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Efeito da incorporação de flúor nas propriedades de superfície de filmes DE aC:H /

Marins, Nazir Monteiro dos Santos. January 2010 (has links)
Resumo: Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) e fluorados (a-C:H:F) foram depositados a partir de plasmas de misturas de acetileno/argônio e acetileno/argônio/hexafluoreto de enxofre. Para a primeira mistura de gases, o plasma foi mantido por 5 e 10 minutos a uma pressão de 9,5 Pa (30% C2H2 e 70% Ar) enquanto para a segunda ele foi mantido por 5 minutos utilizando-se 30% C2H2, 65% Ar e 5% SF6 a uma pressão total de 9,5 Pa. A potência do sinal de excitação foi variada de 5 a 125 W e o efeito deste parâmetro nas propriedades do filme foi investigado. De modo a fluorar os filmes obtidos a partir da mistura acetileno/argônio estes foram submetidos, imediatamente após a deposição e sem exposição ao ar atmosférico, a tratamentos em plasmas de SF6. Tais procedimentos foram conduzidos durante 5 minutos utilizando-se uma fonte de rádiofrequência (13,56 MHz, 70 W) a uma pressão total de 13,3 Pa. Foram utilizadas as técnicas de espectroscopia Raman e espectroscopia de fotoelétrons - XPS para investigar as respectivas microestruturas e composições químicas das amostras. A dureza e o coeficiente de atrito dos filmes foram determinados pelas técnicas de nanoindentação e tribometria, respectivamente. A receptividade das amostras à água foi analisada através de dados de ângulo de contato e a rugosidade foi determinada por interferometria ótica. Os filmes de a-C:H obtidos a partir de plasmas de C2H2 e Ar em potências mais baixas (5 e 25 W) apresentaram estruturas e composições de natureza polimérica, enquanto os preparados em potências intermediárias (50 e 75 W) apresentaram maiores proporções de ligações de carbono tetraédricos e baixo teor de hidrogênio, indicando uma estrutura do tipo DLC (Diamond-Like Carbon). Os filmes depositados com as potências mais elevadas (100 e 125 W) apresentaram estrutura do tipo grafitica... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo) / ABSTRACT: Hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) and fluorinated (a-C:H:F) thin films were deposited from acetylene/argon and acetylene/argon/sulfur hexafluoride mixtures. For the first gas mixture, the plasma was kept for 5 or 10 minutes using 9.5 Pa of pressure (30% C2H2 e 70% Ar) while for the second it was kept for 5 minutes using 30% C2H2, 65% Ar e 5% SF6 at a total pressure of 9.5 Pa. The power of the excitation signal was changed from 5 to 125 W and the effect of such parameter on the properties of the films was investigated. To fluorinate the a-C:H films they were submitted, immediately after deposition and without exposure to atmosphere, to SF6 plasma treatments. Such procedures were conducted for 5 minutes in radiofrequency (13.56 MHz, 70 W) plasmas of 13.3 Pa of pressure. Raman and X-Ray photoelectron spectroscopes were employed to investigate, respectively, the microstructure and chemical composition of the films. Film hardness and friction coefficient were determined from nanoindentation and tribometry techniques, respectively. The receptivity of the samples towards water was evaluated through contact angle data and roughness was measured by optical interferometry. The a-C:H films obtained from the C2H2 and Ar plasma mixtures in lower power (5 e 25 W) presented polymer-like structures and compositions while those prepared using intermediary power levels ( 50 e 75 W) presented higher proportions of tetrahedral carbon bonds and low proportions of hydrogen, suggesting a Diamond like Carbon (DLC) structure. Films deposited using the higher power (100 e 125 W) plasmas presented a graphitic structure. As the material prepared with lower power signals were submitted to the SF6 post deposition treatment, surface chemical composition was changed but the polymeric nature of the films was kept. The graphitic nature of the films synthesized in the higher power regime was intensified after... (Complete abstract click electronic access below) / Orientadora: Elidiane Cipriano Rangel / Coorientador: Rogério Pinto Mota / Banca: Konstantin Georgiev Kostov / Banca: Mauríco Antonio Algatti / Banca: Jonny Vilcarromero Lopez / Banca: Pedro Augusto de Paula nascente / Doutor
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Sistemas bioinspirados aplicados no estudo de interação e sensoriamento de derivados xantênicos /

Aoki, Pedro Henrique Benites. January 2014 (has links)
