In order to considerably improve the quality of steel products, efforts are being made to increase the cleanness of steel. It is known that the size, type and distribution of non-metallic inclusions (NMIs) in metals significantly influence their mechanical properties. Within the frame of the Collaborativ Research Centre 920 'Multifunc-tional filters for metal melt filtration – a contribution to zero defect materials.”, carbon-bonded alumina filters for steel melt filtration has been investigated. In the present thesis, the interactions between coated carbon-bonded alumina filters and a steel melt were investigated in more detail, with the porous coatings being based on alumina. The time-depended behaviour was evaluated by immersing coated filters for different dwell times. After the immersion tests, the microstructure of the filter surface and the NMIs remaining in the solidified steel were examined to comprehend the interactions. The here presented results imply that carbon of the carbon-bonded alumina sub-strate took part in the filter–steel interactions. The presence of dissolved carbon at the filter–steel melt interface is essential to promote alumina dissolution and pre-cipitation processes. Thereby, the melt was locally supersaturated with aluminium, which reacted with dissolved oxygen to form secondary corundum. During these interactions, a liquid oxide film was formed directly at the ceramic surface and provided nuclei for heterogeneous nucleation of secondary corundum. After immersion during cooling, a characteristic layer built-up formed at the filters surface. All alumina-based coated filters contributed to the filtration of especially alumina-based NMIs, and outperformed the uncoated carbon-bonded alumina filter. During the first experimental trials, it became obvious that the thermal shock resistance of the alumina coating has to be enhanced. For this purpose, a material combination was investigated which so far has not been used as a coating material to the author’s knowledge: alumina-zirconia-titania in the ration 95 : 2.5 : 2.5. This material is known for its excellent thermal shock resistance. Thereby, the influence of zirconia or titania doping of the coating were considered. The addition of titania enhanced wetting of this filter by the steel melt. As a result, alumina inclusions of the steel melt were modified: they were more in number, but distinctly smaller compared to trials without filter or the immersion of the other filter types. Especially, the decreased average area of the alumina inclusions is interesting because the particle size of NMIs strongly influences the fatigue life of a steel product. The deformability of a steel product, however, is determined by the amount of NMIs. Thus, the modification of alumina inclusions by adding titania to the filter coating might present a way to tailor these inclusions depending on the product’s application.

Die heterogene Katalyse spielt in der industriellen chemischen Synthese sowie in umwelttechnischen Prozessen eine herausragende Rolle. Viele Katalysatoren zeichnen sich durch eine hohe strukturelle Komplexität aus, welche ein detailliertes Verständnis von entscheidenden Parametern sowie zugrunde liegenden Reaktionsmechanismen meist verhindert. Daher ist die Untersuchung von geeigneten Modellsystemen unerlässlich. Im Rahmen dieser Arbeit wurde ein dünner, kristalliner Aluminiumoxid-Film auf NiAl(110) mittels Rastertunnelmikroskopie (STM) und -spektroskopie (STS) bei 5K untersucht. Dieser Film konnte bereits in zahlreichen Studien als Modell für Alumi-niumoxid-Trägermaterialien etabliert werden, obwohl seine atomare Struktur nicht bekannt war. Hier wurden nun atomar aufgelöste STM-Bilder des Films aufgenommen, die sich später verschiedenen Lagen des Films zugeordnen ließen. Ferner konnten Antiphasendomänengrenzen (APDB), d.h. regelmäßig auftretende Liniendefekte des Oxidfilms, mit STM und STS charakterisiert werden. Es gelang somit, deren elektronische und geometrische Struktur zu korrelieren. Im zweiten Teil der Arbeit wurde das Adsorptionsverhalten des Aluminiumoxid-Films gegenüber einzelnen Au-Atomen untersucht. Nach der Präparartion waren Au-Monomere, Dimere und kleine Cluster auf der Oberfläche vorhanden, die mit STM und STS untersucht wurden. Die Ergebnisse zeigen, dass das NiAl(110)-Substrat an der Bindung von Au-Atomen auf dem Oxid-Film beteiligt ist, und dass dünne Filme offenbar ein anderes Adsorptionsverhalten aufweisen können als die entsprechenden Bulk-Oxide. Im dritten Teil dieser Arbeit wurden die Eigenschaften von Metall-Clustern (Ag, Pd) auf dem Aluminiumoxid-Film in Abhängigkeit