La réalisation de dispositifs à des dimensions sous-micrométriques et nanométriques demande une maîtrise parfaite des procédés de fabrication, notamment ceux de gravure. La réalisation des ces dispositifs est complexe et les exigences en termes de qualité et de géométrie des profils de gravure imposent de choisir les conditions opératoires les mieux adaptées. Les simulations de l'évolution spatio-temporelle des profils de gravure que nous proposons dans cette thèse s'inscrivent parfaitement dans ce contexte. Le simulateur que nous avons réalisé offre la possibilité de mieux comprendre les processus qui entrent en jeu lors de la gravure par plasma de profils dans divers matériaux. Il permet de tester l'influence des paramètres du plasma sur la forme du profil et donc de déterminer les conditions opératoires optimales. La mise au point de ce simulateur s'appuie sur les concepts fondamentaux qui gouvernent la gravure par plasma. À partir de l'état des lieux des différentes approches numériques pouvant être utilisées, nous avons élaboré un algorithme stable et adaptable permettant de mettre en évidence l'importance de certains paramètres clés pour la réalisation de profils de gravure par un plasma à haute densité et à basse pression. Les capacités de cet algorithme ont été testées en étudiant d'une part la pulvérisation de Si dans un plasma d'argon et d'autre part, la gravure chimique assistée par les ions de SiO2/Si dans un plasma de chlore. Grâce aux comparaisons entre profils simulés et expérimentaux, nous avons montré l'importance du choix de certains paramètres, comme la nature du gaz utilisé et la pression du plasma, la forme initiale du masque, la sélectivité masque/matériau, le rapport de flux neutre/ion, etc. Nous avons aussi lié ces paramètres à la formation de défauts dans les profils, par exemple celle de facettes sur le masque, de parois concaves, et de micro-tranchées. Enfin, nous avons montré que le phénomène de redépôt des atomes pulvérisés entre en compétition avec la charge électrique de surface pour expliquer la formation de profils en V dans le Pt pulvérisé par un plasma d'argon. / Sub-micrometer and nanometer-size device manufacturing requires perfect control of fabrication processing, in particular plasma etching. The fabrication of such devices is complex and the requirements in terms of quality and geometry of the etching profiles impose to use the best adapted operating conditions. Simulation of space and time-etching profile evolution that is proposed in this thesis addresses these issues. The simulator yields a better understanding of the fundamental mechanisms that occur during plasma etching of features in various materials. It enables to test the influence of plasma parameters on the profile shape and thus to determine the optimal operating conditions. The development of the simulator is based on the fundamental concepts in plasma etching. From thorough review of the various numerical approaches available to simulate etching profile evolution, we have developed a stable and flexible algorithm that enables to emphasize the importance of some key-parameters for the realization of etching profiles by high-density and low-pressure plasma. The capabilities of this algorithm were tested on the study of Si sputtering in an argon plasma and of ion-assisted chemical etching of SiO2/Si in a chlorine plasma. From comparisons between simulated and experimental profiles, we have shown the importance of some parameters, like the nature of the gas, the plasma pressure, the initial shape of the mask, the mask/material selectivity, the neutral/ion flux ratio, etc. We also linked these parameters to the formation of defects in the profile, for exemple mask facetting, sidewall bowing and microtrenching. Finally, we have shown that redeposition of sputtered atoms compete with electric surface charging to explain V-shape profiles observed on Pt sputtered in argon plasmas.

