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Elektronen-Holographische Tomographie zur 3D-Abbildung von elektrostatischen Potentialen in Nanostrukturen: Electron Holographic Tomography for the 3D Mapping of Electrostatic Potentials in Nano-StructuresWolf, Daniel 04 February 2011 (has links)
Die Aufklärung der grundlegenden Struktur-Eigenschaft-Beziehung von Materialen auf der (Sub-)Nanometerskala benötigt eine leistungsfähige Transmissionselektronenmikroskopie. Dabei spielen insbesondere die durch die Nanostruktur hervorgerufenen intrinsischen elektrischen und magnetischen Feldverteilungen eine entscheidende Rolle. Die Elektronen-Holographische Tomographie (EHT), d.h. die Kombination von off-axis Elektronenholographie (EH) und Elektronentomographie (ET), bietet einen einzigartigen Zugang zu dieser Information, weil sie die quantitative 3D-Abbildung elektrostatischer Potentiale und magnetostatischer Vektorfelder bei einer Auflösung von wenigen (5-10) Nanometern ermöglicht.
Für die Rekonstruktion des 3D-Potentials erfolgt zunächst die Aufzeichnung einer Kippserie von Hologrammen im Elektronenmikroskop. Durch die anschließende Rekonstruktion der Objektwelle aus jedem Hologramm liegt eine Amplituden- und eine Phasenkippserie vor. Die Phasenkippserie wird schließlich zur tomographischen 3D-Rekonstruktion des elektrostatischen Potentials verwendet.
Im Rahmen dieser Arbeit wurde die EHT von einer manuell aufwendigen zu einer weitestgehend automatisierten Methode entwickelt. Die Automatisierung beinhaltet die Entwicklung des ersten Softwarepaketes zur computergestützten Aufzeichnung einer holographischen Kippserie (THOMAS). Verglichen mit rein manueller Vorgehensweise verkürzt sich mit THOMAS die Dauer für die Aufnahme einer holographischen Kippserie, bestehend aus Objekt- und Leerhologrammen, auf weniger als ein Drittel. Mittlerweile beträgt die Aufnahmezeit im Mittel etwa 2-3 Stunden. Auch die holographische Rekonstruktion und zugehörige Operationen zur Entfernung von Artefakten in den Phasenbildern ist durch entsprechende
Prozeduren, welche für eine gesamte Kippserie in einem Schritt anwendbar sind, automatisiert.
Zudem ermöglichen erst spezielle selbstentwickelte Ausrichtungsmethoden die exakte Verschiebungskorrektur von Kippserien der hier untersuchten stabförmigen Objekte (Nanodrähte, FIB-präparierte Nadeln). Für die tomographische Rekonstruktion wurde in dieser Arbeit die Simultane Iterative Rekonstruktionstechnik (SIRT) zur W-SIRT weiterentwickelt. In der W-SIRT wird statt einer Einfachen eine Gewichtete Rückprojektion bei jeder Iteration verwendet, was eine bessere Konvergenz der W-SIRT gegenüber der SIRT zur Folge hat. Wie in anderen ET-Techniken auch, ist in der EHT für die Rekonstruktion des dreidimensionalen Tomogramms meist nur aus Projektionen innerhalb eines begrenzten Winkelbereichs möglich. Dies führt in den Tomogrammen zu einem sogenannten Missing Wedge, welcher neben dem Verlust von Au ösung auch Artefakte verursacht. Daher wird eine Methode vorgestellt, wie sich das Problem des Missing Wedge bei geeigneten Objekten durch Ausnutzung von Symmetrien entschärfen lässt.
Das mittels EHT rekonstruierte 3D-Potential gibt Aufschluss über äußere (Morphologie) und innere Objektstruktur, sowie über das Mittlere Innere Potential (MIP) des Nanoobjektes. Dies wird am Beispiel von epitaktisch gewachsenen Nanodrähten (nanowires, NWs) aus GaAs und AlGaAs demonstriert.