von ihrer Größe untersucht. Leitfähigkeits-Spektren zeigen eine charakteristische Signatur, die am besten mit einer Coulomb-Blockade erklärt werden kann. Somit reflektieren die Spektren eher Eigenschaften des Tunnelkontakts als intrinsische Cluster-Eigenschaften. / Heterogeneous catalysis plays an important role in industrial synthesis and in environmental chemistry. Due the difficulties related with the investigation of working catalysts, the study of well-defined model systems is very important to gain a fundamental understanding of the principles and reaction mechanisms. Within the scope of this work, a well-ordered, thin alumina film on NiAl(110) has been investigated by scanning tunneling microscopy (STM) and spectroscopy (STS) at 5K. This film was established as model for bulk alumina supports in previous studies, though its exact structure remained unknown. Here, atomically resolved STM images of the film have been obtained, which could later be assigned to distinct atomic layers. Furthermore, anitiphase domain boundaries (APDB), regularly appearing line defects in the oxide film, were characterized by STM and STS. These studies provide a detailed understanding of how their geometric and electronic structure are related. The second part of this thesis addressed the adsorption behavior of the alumina film toward single Au atoms. The sample preparation yielded Au monomers, dimers and small clusters on the surface, which were investigated with STM and STS. Accordingly, the NiAl(110) substrate participates in the binding of Au atoms, demonstrating that adsorption properties of thin oxide films can deviate significantly from bulk oxides, whereby the metal adatom seems to play an important role. The third part of this work presents size-dependent STM/STS studies on metal clusters (Ag, Pd) deposited onto alumina/NiAl(110). Conductance spectra reveal a distinct signature, which can be explained by a Coulomb blockade effect. Another interpretation based on quantized electronic levels, is also discussed, but cannot account for all experimental findings. Thus, the spectroscopic data reflect most likely no intrinsic properties of the metal clusters but are due to the specific behavior of a double-barrier tunneling junction.

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Selbstreinigende, ultrahydrophobe Oberflächen lassen sich in der Technik vielfältig einsetzen. Das ultrahydrophobe Verhalten beruht einerseits auf einer Rauigkeit im μm-Bereich und andererseits auf der chemischen Zusammensetzung der Oberfläche. Durch den gegebenen Oberflächenaufbau sind derartige Materialien jedoch empfindlich gegen Verschleiß. In diesem Beitrag wird ein Schichtverbund bestehend aus Aluminiumoxid und zwei polymeren Komponenten vorgestellt. Die Aluminiumoxidschicht wird auf dem Wege der anodischen Oxidation erzeugt. Dieses seit langem bekannte Verfahren ermöglicht nicht nur die Oxidation der Aluminiumoberfläche, sondern gestattet es, auch, definierte Oberflächenprofile einzustellen. Durch den gezielten Einbau des hochmolekularen Polymers Chitosan in die mikroprofilierte Aluminiumoxidschicht wurde eine mechanische Stabilisierung der Schicht im Sinne eines anorganisch-organischen Composites erreicht. Außerdem dienten die Amino-Seitengruppen des Chitosans als reaktives Interface für die notwendige chemische Hydrophobierung und als Reaktionszentrum für Vernetzungen, wodurch eine weitere mechanische Stabilisierung bewirkt wird. Der Schichtaufbau hat wesentlichen

Um einen dauerhaften Einsatz Al2O3-basierter Feuerfestwerkstoffe in Hochtemperaturanlagen zur Synthesegaserzeugung zu ermöglichen, erfolgte die Entwicklung neuer Materialien mit verbesserter Thermoschock- und Korrosionsbeständigkeit gegenüber flüssiger Kohleschlacke. In einem industrienahen Spinell-Alumina-Verbundwerkstoff lässt sich die Mikro- und Porenstruktur durch Zugabe von 6 Gew.-% eines Spinell-reichen Zements optimieren, wodurch die Infiltration und zugleich die Korrosion durch saure Braunkohleasche erheblich reduziert werden konnte. Die Zugabe von 2,5 Gew.-% TiO2 zu einer Al2O3-Gießmasse führt ebenfalls zur Verbesserung der Thermoschockbeständigkeit und verhindert während des Tiegeltests die weitere Auflösung der Al2O3-Matrix, indem sich auf dem Werkstoff durch Reaktion mit MgO der Schlacke eine dichte in situ Spinell-Schutzschicht ausbildet. So erfolgte die Entwicklung von Materialien mit hervorragenden thermomechanischen Eigenschaften und ausreichender Korrosionsbeständigkeit, welche als umweltfreundliche und kostengünstige Alternative zu den derzeit eingesetzten Cr2O3-reichen Werkstoffen angesehen werden können.