Orientador: Carlos José Leopoldo Constantino / Banca: Marystela Ferreira / Banca: Eloi da Silva Feitosa / Banca: Noboru Hioka / Banca: Henrique de Santana / O Programa de Pós Graduação em Ciência e Tecnologia dos Materiais, PosMat, tem caráter institucional e integra as atividades de pesquisa em materiais de diversos campi / Resumo: Nesta tese de doutorado foram apresentadas duas vertentes de trabalho. A primeira trouxe os resultados referentes à fabricação de filmes finos (nanômetros de espessura) de fosfolipídios utilizando as técnicas Layer-by-layer (dipping e spray) e Langmuir-Blodgett (LB). Os objetivos foram: i) otimizar o crescimento dos filmes finos contendo diferentes arquiteturas moleculares; ii) explorar a eficiência destas diferentes arquiteturas moleculares na detecção de derivados xantênicos em soluções diluídas; iii) investigar a influência de filmes contendo fosfolipídios com matrizes para a imobilização de enzimas na construção de biossensores. Na segunda vertente do trabalho foi abordado o estudo de interação entre o derivado xantênico eritrosina e sistemas miméticos de membrana biológica baseados em filmes de Langmuir e vesículas unilameares gigantes (GUV). Arquiteturas moleculares significativamente distintas foram obtidas dependendo da técnica empregada no crescimento dos filmes (LB, dipping-e spray-LbL). Essas diferentes arquiteturas moleculares mostraram-se fundamentais para a resposta dos sensores e, consequentemente, sobre as discriminações das soluções. Além disso, matrizes formadas por filmes de fosfolipídios demonstraram-se superiores para a imobilização de enzimas na construção de biossensores, possivelmente por apresentar um ambiente biologicamente compatível para a adsorção de biomoléculas. Em termos de interação, o derivado xantênico eritrosina apresentou interações com a membrana lipídica, principalmente quando formada por fosfolipídios insaturados. De particular relevância, os efeitos da oxidação lipídica em GUV, gerados pela foto-ativação do xantênico, foram relacionados a interações entre os oxigênios singletos e as insaturações das cadeias dos fosfolipídios / Abstract: In this we have present two patheays of work. The first one brought the results of the phospholipid immobilization as thin films (nanometer thickness) by using the Layer-by-Layer (dipping and spray) and Langmuir-Blodgett (LB) techniques. The main goals were to: i) optimize the thin film growth toward different molecular architectures; ii) explore the efficiency of these different molecular architectures to detect xanthenes derivatives in diluted water solutions; iii) investigate the influence of phospholipids matrices for the immobilization of enzymes in the design of biosensors. In the second pathway, we have addressed the interaction study between the xanthene erythrosine and Langmuir films and giant unilamellar vesicles (GUV) as mimetic systems of biological membrane. Significantly different molecular architectures were obtained depending on the technique used in the growth of the films (LB, dipping-and-spray-LbL). These different molecular architectures have shown to be essential for the response of the sensing units and, therefore, to the discrimination of the solutions. In addition, matrices composed by phospholipid films were proved be superior for the immobilization of enzymes in the design of biosensors, possibly due to a more biologically friendly environment to adsorb biomolecules. Interactions were observed between the the xanthene erythorosine and the lipid membrane, especially when composed by unsaturated phospholipids. The effects of lipid oxidation in GUV, generated by the xanthene photo-activation, were assigned to the interaction between singlet oxygen and unsaturations of phospholipid chains / Doutor
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Preparação e caracterização óptica de filmes de ORMOSIL obtidos via processo sol-gel dopados com azocorantes /

Paula, Kelly Tasso de. January 2016 (has links)
Orientador: Fábio Simões de Vicente / Banca: Dario Antonio Donatti / Banca: Agnaldo Aparecido Freschi / Resumo: A isomerização fotoinduzida transcis reversível de azocompostos tem sido extensivamente estudada nas últimas décadas. A fotoisomerização transcis das moléculas azoaromáticas ocorre quando estas moléculas fotocromáticas são expostas à irradiação de luz com comprimento de onda apropriado. A incorporação desses azocompostos em matrizes poliméricas tem originado materiais com potenciais aplicações em diversos campos como óptica não linear e sistemas de armazenamento óptico. Esse trabalho é dedicado à preparação e caracterização óptica de filmes de ORMOSIL (silicatos organicamente modificados) dopados com os azocorantes Methyl Red (MR) e Methyl Orange (MO). Estes materiais híbridos combinam as vantagens do processo sol-gel, com características específicas de polímeros orgânicos, permitindo o processamento de filmes finos, sem fraturas e fissuras. As amostras foram preparadas via processo sol-gel, a partir do alcóxido 3-glicidoxipropiltrimetoxissilano (GPTMS) dopado com MR e MO. A matriz foi depositada em