Anhand entsprechender Isopotentialflächen im 3D-Potential lässt sich die 3D-Morphologie studieren: Die Facetten an der Oberfläche der NWs erlauben Rückschlüsse über die dreidimensionale kristalline Struktur. Des Weiteren zeigt das rekonstruierte 3D-Potential eines AlGaAs/GaAs-Nanodrahtes deutlich dessen Kern/Schale-Struktur, da sich GaAs-Kern und AlGaAs-Schale bezüglich des MIP um 0.61 V unterscheiden.
Im Falle dotierter Halbleiterstrukturen mit pn-Übergang (z.B. Transistoren) bietet die mittels EHT rekonstruierte Potentialverteilung auch Zugang zur Diffusionsspannung am pn-Übergang. Diese Größe kann ohne Projektions- und Oberflächeneffekte (dead layer) im Innern der Probe gemessen und in 3D analysiert werden. Für drei nadelförmig mittels FIB präparierte Proben (Nadeln) werden die Diffusionsspannungen bestimmt: Die Messungen ergeben für zwei Silizium-Nadeln jeweils 1.0 V und 0.5 V, sowie für eine Germanium-Nadel 0.4 V.
Im Falle der GaAs- und AlGaAs-Nanodrähte reduziert der Missing Wedge die Genauigkeit der mittels EHT gewonnenen 3D-Potentiale merklich, insbesondere bezüglich der MIP-Bestimmung. Dagegen stimmen die Potentiale der Germanium und Silizium-Nadeln exzellent mit theoretischen Werten überein, wenn der Missing Wedge durch Ausnutzung der Objektsymmetrie behoben wird.:Inhaltsverzeichnis
1. Einleitung
2. Grundlagen der TEM
2.1. Elastische Elektron-Objekt-Wechselwirkung
2.1.1. 3D-Potentialverteilung im Festkörper und Mittleres Inneres Potential (MIP)
2.1.2. Elektrische Phasenschiebung
2.1.3. Magnetische Phasenschiebung
2.1.4. Amplitudenkontrast
2.2. Abbildungstheorie
2.2.1. Abbildung durch ideale Linse
2.2.2. Abbildung durch fehlerbehaftete Linse
2.2.3. Partiell kohärente Abbildung durch fehlerbehaftete Linse
2.2.4. Abbildung schwacher Objekte
2.3. Zusammenfassung
3. Off-axis Elektronenholographie
3.1. Holographisches Prinzip
3.2. Aufzeichnung des Elektronenhologramms
3.3. Rekonstruktion der Bildwelle
3.4. Ein uss der Aberrationen
3.5. Stochastische Phasenschwankung
3.6. Stochastische Potentialschwankung und optimale Dicke für 2D-Abbildungen von Potentialen
3.7. Phase Unwrapping
3.7.1. Eindimensionales Phase Unwrapping
3.7.2. Goldsteins Branch-Cut Algorithmus
3.7.3. Flynns (Weighted) Minimum Discontinuity Approach (W)MDA
3.7.4. Anwendungsbeispiel
3.8. Zusammenfassung
4. Elektronentomographie
4.1. Ein-Achsen-Tomographie
4.2. Projektion
4.2.1. Die Radontransformation
4.2.2. Das Projektions-Schnitt-Theorem
4.2.3. TEM Abbildungsmodi und Projektionsbedingung für Tomographie
4.3. Rekonstruktion des Tomogramms
4.3.1. Gewichtete Rückprojektion
4.3.2. Simultane Iterative Rekonstruktions-Technik (SIRT)
4.3.3. Tomographische Auflösung
4.3.4. Missing Wedge
4.4. Automatisierte Elektronentomographie
4.5. Ausrichtung der Kippserie
4.5.1. Ausrichtung mittels Kreuzkorrelation
4.5.2. Ausrichtung anhand von Bezugspunkten
4.5.3. Ausrichtung ohne Bezugspunkte
4.6. 3D-Visualisierung
4.7. Rauschfilterung
4.8. Zusammenfassung
5. Holographische Tomographie
5.1. Vorarbeiten
5.2. Computergestützte Aufzeichnung einer holographischen Kippserie
5.2.1. Charakteristik des TEM Goniometers
5.2.2. Kalibrierung
5.2.3. Bestimmung des Euzentrischen Punktes und z-Korrektur in die Euzentrische Höhe
5.2.4. Optimale Position des Leerhologramms
5.2.5. Computergestützte Aufzeichnung
5.2.6. THOMAS
5.2.7. Zusammenfassung
5.3. Holographische Rekonstruktion
5.3.1. Beseitigung von Artefakten in Elektronenhologrammen
5.3.2. Rekonstruktion mit Sinc-Filter
5.3.3. Stabilität des Phasen-Offsets