La réalisation de dispositifs à des dimensions sous-micrométriques et nanométriques demande une maîtrise parfaite des procédés de fabrication, notamment ceux de gravure. La réalisation des ces dispositifs est complexe et les exigences en termes de qualité et de géométrie des profils de gravure imposent de choisir les conditions opératoires les mieux adaptées. Les simulations de l'évolution spatio-temporelle des profils de gravure que nous proposons dans cette thèse s'inscrivent parfaitement dans ce contexte. Le simulateur que nous avons réalisé offre la possibilité de mieux comprendre les processus qui entrent en jeu lors de la gravure par plasma de profils dans divers matériaux. Il permet de tester l'influence des paramètres du plasma sur la forme du profil et donc de déterminer les conditions opératoires optimales. La mise au point de ce simulateur s'appuie sur les concepts fondamentaux qui gouvernent la gravure par plasma. À partir de l'état des lieux des différentes approches numériques pouvant être utilisées, nous avons élaboré un algorithme stable et adaptable permettant de mettre en évidence l'importance de certains paramètres clés pour la réalisation de profils de gravure par un plasma à haute densité et à basse pression. Les capacités de cet algorithme ont été testées en étudiant d'une part la pulvérisation de Si dans un plasma d'argon et d'autre part, la gravure chimique assistée par les ions de SiO2/Si dans un plasma de chlore. Grâce aux comparaisons entre profils simulés et expérimentaux, nous avons montré l'importance du choix de certains paramètres, comme la nature du gaz utilisé et la pression du plasma, la forme initiale du masque, la sélectivité masque/matériau, le rapport de flux neutre/ion, etc. Nous avons aussi lié ces paramètres à la formation de défauts dans les profils, par exemple celle de facettes sur le masque, de parois concaves, et de micro-tranchées. Enfin, nous avons montré que le phénomène de redépôt des atomes pulvérisés entre en compétition avec la charge électrique de surface pour expliquer la formation de profils en V dans le Pt pulvérisé par un plasma d'argon. / Sub-micrometer and nanometer-size device manufacturing requires perfect control of fabrication processing, in particular plasma etching. The fabrication of such devices is complex and the requirements in terms of quality and geometry of the etching profiles impose to use the best adapted operating conditions. Simulation of space and time-etching profile evolution that is proposed in this thesis addresses these issues. The simulator yields a better understanding of the fundamental mechanisms that occur during plasma etching of features in various materials. It enables to test the influence of plasma parameters on the profile shape and thus to determine the optimal operating conditions. The development of the simulator is based on the fundamental concepts in plasma etching. From thorough review of the various numerical approaches available to simulate etching profile evolution, we have developed a stable and flexible algorithm that enables to emphasize the importance of some key-parameters for the realization of etching profiles by high-density and low-pressure plasma. The capabilities of this algorithm were tested on the study of Si sputtering in an argon plasma and of ion-assisted chemical etching of SiO2/Si in a chlorine plasma. From comparisons between simulated and experimental profiles, we have shown the importance of some parameters, like the nature of the gas, the plasma pressure, the initial shape of the mask, the mask/material selectivity, the neutral/ion flux ratio, etc. We also linked these parameters to the formation of defects in the profile, for exemple mask facetting, sidewall bowing and microtrenching. Finally, we have shown that redeposition of sputtered atoms compete with electric surface charging to explain V-shape profiles observed on Pt sputtered in argon plasmas.