forma de filmes finos sobre lâminas de vidro pela técnica de revestimento por imersão (dip coating). Para as caracterizações ópticas dos filmes foram realizadas medidas de espectroscopia de absorção UV/Vis, que permitiu a identificação das bandas de absorção e sua variação quando expostas a um feixe de luz. Os filmes mostraram mudanças reversíveis no seu espectro de UV/Vis de absorção relacionada com a fotoisomerização de trans-cis induzida pela luz quando expostos a um LED branco de alta intensidade. O efeito fotocrômico apresentado pelas amostras foi analisado em diferentes irradiâncias do feixe de excitação, onde foi possível a determinação das constantes de tempo para cada irradiância. Também foi analisado o fotocromismo na presença de bombeio óptico em diferentes temperaturas, ... (Resumo completo, clicar acesso eletrônico abaixo) / Abstract: The reversible photoinduced trans  cis isomerization of azo dye-doped compounds has been extensively studied in the last decades. The trans  cis photoisomerization of azodye molecules occurs when these photochromic molecules are photo-selected by linearly polarized light of appropriate wavelength. The incorporation of these azo compounds in polymeric matrices has given rise to materials with potential applications in various fields as nonlinear optics and optical storage systems. This work is dedicated to the preparation and optical characterization of ORMOSIL (Organic Modified Silicates) films doped with Methyl Red (MR) and Methyl Orange (MO) azo dyes. These hybrids materials combine the advantages of sol-gel process with specifics characteristics of organic polymers, allowing the preparation of thin films without fractures or cracks. ORMOSIL samples were prepared by sol-gel process derived from 3-Glycidoxypropyltrimethoxysilane (GPTS) alkoxide doped with MR and MO. MR and MO-doped GPTS-derived thin films were deposited onto glass slides by dip-coating technique. In order to characterize optically, UV/Vis absorption spectroscopy measurements were performed, which allowed the identification of the absorption bands, and its variation when exposed to a light beam. Films samples showed reversible changes in its UV-Vis absorption spectrum related to the trans-cis photoisomerization induced by light when exposed to a cold white LED. The photochromic effect of the samples was analyzed at different light intensities of the excitation beam, where it was possible to determine the time constants for each irradiance. It was also analyzed in the presence of optical pumping at different temperatures, allowing the determination of the activation energy of the cis-trans photoisomerization process ... (Complete abstract click electronic access below) / Mestre
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Avaliação da técnica de evaporação resistiva para a deposição de filmes finos de GaAs e compostos de GaAs com óxidos e cloretos de Er ou Yb /

Corrêa, Patrícia. January 2008 (has links)
Orientador: Luiz Vicente de Andrade Scalvi / Banca: Valmor Roberto Mastelaro / Banca: Elisabete Aparecida Andrello Rubo / O Programa de Pós-Graduação em Ciência e Tecnologia de Materiais, PosMat, tem caráter institucional e integra as atividades de pesquisa em materiais de diversos campi da Unesp / Resumo: Neste trabalho é feita a deposição de filmes finos pela técnica de Evaporação Resistiva a partir de pós de Arseneto de Gálio (GaAs) e compostos de GaAs com Óxidos e Cloretos de Érbio (Er) ou Itérbio (Yb). Trata-se de um método relativamente simples de deposição, no qual os compostos são evaporados conjuntamente. O objetivo é observar a eficiência desse método para a produção desses filmes finos, a partir de compostos que possuam diferentes características, tais como consideráveis diferenças de temperaturas de evaporação. Depositamos filmes em diferentes condições e estequiometrias e analisamos as propriedades estruturais pela técnica de difração de raios-X. A composição qualitativa das amostras foi obtida por energia dispersiva de raios-X. As propriedades ópticas foram analisadas através de medidas de transmitância óptica dentro da faixa do visível ao infravermelho médio. Realizamos também a caracterização elétrica através de medidas de resistência em função da temperatura em filmes de GaAs e composto de GaAs com 'ErCl IND 3'. Apresentamos no apêndice uma proposta de investigação das propriedades de transporte elétrico de uma dessas amostras, envolvendo um modelo para cálculo da condutividade. De imediato, a contribuição deste trabalho é para a compreensão dos fenômenos físicos que acontecem durante o processo de crescimento, e a investigação parâmetros de deposição que viabilizem o emprego da técnica para os diferentes materiais evaporados. / Abstract: In this work, thin film deposition is carried out, using the resistive