5.3.4. Interaktives Unwrapping einer Phasenkippserie
5.4. Ausrichtung der Phasen-Kippserie
5.4.1. Manuelle Ausrichtung mithilfe von Bezugslinien
5.4.2. Manuelle Ausrichtung mithilfe der Schnittebenen
5.4.3. Bestimmung der Kippachse
5.4.4. Identifizierung dynamischer Phasenschiebungen
5.5. Tomographische Rekonstruktion mittels W-SIRT
5.5.1. W-SIRT - Implementierung
5.5.2. Gewichtungsfilter
5.5.3. Konvergenz
5.5.4. z-Auflösung bei Missing Wedge
5.5.5. Artefakte bei Missing Wedge
5.5.6. Konvergenz bei Missing Wedge
5.5.7. Lineare Korrektur bei Missing Wedge
5.5.8. Ausnutzung der Objektsymmetrie bei Missing Wedge
5.5.9. Einfluss von Rauschen
5.5.10. Einfluss dynamischer Effekte
5.5.11. Zusammenfassung
6. 3D-Abbildung elektrostatischer Potentiale 127
6.1. Experimentelle Details
6.2. Latexkugel
6.3. Dotierte Halbleiter
6.3.1. Nadel-Präparation mittels FIB
6.3.2. Dotierte Silizium-Nadeln
6.3.3. n-Dotierte Germanium-Nadel
6.3.4. Untersuchung der Diffusionsspannung
6.4. Halbleiter-Nanodrähte
6.4.1. GaAs-Nanodraht
6.4.2. GaAs/AlGaAs-Nanodraht
6.4.3. Bestimmung der Mittleren Inneren Potentiale
7. Zusammenfassung und Ausblick
A. Anhang
A.1. Näherung der Klein-Gordon Gleichung
A.2. Herleitung der Phase-Grating Approximation
A.3. Elongationsfaktor / Revealing the essential structure-property relation of materials on a (sub-)nanometer scale requires a powerful Transmission Electron Microscopy (TEM). In this context, the intrinsic electrostatic and magnetic fields, which are related to the materials nano structure, play a crucial role. Electron-holographic tomography (EHT), that is, the combination of off-axis electron holography (EH) with electron tomography (ET), provides an unique access to this information, because it allows the quantitative 3D mapping of electrostatic potentials and magnetostatic vector fields with a resolution of a few (5-10) nanometers.
The reconstruction of the 3D potential starts with the acquisition of a hologram tilt series in the electron microscope. The subsequent reconstruction of the electron object wave from each hologram yields a tilt series in both amplitude and phase images. Finally, the phase tilt series is used for the tomographic reconstruction of the 3D potential.
In this work, EHT has been developed from a manual and time-consuming approach to a widely automated method. The automation includes the development of the first software package for computer-controlled acquisition of holographic tilt series (THOMAS), a prerequisite for efficient data collection. Using THOMAS, the acquisition time for a holographic tilt series, consisting of object and reference holograms, is reduced by more than a factor of three, compared to the previous, completely manual approaches. Meanwhile, the acquisition takes 2-3 hours on average. In addition, the holographic reconstruction and corresponding methods for removal of artefacts in the phase images have been automated, now including one-step procedures for complete tilt series.
Furthermore, specific self-developed alignment routines facilitate the precise correction of displacements within the tilt series of the rod-shaped samples, which are investigated here (e.g. nanowires, FIB needles). For tomographic reconstruction, a W-SIRT algorithm based on a standard simultaneous iterative reconstruction technique (SIRT) has been developed. Within the W-SIRT, a weighted back-projection instead of a simple back-projection is used. This yields a better convergence of the W-SIRT compared to the SIRT.