Contexte : La survie à long terme après la transplantation pulmonaire est compromise par le rejet chronique (chronic lung allograft dysfunction (CLAD)), une complication qui touche 50% des patients à 5 ans post-greffe. Le CLAD regroupe quatre phénotypes distincts caractérisés par une atteinte pulmonaire obstructive (Bronchiolitis obliterans syndrome (BOS)) ou restrictive (Restrictive allograft syndrome (RAS)), ou une combinaison des deux (phénotypes mixte et non défini). L’obésité est associée à une diminution de la fonction pulmonaire en raison de facteurs mécaniques, métaboliques et inflammatoires qui lui sont associés. Le gain de poids suite à la greffe pulmonaire est fréquent et parfois considérable, ce qui peut compromettre la fonction pulmonaire. Or, le lien entre le gain de poids post-greffe et la survenue des phénotypes du CLAD demeure inconnu. Objectifs : 1) Décrire les trajectoires pondérales post-greffe pulmonaire des patients ayant développé ou non l’un des quatre phénotypes du CLAD; 2) Déterminer si le statut pondéral à la greffe et la variation de poids et d’IMC après la greffe sont associés à la survenue des phénotypes du CLAD; 3) Examiner si les phénotypes du CLAD influencent la survie post-greffe. Méthodologie : Étude rétrospective des dossiers médicaux de patients ayant reçu une transplantation pulmonaire bilatérale au CHUM entre 2000 et 2020. En utilisant la classification de l’International Society for Heart and Lung Transplantation, les patients ont été classés parmi les cinq catégories suivantes : Absence ou présence de l’un des quatre phénotypes du CLAD. Résultats : Parmi les 579 patients inclus; 412 (71.1%) n’ont pas développé de CLAD, et 81 (14.0%), 20 (3.5%), 59 (10.2%) and 7 (1.2%) ont respectivement développé les phénotypes BOS, RAS, mixte et non-défini. Les trajectoires post-greffe de poids des patients qui développent une restriction pulmonaire (RAS, mixte et non-défini) se distinguent par des gains de poids plus importants. Une augmentation du poids (kg) (Hazard ratio [HR] : 1,04, IC 95% [1,01-1,08]; P = 0,008) et de l’IMC (kg/m2) (HR : 1,13, IC 95% [1,03-1,23]; P = 0,008) en post-greffe sont associés à une augmentation du risque de RAS. La survie post-greffe (années) est plus faible chez les patients ayant développé les phénotypes RAS (9,07 [IC 95% 7,43-10,70]), mixte (8,41 [IC 95% 6,56-10,25]) et non défini (9,99 [IC 95% 4,67-15,31]; p<0,001). Conclusion : Les liens entre le gain de poids post-greffe et la survenue des phénotypes restrictifs du CLAD doivent être clarifiées pour déterminer si une gestion optimale du poids préviendrait leur développement. / Background: Chronic lung allograft dysfunction (CLAD) is a common complication after lung transplant (LTx), affecting 50% of patients by five years post-LTx. It is associated with poor survival, limited to 1 to 5 years after CLAD diagnosis. Four CLAD clinical phenotypes have been defined: Bronchiolitis Obliterans Syndrome (BOS), Restrictive allograft syndrome (RAS), mixed and undefined phenotypes. Weight gain is commonly observed after LTx and may negatively impact lung function and post-LTx survival. Yet, the association between post-LTx weight gain and the development of CLAD and its phenotypes remains to be explored. Objectives: 1) To describe post-LTx weight trajectories of CLAD-free patients and patients who developed the various CLAD phenotypes; 2) To determine the associations between BMI at transplant, post-LTx variation of weight and BMI, and the risk of developing the various CLAD phenotypes and; 3) To examine whether the development of the CLAD phenotypes impacted post-LTx survival. Methods: This is a retrospective cohort study of patients who received a first bilateral LTx at the CHUM between 2000 and 2020. We extracted demographic, anthropometric, and clinical data from medical charts. Using the 2019 International Society for Heart and Lung Transplantation classification, patients were categorized among these five categories: CLAD-free or presence of one of the four CLAD phenotypes. Results: Our sample consisted of 579 patients; 412 (71.1%) remained CLAD-free, and 81 (14.0%), 20 (3.5%), 59 (10.2%), and 7 (1.2%) developed BOS, RAS, the mixed and the undefined phenotype, respectively. Weight trajectories showed that patients who developed restrictive CLAD (RAS, mixed and undefined) experienced weight gains of greater amplitude within the first five years post-LTx than CLAD-free patients and patients with BOS. An increase in weight (kg) (Hazard ratio [HR]: 1.04, 95% CI [1.01- 1.08]; P = 0.008) and BMI (kg/m2 ) (HR: 1.13, 95% CI [1.03-1.23]; P = 0.008) during post-LTx follow-up was associated with a greater risk of RAS. Worse survival (years) was seen in patients who developed the RAS (9.07 [95% CI 7.43-10.70]), mixed (8.41 [95% CI 6.56-10.25]), and undefined (9.99 [95% CI 4.67-15.31]; p<0.001) phenotypes. Conclusion: Future studies must clarify the associations between post-LTx weight gain and the onset of restrictive CLAD and whether it could be prevented with appropriate weight management strategies.