evaporation technique, from powders of gallium arsenide (GaAs) and erbium (Er) or ytterbium (Yb) oxides and chlorides. It is a relatively simple deposition technique, where the compounds are simultaneously evaporated. The goal is to observe the efficiency of this growth method for the production of thin films, from compounds with distinct characteristics, such as high difference between evaporation temperatures. Films have been deposited under different conditions and stoichiometry, and their structural properties were analyzed by X-ray diffraction technique. Sample composition was obtained by X-ray dispersive energy. Optical properties were analyzed through optical transmittance from visible to medium infrared. Electrical characterization was also carried out, using measurements of resistance as function of temperature for GaAs and GaAs with 'ErCl IND 3' compounds. An appendix is also presented, containing a proposal of electrical transport investigation, involving conductivity calculation. The contribution of this work is towards the understanding of physical phenomena that takes place during the growth process, and the investigation of deposition parameters with make reliable the utilization of this technique for the different evaporated materials. / Mestre
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Produ??o e an?lise do desempenho ?ptico e el?trico de filmes finos de SnO2:F para aplica??es fotovoltaicas

Queiroz, Jos? C?sar Augusto de 13 February 2015 (has links)
Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-02-22T21:55:16Z No. of bitstreams: 1 JoseCesarAugustoDeQueiroz_DISSERT.pdf: 11090566 bytes, checksum: 538148e21b61bcc8bb2deea11aad91bd (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-02-24T20:09:42Z (GMT) No. of bitstreams: 1 JoseCesarAugustoDeQueiroz_DISSERT.pdf: 11090566 bytes, checksum: 538148e21b61bcc8bb2deea11aad91bd (MD5) / Made available in DSpace on 2016-02-24T20:09:42Z (GMT). No. of bitstreams: 1 JoseCesarAugustoDeQueiroz_DISSERT.pdf: 11090566 bytes, checksum: 538148e21b61bcc8bb2deea11aad91bd (MD5) Previous issue date: 2015-02-13 / Conselho Nacional de Desenvolvimento Cient?fico e Tecnol?gico - CNPq / No in?cio do s?culo XX revestimentos superficiais ou filmes finos, eram materiais que despertavam interesses unicamente em aplica??es ?ticas. Esses filmes tinham uma participa??o meramente utilit?ria, onde necessitava apenas da medida da espessura do mesmo e suas propriedades ?ticas. Com o crescimento exponencial do emprego de filmes finos em microeletr?nica, criou-se a necessidade de compreender a natureza intr?nseca dos filmes. Em 1907 foi publicado o primeiro estudo sobre um filme fino transparente e condutor para a luz vis?vel. Tais propriedades foram observadas em filmes de ?xido de c?dmio (CdO) obtidos por pulveriza??o cat?dica seguida de oxida??o t?rmica. Ao passar do tempo, outros filmes como ZnO, SnO2, In2O3 e suas ligas tamb?m foram classificadas como TCO (?xidos Condutores Transparentes). Atualmente o campo de aplica??o de tais filmes ? amplo e compreende setores como mostradores eletr?nicos de cristais l?quidos, eletrodos transparentes usados em eletroqu?mica, janelas inteligentes refletoras de radia??o no infravermelho, coletor solar plano, camada anti-refletoras para c?lulas solares, transistores e camadas passivadoras de superf?cies de dispositivos semicondutores. Neste trabalho estudou-se a propriedades ?ticas e el?tricas de filmas de SnO2:F (di?xido de Estanho dopado com Fl?or) para aplica??es fotovoltaicas, variando a temperatura de sinteriza??o do filmes (500, 550 e 600?C) e a quantidade do agente dopante (NH4F) na solu??o. Os filmes foram depositados via deposi??o qu?mica de vapor, por spray, e caracterizados por Difra??o de raios-X, Transmit?ncia e reflet?ncia, resistividade e condut?ncia. Como resultados pode-se destacar que para filmes sintetizados a temperaturas mais altas tem estruturas mais cristalinas, a cristalinidade dos filmes ? diretamente proporcional a sua resistividade e que para maiores concentra??es de agente dopante tem-se uma diminui??o na resistividade dos filmes.
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Influ?ncia da desordem estrutural nas propriedades magn?ticas de filmes finos de Co2FeAl

Escobar, Vivian Montardo 27 March 2015 (has links)
Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-02-29T22:23:18Z No. of bitstreams: 1 VivianMontardoEscobar_TESE.pdf: 17648948 bytes, checksum: 23d85bb79cd4d63d8a4cec5ad7c10da7 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-03-01T23:57:25Z (GMT) No. of bitstreams: 1 VivianMontardoEscobar_TESE.pdf: 17648948 bytes, checksum: 23d85bb79cd4d63d8a4cec5ad7c10da7 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-03-01T23:57:25Z (GMT). No. of bitstreams: 1 VivianMontardoEscobar_TESE.pdf: 17648948 bytes, checksum: 23d85bb79cd4d63d8a4cec5ad7c10da7 (MD5) Previous issue date: 2015-03-27 / Filmes finos de Co2FeAl (CFA) e tricamadas CFA/M/CFA, nas quais M ? Au ou Ag, produzidos por magnetron sputtering em substratos de vidro e orientados de MgO (100), foram investigados com ?nfase em suas propriedades estruturais, magn?ticas est?ticas e din?micas, sendo estabelecida uma rota para produ??o de ligas de Heusler na forma de filmes finos em substratos amorfos e orientados. Atrav?s da an?lise de difra??o de raios-X, destaca-se a forma??o de estrutura cristalina c?bica do CFA, com fase A2 (desordenada estruturalmente), onde os ?tomos se distribuem aleatoriamente na rede. As medidas de magnetoimped?ncia foram realizadas variando o ?ngulo de aplica??o do campo magn?tico externo e a corrente de sonda com rela??o ? anisotropia. As medidas de VSM revelam, em algumas amostras, a presen?a de um patamar ocasionado pela forma??o de sistema bif?- sico. Por esse motivo, os resultados apresentaram efeitos de magnetoimped?ncia assim?trica (AMI). Para filmes simples e tricamadas com espessura da camada magn?tica igual a 500 nm, o efeito AMI ? mais pronunciado. Com o aumento da espessura, apesar do comportamento bif?sico permanecer, os efeitos assim?tricos come?am a diminuir. O comportamento magn?tico quasi-est?tico e din?mico ? interpretado em termos das caracter?sticas estruturais das amostras produzidas. Portanto, foi estabelecida uma rota para produ??o de ligas de Heusler na forma de filmes finos, com fase estrutural A2 e devido ? desordem estrutural foi poss?vel estudar os efeitos hister?ticos e assim?tricos de MI. / Thin films of Co2FeAl (CFA) and trilayers with CFA/M/CFA, where M is Au or Ag, produced by magnetron sputtering onto glass and oriented (MgO (100)) substrates were investigated. The structural, magnetic static and magnetic dynamics properties were analyzed by distinct experimental techniques. Through X-ray diffraction was observed an A2 phase for the samples (completely disordered), where the atoms are randomly located in the lattice. The static magnetic behavior, in some samples, reveal a plateau behavior generated by a biphasic system. The magnetoimpedance measurements were performed by varying the angle between the external magnetic field and current with respect of anisotropy direction. For this reason, the MI results show a asymmetric magnetoimpedance (AMI) behavior. For the single and trilayers samples with 500 nm-thick, the AMI effect is more evident in comparison with samples with 1000 nm-thick. Therefore, in this work was stablished a route to produce Heusler alloy samples with A2 phase in thin film geometry onto amorphous and oriented substrates, and due to structural disorder was possible to study the hysteretic and MI asymmetric effects.
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Estudo da deposi??o de filmes finos de BaTi(1-X)Zr(X)O3 por meio de planejamento Box-Behnken

Mendes, Armando Monte 28 January 2015 (has links)
Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-06-03T23:23:31Z No. of bitstreams: 1 ArmandoMonteMendes_DISSERT.pdf: 6303230 bytes, checksum: 90f6b4372d141b15db0fbf05e1726b17 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-06-07T00:00:37Z (GMT) No. of bitstreams: 1 ArmandoMonteMendes_DISSERT.pdf: 6303230 bytes, checksum: 90f6b4372d141b15db0fbf05e1726b17 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-06-07T00:00:37Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ArmandoMonteMendes_DISSERT.pdf: 6303230 bytes, checksum: 90f6b4372d141b15db0fbf05e1726b17 (MD5) Previous issue date: 2015-01-28 / Conselho Nacional de Desenvolvimento Cient?fico e Tecnol?gico (CNPq) / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior (CAPES) / Materiais cer?micos ferroel?tricos com estrutura perovskita (ABO3) s?o largamente utilizados em componentes de mem?ria no estado s?lido (FeRAM?s e DRAM?s) bem como em capacitores de m?ltiplas camadas, especialmente na forma de filmes finos. Quando dopados com ?ons de zirc?nio, materiais ? base de BaTiO3 formam uma solu??o s?lida conhecida como titanato zirconato de b?rio (BaTi1-xZrxO3). Tamb?m chamado de BZT, esse material pode sofrer significativas mudan?as em suas propriedades el?tricas diante de pequenas varia??es do teor de zirc?nio na rede cristalina. O presente trabalho consiste no estudo dos efeitos dos par?metros de deposi??o de filmes finos de BaTi0,75Zr0,25O3 pelo m?todo de spin-coating sobre sua morfologia e propriedades f?sicas, utilizando um planejamento experimental do tipo Box-Behnken. A resina utilizada no processo de deposi??o foi sintetizada pelo m?todo dos precursores polim?ricos (Pechini) e foi subsequentemente dividida em tr?s parcelas cada qual teve sua viscosidade ajustada para 10, 20 e 30 mPa?s por meio de um viscos?metro rotativo. As resinas foram