Hocheffiziente Solarzellen beruhen auf der exzellenten Oberflächenpassivierung, die minimale Rekombinationsverluste gewährleistet. Innerhalb des letzten Jahrzehnts wurde Al2O3 in der Photovoltaikindustrie zum bevorzugten Material für p-leitendes Si. Unterschiedliche Abscheidetechnologien erreichten Passivierungen mit effektiven Minoritätsladungsträgerlebensdauern nahe der AUGER–Grenze. Die ausgezeichnete Passivierungswirkung von Al2O3wird zwei Effekten zugeschrieben: Einerseits werden Si−SiO2-grenzflächennahe Rekombinationszentren passiviert, wenn Wasserstoff, beispielsweise aus der Al2O3-Schicht, offene Bindungen absättigt. Bedingt durch die hohe Konzentration intrinsischer negativer Ladungen an der SiO2-Grenzfläche weist Al2O3 andererseits einen charakteristischen Feldeffekt auf. Das resultierende elektrische Feld hält Elektronen von Oberflächenrekombinationszentren fern. Negative Ladungen im Al2O3 werden generell als fest bezeichnet. Allerdings hat Al2O3 zusätzlich eine hohe Dichte an Haftstellen, die von Elektronen besetzt werden können. Die Dichte negativer Ladungen im Al2O3-Passivierungsschichten hängt vom elektrischen Feld und der Bestrahlungsintensität ab. Ziel dieser Arbeit ist die systematische Untersuchung dielektrischer Passivierungsschichtstapel für die Anwendung auf Si-Solarzellen. Der Qualität und Dicke der SiO2-Grenzschicht kommt in diesem Kontext eine besondere Rolle zu, da sie Ladungsträgertunneln ermöglicht. Der Elektronentransport ist eine Funktion der Oxiddicke und das Optimum zwischen Ladungseinfang und -haltung liegt bei etwa 2 nm SiO2. Vier relevante Al2O3-Abscheidetechnologien werden untersucht: Atomlagenabscheidung, Kathodenzerstäubung, Sprühpyrolyse und Rotationsbeschichtung, wobei die erstgenannte dominiert. Es werden Nanolaminate verglichen, die aus Al2O3 und TiO2, HfO2 oder SiO2 mit subnanometerdicken Zwischenschichten bestehen. Während letztgenannte die Oberflächenrekombination nicht vermindern, beeinflussen TiO2- und HfO2-Nanolaminate die Passivierungswirkung. Ein dynamisches Wachstumsmodell, das initiale und stationäre Wachstumsraten der beteiligten Metalloxide berücksichtigt, beschreibt die physikalischen Parameter. Schichtsysteme mit 0,2 % TiO2 oder 7 % HfO2 sind konventionellen Al2O3-Schichten überlegen. In beiden Fällen überwiegt die veränderte Feldeffekt- der chemischen Passivierung, die mit einer Grenzflächenzustandsdichte von maximal 5·1010 eV−1·cm−2 unverändert auf hohem Niveau verbleibt. Die Ladungsdichte beider Schichtsysteme wird entweder über die Änderung ihrer Polarität der festen Ladungen oder der Fähigkeit zum Ladungseinfang bestimmt. Das Tunneln von Elektronen wird durch ein mathematisches Modell erklärt, dass eine bewegliche Ladungsfront innerhalb der Oxidschicht beschreibt. / High-efficiency solar cells rely on excellent passivation of the surface to ensure minimal recombination losses. In the last decade, Al2O3 became the material of choice for p-type Si in the photovoltaic industry. A remarkable surface passivation with effective minority carrier lifetimes close to the AUGER–limit was demonstrated with different deposition techniques. The excellent passivation effect of Al2O3 is attributed to two effects: Firstly, recombination centers at the Si−SiO2 interface get chemically passivated when hydrogen, for instance from the Al2O3 layer, saturates dangling bonds. Secondly, Al2O3 presents an outstanding level of field effect passivation due to its high concentration of intrinsic negative charges close to the SiO2 interface. The generated electrical field effectively repels electrons from surface recombination centers. Negative charges in Al2O3 are generally termed fixed charges. However, Al2O3 incorporates a high density of trap sites, too, that can be occupied by electrons. It was shown that the negative charge density in Al2O3 passivation layers depends on the electrical field and on the illumination intensity. The goal of this work is to systematically investigate dielectric passivation layer stacks for application on Si solar cells. The SiO2 interface quality and thickness plays a major role in this context, enabling or inhibiting carrier tunneling. Since the electron transport is a function of the oxide thickness, the balance