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<p>Although radio repeaters and wireless routers are commonly used, relaying techniques have received a lot of attention in academic publications the last decade. Most of the techniques proposed in the literature are based on relaying terminals. For instance groups of mobile terminals cooperate so as to jointly communicate with an access point, or to another group of mobiles in an (infrastructure-less) mobile ad-hoc network MANET. However, it has also been suggested that these techniques can be applied to hybrid cellular-relaying architecture with fixed relays and that this would reduce the infrastructure costs.</p><p>The literature shows that the coverage or capacity of a cellular network is enhanced when using relays. A common assumption in these studies is that relays are very low cost, but little attention has been given to <i>how</i> <i>cheap</i> these relays need to be in order for the technical enhancements to translate into an economic gain. It is not obvious that the techniques proposed for mobile relaying are economically feasible when applied to fixed relays.</p><p>This thesis examines the conditions under which large scale usage of fixed relays leads to lower infrastructure cost than in a purely cellular architecture, how large the benefits of these new techniques are, compared with existing repeater/router techniques, and how sensitive the results are to traditional network design parameters.</p><p>The analysis is done by means of several study cases in which coverage should be provided for broadband services by building a network from scratch. The results are expressed in terms of how cheap a relay must be with respect to a base station's cost so that the hybrid infrastructure provides the desired service at a lower cost. If in practice this relative relay cost is much lower, then high economic gains are expected.</p><p>None of the study cases considered yield substantial cost savings when using fixed relays on a large scale. When access points are placed as high as in a cellular network, the hybrid system is feasible only if the total relay cost is 3-20% of the total base station cost. When unplanned relay deployment is used, the impact of the antenna height and/or gain on the results is much greater than the particular type of amplify-and-forward relaying scheme. Planned deployment of a few relays should be used unless the cost of planning is 1-2 times larger than all the other relay costs. A proper trade-off between route-length and how tight the radio channel can be reused is essential for the feasibility of the hybrid system. The results confirm that the planned usage of few relays together with macro-like base stations is an efficient way of providing coverage. Analysis of other scenarios, such as the use of pico base stations for coverage, is left for further studies.</p>

Techn. Hochsch., Diss., 1999--Aachen.

Le vieillissement de la population sous-tend l'intérêt des gestionnaires et des chercheurs. La gérontologie occupe une place de plus en plus grande dans l'intérêt des chercheurs. La multitude d'écrits au sujet des personnes âgées est là pour le démontrer. Cette étude s'inspire du soutien que reçoivent les personnes âgées ainsi que des stratégies de conciliation adoptées par les aidantes familiales pour mieux concilier leurs différents rôles de vie. Ce projet présente un aspect innovateur, car très peu de recherches se sont attardées à la place des aidantes familiales dans les résidences privées. Les résultats de cette recherche permettent de déterminer les stratégies de conciliation utilisées par les aidantes ainsi que le soutien qu'elles reçoivent de leur entourage. La prise en charge d'un parent âgé en perte d'autonomie peut s'avérer ardue en particulier lorsque l'enfant qui en est responsable occupe simultanément plusieurs autres rôles de vie. La présente étude a comme objectif général de mieux cerner la réalité des aidantes familiales qui ont à charge un parent âgé en perte d'autonomie qui habite en résidence privée. Pour ce faire, trois objectifs spécifiques ont été élaborés. Le premier vise à identifier l'apport des différents membres du réseau d'aide des répondantes dans le soutien aux personnes âgées en perte d'autonomie ainsi que dans leur propre soutien. Le deuxième objectif cherche à déterminer les facteurs d'engagement et de non-engagement liés à la participation des différents membres du réseau d'aide dans leur soutien aux personnes âgées en perte d'autonomie et à son aidante principale et le troisième est de déterminer les stratégies de conciliation qui sont adoptées dans chacune des sphères de vie par les aidantes familiales. À cet effet, 11 entrevues semi-dirigées ont été réalisées dans la région du Saguenay. L'âge moyen des répondantes se situe à 45 ans. Pour participer à la recherche, les aidantes devaient occuper un emploi rémunéré d'au moins 14 heures par semaine et ce, depuis au moins trois mois. De plus, les personnes retenues devaient être l'aidante principale du proche âgé et lui consacrer un minimum de sept heures de soins par semaine. Les résultats de l'étude, reposant sur la théorie générale des systèmes et sur certains éléments théoriques de l'approche familiale structurelle, révèlent que près de la totalité des répondantes sont très impliquées dans le soutien de leur parent. Une grande majorité d'entre elles reçoivent du soutien de plusieurs membres de leur réseau, mais cette aide est quelquefois perçue comme étant insuffisante. Les aidantes familiales de cette étude trouvent essentiel de poursuivre leur rôle de prise en charge, mais certaines d'entre elles semblent dans l'impossibilité de répondre aux responsabilités que demande l'ensemble de leurs rôles de vie. C'est ainsi que plusieurs répondantes ont adopté comme stratégie de conciliation l'altération ou l'abandon de certains de leurs rôles de vie. Cette étude permet alors de mieux comprendre les difficultés que peuvent rencontrer les aidantes familiales, les différents types de soutien qu'elles reçoivent de leur réseau ainsi que les stratégies de conciliation utilisées afin de poursuivre leurs différents rôles de vie.