depositadas em substratos de Pt/Ti/SiO2/Si pelo m?todo de spin-coating em 15 diferentes combina??es de viscosidade, velocidade de rota??o (3000, 5500 e 8000 rpm) e n?mero de camadas depositadas (5, 8 e 11 camadas) previstas no planejamento e ent?o calcinadas a 800?C por 1h. A fase cristalina dos filmes foi determinada por difra??o de Raios-X (DRX) e indexada com a carta JCPDS 36-0019. Morfologia da superf?cie e tamanho de gr?o foram observados por meio de microscopia de for?a at?mica (AFM) indicando filmes bem densificados e tamanho m?dio de gr?o em torno de 50nm. Imagens da se??o transversal dos filmes foram obtidas por interm?dio de microscopia eletr?nica de varredura com emiss?o de campo (MEV-FEG), indicando espessuras bem uniformes variando de 140-700 nm entre amostras. Medidas de capacit?ncia foram realizadas ? temperatura ambiente com a ajuda de um analisador de imped?ncia. Os filmes apresentaram valores de constante diel?trica de 49-277 a 100KHz e baixa perda diel?trica. O planejamento indicou efeitos n?o significativos das intera??es entre os par?metros de deposi??o sobre a espessura dos filmes. A metodologia de superf?cies de resposta possibilitou uma melhor observa??o dos efeitos das vari?veis. / Ferroelectric ceramics with perovskite structure (ABO3) are widely used in solid state memories (FeRAM?s and DRAM's) as well as multilayered capacitors, especially as a thin films. When doped with zirconium ions, BaTiO3-based materials form a solid solution known as barium zirconate titanate (BaTi1-xZrxO3). Also called BZT, this material can undergo significant changes in their electrical properties for a small variation of zirconium content in the crystal lattice. The present work is the study of the effects of deposition parameters of BaTi0,75Zr0,25O3 thin films by spin-coating method on their morphology and physical properties, through an experimental design of the Box-Behnken type. The resin used in the process has been synthesized by the polymeric precursor method (Pechini) and subsequently split into three portions each of which has its viscosity adjusted to 10, 20 and 30 mPa?s by means of a rotary viscometer. The resins were then deposited on Pt/Ti/SiO2/Si substrates by spin-coating method on 15 different combinations of viscosity, spin speed (3000, 5500 and 8000 rpm) and the number of deposited layers (5, 8 and 11 layers) and then calcined at 800 ? C for 1 h. The phase composition of the films was analyzed by X-ray diffraction (XRD) and indexed with the JCPDS 36-0019. Surface morphology and grain size were observed by atomic force microscopy (AFM) indicating uniform films and average grain size around 40 nm. Images of the cross section of the films were obtained by scanning electron microscopy field emission (SEM-FEG), indicating very uniform thicknesses ranging from 140-700 nm between samples. Capacitance measurements were performed at room temperature using an impedance analyzer. The films presented dielectric constant values of 55-305 at 100kHz and low dielectric loss. The design indicated no significant interaction effects between the deposition parameters on the thickness of the films. The response surface methodology enabled better observes the simultaneous effect of variables.
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Desenvolvimento de um sistema a jato de plasma obtido em c?todo oco para deposi??o de filmes finos

Almeida, Edalmy Oliveira de 25 November 2003 (has links)
Made available in DSpace on 2014-12-17T15:14:59Z (GMT). No. of bitstreams: 1 EdalmyOA_DISSERT.pdf: 5395204 bytes, checksum: aa327d82551c66fd74b45b2c66f1d4ed (MD5) Previous issue date: 2003-11-25 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior / Foi constru?do e testado um novo sistema de jato a plasma obtido por descarga em catado oco. O sistema usado para deposi??o de filmes finos ? formado de um catado oco, que trabalha a altas press?es (aproximadamente 1 a 5 mbar), fonte DC (0 a 1200 V), c?mara cil?ndrica de borossilicato fechada por flages de a?o inox. No flange superior est? conectado o c?todo oco, o qual possui entrada de g?s e sistema de refrigera??o. Ele ? eletricamente isolado do resto do flange e polarizado negativamente. Em frente ao mesmo est? um porta amostra em a?o inox, m?vel, com dist?ncia variando entre 0 e 22mm, polarizado em rela??o ao c?todo com tens?es vari?veis entre 0 e 200V. Ambos os c?todos s?o equipados com termopares. Uma prote??o m?vel (shutter) ? colocada entre o c?todo oco e o porta amostra do substrato para proteger a amostra, enquanto se faz uma limpeza do c?todo. O equipamento foi testado com c?todo de cobre em cavidade de dimens?es diferentes. Foram investigadas influ?ncias dos par?metros prim?rios como di?metro, profundidade da cavidade de c?todo oco e a efici?ncia do equipamento. O fluxo de arg?nio foi fixado a 15 sccm, com press?o constante de 2,7 a 3,5 mbar. Cada filme foi depositado durante 15min e depois foi caracterizado por microscopia eletr?nica para verificar sua uniformidade. Atrav?s da varia??o das dimens?es do c?todo, foi poss?vel avaliar a taxa de desgaste do seu material, para as diferentes condi??es de trabalho. Valores de taxa de desgaste at? 3,2x10-6g/s foram verificados. Para uma dist?ncia do substrato de 11mm, o filme depositado ficou limitado a uma ?rea circular de 22mm de di?metro. Os filmes obtidos encontram-se com espessura em torno de 2,1μm/min