In most cases in EHT (likewise in other ET techniques), the reconstruction of the three-dimensional tomogram is only feasible from projections covering a limited tilt range. This leads to a so-called missing wedge in the tomogram, which causes not only a lower resolution but also artefacts. Therefore, a method is presented, how to solve the missing wedge problem for suitable objects by exploiting symmetries.
The 3D potential offers the outer (morphology) and inner structure, as well as the mean inner potential (MIP) of the nano object. This is shown by means of EHT on epitaxially grown nanowires (NWs) of GaAs and AlGaAs. The 3D morphology is studied using the corresponding iso-surfaces of the 3D potential: The facets on the nanowires surface allow conclusions about the crystalline structure. Moreover, the reconstructed 3D potential of a AlGaAs/GaAs NW clearly shows its core/shell structure due to the MIP difference between GaAs and AlGaAs of 0.61 V.
In case of doped semiconductor structures with pn-junctions (e.g. transistors) the potential distribution, reconstructed by EHT, also provides access to the built-in voltage across the pn-junction. The built-in voltage can be analyzed in 3D and measured without projection and surface effects (e.g. dead layers) within the sample. The measurements in three needle-shaped specimens, prepared by FIB, yield for two silicon needles 1.0 V and 0.5 V, and for a germanium needle 0.4 V.
In case of the GaAs and AlGaAs nanowires the missing wedge reduces the accuracy of the reconstructed 3D potentials significantly, in particular in terms of MIP determination. However, the potentials of the silicon and germanium needles are in excellent agreement with theoretical values, when the object symmetry is exploited to fill-up the missing wedge.:Inhaltsverzeichnis
1. Einleitung
2. Grundlagen der TEM
2.1. Elastische Elektron-Objekt-Wechselwirkung
2.1.1. 3D-Potentialverteilung im Festkörper und Mittleres Inneres Potential (MIP)
2.1.2. Elektrische Phasenschiebung
2.1.3. Magnetische Phasenschiebung
2.1.4. Amplitudenkontrast
2.2. Abbildungstheorie
2.2.1. Abbildung durch ideale Linse
2.2.2. Abbildung durch fehlerbehaftete Linse
2.2.3. Partiell kohärente Abbildung durch fehlerbehaftete Linse
2.2.4. Abbildung schwacher Objekte
2.3. Zusammenfassung
3. Off-axis Elektronenholographie
3.1. Holographisches Prinzip
3.2. Aufzeichnung des Elektronenhologramms
3.3. Rekonstruktion der Bildwelle
3.4. Ein uss der Aberrationen
3.5. Stochastische Phasenschwankung
3.6. Stochastische Potentialschwankung und optimale Dicke für 2D-Abbildungen von Potentialen
3.7. Phase Unwrapping
3.7.1. Eindimensionales Phase Unwrapping
3.7.2. Goldsteins Branch-Cut Algorithmus
3.7.3. Flynns (Weighted) Minimum Discontinuity Approach (W)MDA
3.7.4. Anwendungsbeispiel
3.8. Zusammenfassung
4. Elektronentomographie
4.1. Ein-Achsen-Tomographie
4.2. Projektion
4.2.1. Die Radontransformation
4.2.2. Das Projektions-Schnitt-Theorem
4.2.3. TEM Abbildungsmodi und Projektionsbedingung für Tomographie
4.3. Rekonstruktion des Tomogramms
4.3.1. Gewichtete Rückprojektion
4.3.2. Simultane Iterative Rekonstruktions-Technik (SIRT)
4.3.3. Tomographische Auflösung
4.3.4. Missing Wedge
4.4. Automatisierte Elektronentomographie
4.5. Ausrichtung der Kippserie
4.5.1. Ausrichtung mittels Kreuzkorrelation
4.5.2. Ausrichtung anhand von Bezugspunkten
4.5.3. Ausrichtung ohne Bezugspunkte
4.6. 3D-Visualisierung
4.7. Rauschfilterung
4.8. Zusammenfassung
5. Holographische Tomographie
5.1. Vorarbeiten
5.2. Computergestützte Aufzeichnung einer holographischen Kippserie