between charge trapping and retention is achieved with approximately 2 nm of SiO2. Additionally, four relevant Al2O3 deposition techniques are compared: atomic layer deposition, sputtering, spray pyrolysis and spin–on coating, whereas the former is predominant. Using its flexibility, laminates comprising of Al2O3 and TiO2, HfO2 or SiO2 with subnanometer layers are compared. Although the latter do not show decreased surface recombination, nanolaminates with TiO2 and HfO2 contribute to the passivation. Their physical properties are described with a dynamic growth model that considers initial and steady–state growth rates for the involved metal oxides. Thin films with 0.2 % TiO2 or 7 % HfO2 are superior to conventional Al2O3 layers. In both cases, the modification of the field effect prevails the chemical effect, that is, however, virtually unchanged on a very high level with a density of interface traps of 5·1010 eV−1·cm−2 and below. The density of charges in both systems is changed via modifying either the polarity of intrinsic fixed charges or the ability of trapping charges within the layers. The observations of electron tunneling are explained by means of a mathematical model, describing a charging front, which moves through the dielectric layer.

Anlagen zur Herstellung von Synthesegas (CO·H2) aus kohlenstoffhaltigen Rohstoffen werden durch hohe Temperaturen bis zu 1600 °C und Drücken bis zu 50 bar beansprucht und benötigen daher Schutz durch eine feuerfeste Ausmauerung. Zur Steigerung der Effizienz und Lebensdauer solcher Vergasungsanlagen ist die Entwicklung neuer keramischer Hochtemperaturwerkstoffe erforderlich. Solch ein Material stellt eine Al2O3-reiche Gießmasse dar, welche durch den gezielten Einsatz verschiedener ZrO2- und TiO2-Gehalte optimiert wurde. Es hat sich gezeigt, dass bereits durch die Zugabe geringer Mengen an ZrO2 bzw. TiO2 sowohl die Temperaturwechselbeständigkeit als auch die Korrosionsbeständigkeit von Al2O3 gegenüber Kohleschlacken erheblich verbessert werden kann, was auf die Ausbildung einer Spinell-Schutzschicht während des Korrosionsvorgangs zurückzuführen ist.

Die vorliegende Arbeit behandelt die Synthese und die Eigenschaften von fluordotierten Aluminium(hydr)oxiden. Dazu wurde zunächst ein Syntheseprotokoll erarbeitet, das die kontrollierte und reproduzierbare Sol-Gel Synthese von F-Al(OH)3-Phasen ermöglichte. Auf Grundlage dieser Syntheseroute konnten Parameter wie der Fluorgehalt der Phasen kontrolliert und der Einfluss auf strukturelle Eigenschaften systematisch untersucht werden. Die Charakterisierung der amorphen Phasen wurde hauptsächlich über MAS NMR spektroskopische Methoden vorgenommen. Herausragendes Strukturmerkmal der Proben ist die Anwesenheit von AlV- und AlIV-Sites, die charakteristisch für das hohe Maß an struktureller Störung in den Proben sind. Über die Untersuchung der thermischen Eigenschaften konnte gezeigt werden, dass es schon bei Temperaturen von unterhalb 80 °C zur anteiligen Dehydroxylierung der Phasen kommt und mit einem starken Anstieg der unterkoordinierten AlV- und AlIV-Spezies verknüpft ist. Bei etwa 300 °C sind die Phasen weitestgehend dehydratisiert, allerdings kommt es bei Kontakt mit Luft zu einer Reaktion mit atmosphärischen H2O Molekülen. Bei ausreichend langer Zeit und hoher Luftfeuchtigkeit führt dies zu einer vollständigen Rehydratisierung der Probe, die wiederum mit dem Rückgang der AlV- und AlIV-Spezies verknüpft ist. Kalziniert man die F-Al(OH)3-Phasen im Vakuum bei 700 °C, erhält man ein schwach kristallines, übergangsaluminiumoxidähnliches F-Al2O3. Das so hergestellte F-Al2O3 besitzt kontrollierbare Mengen Fluorid und ist katalytisch aktiv. Der Einfluss von Fluorid auf die katalytische Aktivität und die Oberflächenbeschaffenheit der Proben wurde umfassend untersucht und über zwei unterschiedliche Testreaktion evaluiert. In diesem Zuge konnte auch die Bildung von Brønsted-Zentren auf der Oberfläche gesteuert und ihr Bildungsmechanismus besser verstanden werden. Ein besseres Verständnis zur katalytischen Lewis-Aktivität der Probe konnte durch die direkte Beobachtung der aktiven Oberfläche erreicht werden. Hier wurden reaktive und koordinativ ungesättigte AlV- und AlIV-Sites beobachtet, die durch den Kontakt mit