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Meander-line multilayer magnetoimpedance: din?mica da magnetiza??o em tricamadas ferromagn?ticas / Meander-line multilayer magnetoimpedance: magnetization dinamics in ferromagnetic trilayers

Melo, Ac?cio Silveira de 23 March 2017 (has links)
Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2017-07-03T14:11:15Z No. of bitstreams: 1 AcacioSilveiraDeMelo_DISSERT.pdf: 122869949 bytes, checksum: f9b3641fc5a1b60341859e275b85c1c3 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2017-07-10T12:50:20Z (GMT) No. of bitstreams: 1 AcacioSilveiraDeMelo_DISSERT.pdf: 122869949 bytes, checksum: f9b3641fc5a1b60341859e275b85c1c3 (MD5) / Made available in DSpace on 2017-07-10T12:50:20Z (GMT). No. of bitstreams: 1 AcacioSilveiraDeMelo_DISSERT.pdf: 122869949 bytes, checksum: f9b3641fc5a1b60341859e275b85c1c3 (MD5) Previous issue date: 2017-03-23 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior (CAPES) / O efeito magnetoimped?ncia (MI) ? uma das ferramentas mais completas para a an?-lise magn?tica de nanoestruturas, uma vez que ? poss?vel observar o comportamento mag-n?tico din?mico em diferentes faixas de frequ?ncias e campos magn?ticos aplicados, emregimes magn?ticos saturado e n?o saturados. Nos ?ltimos anos, estudos t?m investigadoa in?u?ncia da geometria das amostras no efeito MI, em particular, sistemas na forma detricamadas e de Meander-line, separadamente. Baseado nisso, este trabalho busca umaintegra??o destas duas geometrias com o objetivo de estudar as propriedades estruturais eo comportamento magn?tico quase-est?tico e din?mico em tricamadas de [NiFe/Cr/NiFe].As amostras foram produzidas atrav?s da t?cnica de Magnetron Sputtering, sobre subs-trato amorfos de vidro, com espessura das camadas ferromagn?tica variando entre 75 nm e142.5 nm, enquanto a espessura da camada de Cr varia entre 15 nm e 150 nm, totalizandoum conjunto de 10 amostras. Em particular, a espessura total da tricamada foi mantidaconstante em 300 nm independente da amostra produzida. Associado a isto, para cadaconjunto de espessura acima citado foram utilizados tr?s diferentes geometrias no planodo substrato, a primeira na forma retangular, tradicionalmente estudada, e as outrasduas na forma Meander-line, produzidas utilizando-se m?scaras durante o crescimentodos ?lmes. A caracteriza??o estrutural, atrav?s da difra??o de raios X, mostrou um com-portamento cristalogr??co tradicionalmente encontrados para ?lmes de NiFe crescidos emsubstratos amorfos, com uma textura [111]. A caracteriza??o magn?tica quase-est?tica foirealizada atrav?s de curvas de magnetiza??o, obtidas para diferentes dire??es de campomagn?tico aplicado no plano do ?lme em rela??o ao eixo principal da amostra, atrav?sda t?cnica de magnetometria de amostra vibrante (VSM). De uma forma geral, as curvasde magnetiza??o revelam propriedades magn?ticas isotr?picas no plano e s?o fortementedependentes da espessura das camadas ferromagn?ticas de NiFe. Por outro lado, umafraca depend?ncia com a geometria estudada (retangular ou Meander-line) ? observado,como esperado. Finalmente, para o estudo da din?mica da magnetiza??o, foi utilizada at?cnica de magnetoimped?ncia em uma ampla faixa de campo (?700 Oe) e frequ?ncia (0.5at? 3.0 GHz). Al?m disso, duas con?gura??es entre campos e correntes foram exploradas,denominadas aqui de con?gura??o longitudinal (campo e corrente na mesma dire??o) etransversal (campo aplicado perpendicularmente ? corrente). As medidas de magnetoim-ped?ncia apresentam uma estrutura de picos duplos ou m?ltiplos picos, caracter?sticos doefeito FMR, maior respons?vel pelas varia??es do efeito MI no intervalo de frequ?nciasestudado. Com respeito a depend?ncia do efeito em fun??o da raz?o entre as espessurasdas camadas de NiFe e Cr, ? poss?vel observar uma forte in?u?ncia da anisotropia mag-n?tica na estrutura de picos das curvas de MI, principalmente nas amostras com camadasferromagn?ticas mais espessas, este fato est? ligado a contribui??o de anisotropia parafora do plano. Por ?m, uma an?lise das curvas em rela??o a geometria das amostras re-vela mudan?as no comportamento da din?mica de magnetiza??o, acarretando em curvasassim?tricas e uma grande complexidade na estrutura de picos observado.