5.2.1. Charakteristik des TEM Goniometers
5.2.2. Kalibrierung
5.2.3. Bestimmung des Euzentrischen Punktes und z-Korrektur in die Euzentrische Höhe
5.2.4. Optimale Position des Leerhologramms
5.2.5. Computergestützte Aufzeichnung
5.2.6. THOMAS
5.2.7. Zusammenfassung
5.3. Holographische Rekonstruktion
5.3.1. Beseitigung von Artefakten in Elektronenhologrammen
5.3.2. Rekonstruktion mit Sinc-Filter
5.3.3. Stabilität des Phasen-Offsets
5.3.4. Interaktives Unwrapping einer Phasenkippserie
5.4. Ausrichtung der Phasen-Kippserie
5.4.1. Manuelle Ausrichtung mithilfe von Bezugslinien
5.4.2. Manuelle Ausrichtung mithilfe der Schnittebenen
5.4.3. Bestimmung der Kippachse
5.4.4. Identifizierung dynamischer Phasenschiebungen
5.5. Tomographische Rekonstruktion mittels W-SIRT
5.5.1. W-SIRT - Implementierung
5.5.2. Gewichtungsfilter
5.5.3. Konvergenz
5.5.4. z-Auflösung bei Missing Wedge
5.5.5. Artefakte bei Missing Wedge
5.5.6. Konvergenz bei Missing Wedge
5.5.7. Lineare Korrektur bei Missing Wedge
5.5.8. Ausnutzung der Objektsymmetrie bei Missing Wedge
5.5.9. Einfluss von Rauschen
5.5.10. Einfluss dynamischer Effekte
5.5.11. Zusammenfassung
6. 3D-Abbildung elektrostatischer Potentiale 127
6.1. Experimentelle Details
6.2. Latexkugel
6.3. Dotierte Halbleiter
6.3.1. Nadel-Präparation mittels FIB
6.3.2. Dotierte Silizium-Nadeln
6.3.3. n-Dotierte Germanium-Nadel
6.3.4. Untersuchung der Diffusionsspannung
6.4. Halbleiter-Nanodrähte
6.4.1. GaAs-Nanodraht
6.4.2. GaAs/AlGaAs-Nanodraht
6.4.3. Bestimmung der Mittleren Inneren Potentiale
7. Zusammenfassung und Ausblick
A. Anhang
A.1. Näherung der Klein-Gordon Gleichung
A.2. Herleitung der Phase-Grating Approximation
A.3. Elongationsfaktor
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Ultraschnelle optoelektronische und Materialeigenschaften von Stickstoff-haltigem GaAsSinning, Steffen 04 January 2006 (has links)
This work summarizes properties of nitrogen containing GaAs, which are relevant for optoelectronic application and allow a deeper insight in the physics of this material. In the first part the dependence of the banggap energy of nitrogen implanted GaAs on several process parameters (implanted nitrogen concentration, implantation temperature, annealing duration and temperature) is investigated. The second part focuses on the relaxation dynamics of highly excited carriers. For this, the carrier relaxation dynamics in nitrogen implanted GaAs, in epitaxially grown GaAsN and in (pure) GaAs are investigated by means of pump probe measurements on a femtosecond time scale. The comparision of experimental results to calculated scattering rates leads to relevant informations of scattering mechanisms and electronic properties. / Diese Arbeit widmet sich Eigenschaften von Stickstoff-haltigem Gallium-Arsenid, die sowohl für das physikalische Verständnis als auch für optoelektronische Anwendungen dieses Materials relevant sind. Im ersten Teil dieser Arbeit wird die Abhängigkeit der Bandlücken-Energie von verschiedenen Prozess-Parametern (Stickstoffkonzentration, Implantationstemperatur, Ausheildauer und -temperatur) in Stickstoff-implantiertem GaAs untersucht. Der zweite Teil konzentriert sich auf die Relaxationsdynamik hoch angeregter Ladungsträger. Neben dem oben bereits angesprochenen Material wird in Anrege-Abfrage-Experimenten mit Femtosekunden-Zeitauflösung zusätzlich epitaktisch gewachsenes GaAsN und (Stickstoff-freies) GaAs untersucht. Die Berechnung der Streuraten und der Vergleich mit experimentell gewonnenen Daten liefert wesentliche Informationen über beteiligte Steumechanismen und elektronische Eigenschaften.