Le vieillissement de la population sous-tend l'intérêt des gestionnaires et des chercheurs. La gérontologie occupe une place de plus en plus grande dans l'intérêt des chercheurs. La multitude d'écrits au sujet des personnes âgées est là pour le démontrer. Cette étude s'inspire du soutien que reçoivent les personnes âgées ainsi que des stratégies de conciliation adoptées par les aidantes familiales pour mieux concilier leurs différents rôles de vie. Ce projet présente un aspect innovateur, car très peu de recherches se sont attardées à la place des aidantes familiales dans les résidences privées. Les résultats de cette recherche permettent de déterminer les stratégies de conciliation utilisées par les aidantes ainsi que le soutien qu'elles reçoivent de leur entourage. La prise en charge d'un parent âgé en perte d'autonomie peut s'avérer ardue en particulier lorsque l'enfant qui en est responsable occupe simultanément plusieurs autres rôles de vie. La présente étude a comme objectif général de mieux cerner la réalité des aidantes familiales qui ont à charge un parent âgé en perte d'autonomie qui habite en résidence privée. Pour ce faire, trois objectifs spécifiques ont été élaborés. Le premier vise à identifier l'apport des différents membres du réseau d'aide des répondantes dans le soutien aux personnes âgées en perte d'autonomie ainsi que dans leur propre soutien. Le deuxième objectif cherche à déterminer les facteurs d'engagement et de non-engagement liés à la participation des différents membres du réseau d'aide dans leur soutien aux personnes âgées en perte d'autonomie et à son aidante principale et le troisième est de déterminer les stratégies de conciliation qui sont adoptées dans chacune des sphères de vie par les aidantes familiales. À cet effet, 11 entrevues semi-dirigées ont été réalisées dans la région du Saguenay. L'âge moyen des répondantes se situe à 45 ans. Pour participer à la recherche, les aidantes devaient occuper un emploi rémunéré d'au moins 14 heures par semaine et ce, depuis au moins trois mois. De plus, les personnes retenues devaient être l'aidante principale du proche âgé et lui consacrer un minimum de sept heures de soins par semaine. Les résultats de l'étude, reposant sur la théorie générale des systèmes et sur certains éléments théoriques de l'approche familiale structurelle, révèlent que près de la totalité des répondantes sont très impliquées dans le soutien de leur parent. Une grande majorité d'entre elles reçoivent du soutien de plusieurs membres de leur réseau, mais cette aide est quelquefois perçue comme étant insuffisante. Les aidantes familiales de cette étude trouvent essentiel de poursuivre leur rôle de prise en charge, mais certaines d'entre elles semblent dans l'impossibilité de répondre aux responsabilités que demande l'ensemble de leurs rôles de vie. C'est ainsi que plusieurs répondantes ont adopté comme stratégie de conciliation l'altération ou l'abandon de certains de leurs rôles de vie. Cette étude permet alors de mieux comprendre les difficultés que peuvent rencontrer les aidantes familiales, les différents types de soutien qu'elles reçoivent de leur réseau ainsi que les stratégies de conciliation utilisées afin de poursuivre leurs différents rôles de vie.