Luft zerstört werden und dadurch ihre katalytische Aktivität verlieren. / The present work deals with the synthesis and properties of fluorine-doped aluminum (hydr)oxides. For this purpose, a synthesis protocol was first developed, which allowed the controlled and reproducible synthesis of F-Al(OH)3 phases. Based on this sol-gel route, parameters such as the fluorine content of the phases could be controlled and the influence on structural properties could be systematically investigated. The amorphous F-Al(OH)3 samples show a number of interesting properties. The characterization was carried out mainly by MAS NMR spectroscopic methods. Outstanding structural feature of the samples is the presence of AlV- and AlIV-sites, which are characteristic of the high degree of structural disorder in the samples. The investigation of the thermal properties has shown that even at temperatures below 80 °C there is a proportional dehydroxylation of the phases, which is associated with a strong increase of the undercoordinated AlV- and AlIV-species. At around 300 °C, the phases are largely dehydrated, but contact with air causes a reaction with atmospheric H2O molecules. With sufficient time and high humidity, this leads to complete rehydration of the sample, which in turn is associated with the decline of the AlV- and AlIV-species. If the F-Al(OH)3 phases are calcined in vacuum at 700 °C, a weakly crystalline transition alumina-like F-Al2O3 is obtained. Thus, the F-Al2O3 produced has controllable amounts of fluoride and is catalytically active. The influence of fluoride on the catalytic activity and surface finish of the samples was extensively studied and evaluated by two different test reactions. In this context, the formation of Brønsted centers on the surface could be controlled which also led to a better understanding of the mechanism of the formation. A better understanding of the catalytic Lewis activity of the sample could be achieved by direct observation of the active surface. Here, reactive and coordinatively unsaturated AlV- and AlIV-sites were observed which were destroyed by contact with air, thereby losing their catalytic activity.

Geträgerte Vanadiumoxidkatalysatoren sind wegen ihrer Vielseitigkeit bei Oxidationsreaktionen von großem Interesse. Der Schlüssel zum Verständnis der zugrunde liegenden Mechanismen ist ein weitreichendes Verständnis in die mikroskopische Struktur der Vanadiumoxide unter verschiedenen Bedingungen sowie die Art der Bindung an die Oberfläche des Trägers. In der vorliegenden Arbeit werden die Systeme Vanadiumoxid/Aluminiumoxid und Vanadiumoxid/Siliziumoxid mittels Dichtefunktionaltheorie in Kombination mit statistischer Thermodynamik untersucht. Als Modelle für Aluminiumoxid werden die stabile alpha-Al2O3 bzw. die metastabile kappa-Al2O3 Phase verwendet und ein ultradünner, epitaxialer SiO2 Film auf Mo(112) wird als Siliziumoxidsupport verwendet. Dessen einzigartige atomare Struktur, genauso wie diejenige eindimensionaler Silizumoxid-Streifen, die mit dem Film auf der Oberfläche koexistieren, wird durch kombinierte experimentelle und theoretische Untersuchungen aufgeklärt. Die Bildung einer neuen, "sauerstoffreichen" Phase des SiO2/Mo(112) Films wird vorhergesagt und deren Existenz anschließend experimentell gezeigt. Die Zielsetzung der Arbeit ist es zu Verstehen, wie Vanadiumoxidaggregate mit der Oberfläche verknüpft sind und den Einfluß des oxidischen Trägers auf die geometrische und elektronische Struktur der geträgerten Spezies zu untersuchen. Der Schwerpunkt liegt auf der Suche nach einer Korrelation von Struktureigenschaften mit der katalytischen Aktivität von Reaktionen die nach dem Mars-van Krevelen Mechanismus ablaufen. Hierzu wird die Energie für die Bildung eines Sauerstoffdefekts als Indikator für die Leistungsfähigkeit des Katalysators verwendet. Der Einfluß der Trägerstruktur auf die Schwingungsmoden des Interfacebereichs wird untersucht, um den Ursprung von charakteristischen Banden im experimentellen Spektrum von Vanadiumoxid/Siliziumoxid und Vanadiumoxid/Aluminiumoxid zu ergründen. / Supported vanadium oxide catalysts are of high interest because of their potential in a wide variety of oxidation reactions. A key step to fully understand the