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Caracteriza??o do efeito da corrente e temperatura na estequiometria dos filmes finos de TiN depositados por Gaiola cat?dica e Magnetron sputtering

Nascimento, Igor Oliveira 23 June 2017 (has links)
Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2017-09-19T20:22:47Z No. of bitstreams: 1 IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2017-09-20T21:21:32Z (GMT) No. of bitstreams: 1 IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5) / Made available in DSpace on 2017-09-20T21:21:32Z (GMT). No. of bitstreams: 1 IgorOliveiraNascimento_TESE.pdf: 5575757 bytes, checksum: c19dabd04c4f5dd3dd95968e649af7af (MD5) Previous issue date: 2017-06-23 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior (CAPES) / Filmes finos de nitreto de tit?nio foram depositados em superf?cies de sil?cio e de vidro, utilizando as t?cnicas de deposi??o: descarga em Gaiola Cat?dica e Magnetron Sputtering, a fim de verificar a influ?ncia da corrente e da temperatura na taxa de deposi??o, na estequiometria dos filmes finos e nas propriedades estruturais dos filmes finos. As deposi??es por Gaiola Cat?dica foram realizadas nas configura??es gaiola alta, gaiola baixa e por uma inova??o da t?cnica utilizando a gaiola dupla, em atmosfera gasosa composta de 75% de hidrog?nio e 25% de nitrog?nio, sob temperaturas de 300?C e 350?C, e tempos de deposi??es de 2 e 4 horas. As deposi??es foram realizadas em Magnetron Sputtering em atmosfera gasosa composta de 75% de arg?nio e 25% de nitrog?nio, utilizando correntes de 0,40 A e 0,50 A, nos tempos de deposi??es de 2 e 4 horas. Para a caracteriza??o dos filmes finos de nitreto de tit?nio, utilizou-se a espectroscopia Rama (RAMAN) que forneceu a medida direta das energias dos nodos da primeira ordem dos ?tomos constituintes dos filmes finos. Os espectros mostraram interdifusividade at?mica que comprovaram a forma??o de nitreto de tit?nio o que permitiu o c?lculo da raz?o da concentra??o N/Ti, As an?lises de difra??o de raios-X (DRX) comprovaram que os filmes finos obtidos s?o compostos por TiN, apresentando varia??es nos planos cristalinos indicando a n?o exist?ncia de um plano preferencial para o crescimento dos filmes, A espectroscopia de energia de dispers?o (EDS) analisou quantitativamente a composi??o dos filmes finos de nitreto de tit?nio, A microscopia eletr?nica de varredura (MEV) evidenciou a estrutura dos filmes finos de nitreto de tit?nio e foi poss?vel calcular as espessuras dos mesmos, A microscopia de for?a at?mica (AFM) mostrou algumas caracter?sticas microestruturais como a diferen?a entre picos e vales da topografia dos filmes finos de nitreto de tit?nio. De maneira geral, os filmes finos de nitreto de tit?nio depositados por Gaiola Cat?dica apresentaram menor cristalinidade devido ? baixa quantidade de nitrog?nio na atmosfera e, evidenciaram que quanto mais elevada a temperatura, maior ser? a espessura do filme fino. Os filmes finos depositados por Magnetron Sputtering apresentaram crescimento na espessura com o aumento da corrente e s?o mais estequiom?tricos. / Thin films of titanium nitride deposited on silicon surfaces and glass deposition techniques using: Download cathodic cage and Magnetron Sputtering to verify the influence of flow and temperature in the deposition rate in stoichiometry of thin films and structural properties of thin films. Deposits of cathodic cage was carried out in high cage configurations and cage low an innovation of the technique using atmospheric gas double cage consisted of 75% hydrogen and 25% nitrogen to temperatures of 300 ? C and 350 ? C Y deposits both 2 and 4 hours. The deposits were made in an atmosphere of sputter gas Magnetrons consisting of 75% argon and 25% nitrogen using current 0.40 A and 0.50 A in the deposition time of 2 and 4 hours. Rama spectroscopy (Raman), which makes available for the characterization of thin layers of titanium nitride direct measurement of the energy of the node of the first order of the constituent atom of the thin films. The spectra showed interdifusivity atomic of the titan nitride formation that the calculation of the concentration ratio N / Ti, X-ray diffraction analysis (XRD) showed that the thin films obtained from TiN is composite with variations of the crystal planes indicating the non-existence of preference plan for The growth of films, microscopy of the energy dispersion spectroscopy (EDS) quantitatively analysed the composition of the thin films of titanium nitride, electron scanning (MEV) structure highlight thin films of titanium nitride was able to calculate the thickness thereof, the scanning force microscopy (AFM) showed microstructural properties, Which is the difference between the peaks and valleys of the topography of the thin films of titanium nitride. In general, thin films deposited by cathodic titanium nitride cage deposited a lower crystallinity due to the small amount of nitrogen in the atmosphere, and showed that the higher the temperature, the greater the thickness of the thin film. Thin films deposited by Magnetron Sputtering have increased thickness with increasing current and are stoichiometric.

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