas comprovaram a catálise, pois os EMs preparados por redução química apresentaram melhores resultados para a GH e as análises de UV/Vis. mostraram a forte ligação existente entre os grupos sulfonatos do polímero e os íons metálicos bivalentes, ligação essencial para ocorrer a catálise do filme. Verificou-se que as partículas dos metais nobres podiam estar sendo depositadas por DME ou por DG seguido de DME, mas que em todos os casos ocorria a deposição causada pela catálise do filme. A reatividade dos EMs mistos foi avaliada por um estudo cinético, onde HECs de alguns substratos orgânicos foram realizadas e acompanhadas por medidas de UV/Vis. durante as reações. Obteve-se a constante de velocidade (k) destas reações, as quais foram comparadas entre si e encontrou-se como o EM misto mais eficiente o Cu/Pt. As ks das reações deste EM foram comparadas com ks de outros EMs de Pt, já estudados em nossos laboratórios. / This thesis describes the preparation of new modified electrodes (MEs) using the method of noble metal particles deposition like nickel, palladium and platinum in the surface of commum metals particles as cooper and iron. This new electrodes were denominated mixed MEs, and can show different caractheristics and present higher efficiency than others already studied, being their principal application in electrocatalytic hydrogenation (ECH) of unsaturated organic substrates. The surface electrode were coated with the polymer poly-(ether allyl p-benzenesulfonic), an anionic film with good chemical and mechanic stability that can undergoes ion exchange of ions H+ by metallic cations. This film is prepared by anodic oxidation of the monomer using voltammetric cycles, producing a cation radical initiador of a chain reaction polymerization. Cooper and iron metals are incorporated in the polymer by ion exchange/ electrochemical reduction; the ME were dipped in saturated solution of cooper or iron salt to produce the ion exchange. The ions are then electrochemically reduced. The preparation of mixed MEs is carried out by electrolessly deposidated Ni, Pd or Pt. This methodology use NaH2PO2, to reduce the metal ions. This procedure deposits Ni, Pd and Pt in the surface of Cu or Fe MEs with an expected higher superficial area. The mixed Cu/Ni, Cu/Pd, Cu/Pt, Fe/Ni, Fe/Pd e Fe/Pt MEs were prepared. The characterization of the MEs metals was made indirectly by electrochemically hydrogen generation from an acid solution (HG) and directly by SEM-EDX and Ray X Diffraction analysis. The metallic deposition process was investigated by open circuit during the deposition of nobles metals that indicate the occurrence of electroless deposition (EMD) process in some cases or spontaneous displacement reaction (galvanic deposition - GD) in others. Despite the two mechanisms related above, a catalytic process would occur. To rut in evidence this third process Ni, Pd and Pt MEs were prepared by two methods: ion exchange/electrochemical reduction and ion exchange/chemical reduction catalyzed by the film. The resulting MEs were characterized by HG and spectroscopy in the UV/Vis. For this last analysis, p-toluenossulfonic acid was used as model and the results proved the catalytic mechanism. UV spectroscopy analysis showed strong bonds between the p-toluenossulfonic and the noble metal salts. So particles of noble metals can be deposited not only by EMD or GD but in all cases occur the deposition by film catalysis too. The reactivity of mixed MEs was done by kinetic study, where ECH of some organic substrates were carried out and monitored by UV/Vis spectroscopy. The constant rate (k) of the reactions was calculated and compared with the others mixed MEs. The ks of this ME were compared with the ks of other Pt MEs, already studied. The more reactive of them was the Cu/Pt ME.