catalytic mechanism is a profound knowledge of the microscopic structure of the active vanadia species under various conditions and the way they are anchored to the support material. In the present work, density functional theory in combination with statistical thermodynamics is employed to investigate two vanadia-based systems, i.e., vanadia/alumina and vanadia/silica. The alumina support is modeled using the stable alpha-Al2O3 and the metastable kappa-Al2O3 phases, whereas ultrathin SiO2 film epitaxially grown on Mo(112) is employed as a silica support. The unique atomic structure of the latter as well as that of the one-dimensional silica stripes, found to coexist with the film in a perfect registry, are precisely determined based on combined theoretical and experimental studies. Moreover, the formation of a new, "O-rich" phase of the SiO2/Mo(112) film is predicted, whose existence is subsequently experimentally confirmed. The aim of the thesis is to provide an understanding on how vanadia aggregates anchor to the surface and to examine the role of the oxide support on the molecular and electronic structure of the stable VOx species. The efforts have focused on finding correlations between structural properties and catalytic activity in reactions proceeding via the Mars-van Krevelen mechanism. In accord therewith, the formation energy of a lattice oxygen defect is used as an indicator of catalytic performance. The influence of the support structure on the interface vibrational modes is analyzed in an attempt to shed light on the origin of the characteristic bands observed in the experimental spectra of vanadia/alumina and vanadia/silica model catalysts.

Deposition of alumina thin films in the presence of fluorine as a method for reducing thehydrogen incorporation in the films was investigated in this thesis. Hydrogen incorporated in alumina thin films have been shown to cause a lower density and refractive index in amorphous films, assist electrical conduction through thin amorphous films as well as inhibiting the formation of the thermally stable α-phase. The depositions were made in a ultra high vacuum system where high vacuum conditions were simulated by leaking water vapor into the system. No substrate heating or substratebias was applied. Films were deposited at a range of fluorine partial pressures, from 2,5×10-6- 5×10-5 Torr, and were analyzed by elastic recoil detection analysis, nuclear reaction analysis, scanning electron microscopy and x-ray diffraction. Mass spectrometry measurements were done during the depositions to analyze the deposition process. The mass spectrometry investigations show that there is a trend of increasing O2 partial pressures with increasing fluorine partial pressures during the depositions. This is attributed to the well known reaction: 2H2O+F2→O2+4HF. However, no trend in the measured water partial pressures can be observed. The increase in the O2 partial pressure is therefore attributed to a reaction between water and fluorine on the chamber walls. The chemical analysis show that the hydrogen incorporation in the films were lowered from ~10 at.% when deposited in the presence of water vapor to ~3 at.% when deposited in the presence of water vapor and 2×10-5 Torr fluorine. The hydrogen incorporation stabilize at ~3 at.% at higher fluorine partial pressures. However, there is also a large amount of fluorine incorporated in the films, ~20 at.% with a fluorine partial pressure during the deposition of 2×10-5 Torr and ~46 at.% with a fluorine partial pressure of 5×10-5 Torr. There is a slight increase in the aluminum concentration in the films deposited with fluorine. This is attributed to bonding the hydrogen in aluminum hydroxide while the reminder forms Al2O3 or Al leading to an increase in the aluminum concentration in the film. A linear decrease in the deposition rate with increasing fluorinepartial pressures during the deposition was observed, this can be explained by sputter etching of AlFx and AlOxFy by energetic O- ions. The XRD investigation show that the films deposited with the highest fluorine partial pressures were x-ray amorphous, the films with deposited with lower fluorine partial pressures are therefore also assumed to be amorphous.