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Elaboration d'hétérostructures d'InN/InP et de semi-conducteurs III-V poreux : caractérisations physico-chimique, optique et électriqueBen Khalifa, Sana 20 October 2008 (has links) (PDF)
Nous avons élaboré des structures de quatre couches d'InN/InP (100) en enrichissant en In la surface nitrurée à l'aide d'une cellule d'évaporation calibrée. Les propriétés physiques de ces structures ont été étudiées in-situ à l'aide de spectroscopie, des électrons Auger (AES), des photoélectrons X (XPS) et UV (UPS) avant d'être analysées ex-situ par photoluminescence (PL) et mesures électriques (I(V) et C(V)). Nous avons mené une étude de PL en fonction de la température et l'évolution de l'énergie du pic de PL obtenue en fonction de la température suivait la forme en S-inversé caractéristique des effets de localisation. Les caractéristiques électriques courant-tension des structures Hg/InN/InP montrent qu'elles forment un contact Schottky. Les caractéristiques capacité-tension montrent qu'elles se comportent comme une structure lorsqu'on polarise négativement et comme une structure MIS quand on polarise positivement. Dans la dernière partie de cette thèse, des résultats sont présentés sur l'étude des propriétés physico-chimiques et optiques de semi-conducteurs poreux : le GaAs et l'InP poreux. L'effet de confinement quantique dans les cristallites de GaAs poreux a été confirmé après avoir caractérisé optiquement par Photoréflectivité (PR) et photoluminescence (PL) des échantillons de GaAs poreux
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Surface-enhanced optomechanical disk resonators and force sensing / Résonateurs à disques optomécaniques améliore par leurs surfaces et capteurs de forceGuha, Biswarup 11 July 2017 (has links)
L'optomécanique est la science des interactions entre la lumière et les mouvements mécaniques. Ce rapport de thèse décrit des expériences réalisées avec des microdisques fabriqué dans différents résonateurs semi-conducteurs III-V: l'Arséniure de Gallium (GaAs), l'Arséniure d'Aluminium Gallium (AlGaAs) et l'Arséniure d'Indium Phosphide (InGaP). Ces matériaux sont compatibles avec les fonctionnalités de l’optoélectronique et procurent un couplage optomécanique géant. Pour améliorer les performances des résonateurs en GaAs, nous avons développé des méthodes de traitement de surface permettant de réduire la dissipation optique par un facteur dix et ainsi d'atteindre un facteur de qualité de six millions. En plus de ces études sur le GaAs, nous avons réalisés une étude comparative des interactions optomecaniques dans des microdisques d'InGaP et d'AlGaAs, et nous avons mis en évidences leurs résonances optomécaniques. Finalement, nous avons réalisé des mesures de force avec des résonateurs en GaAs, démontrant un nouveau principe de détection basé sur notre étude de leur la trajectoire dans l'espace de phase et leur bruit de phase / Optomechanics studies the interaction between light and mechanical motion. This PhD thesis reports on optomechanical experiments carried with miniature disk resonators fabricated out of distinct III-V semiconductors: Gallium Arsenide (GaAs), Aluminium Gallium Arsenide (AlGaAs) and Indium Gallium Phosphide (InGaP). These materials are compliant with optoelectronics functionalities and provide giant optomechanical coupling. In order to boost performances of GaAs resonators, we implemented surface control techniques and obtained a ten-fold reduction of optical dissipation, attaining a Q of six million. On top of GaAs, we performed a comparative investigation of optomechanical interactions in InGaP and AlGaAs disk resonators, and demonstrated their operation as optomechanical oscillators. Finally, we carried out optomechanical force sensing experiments with GaAs resonators, analyzing a new sensing principle in light of the phase space trajectory and phase noise of the corresponding oscillators
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Croissance métamorphique par Epitaxie par Jets Moléculaires et caractérisations physiques pour Transistor Bipolaire à Hétérojonction InP/InGaAs sur GaAsLefebvre, Eric 03 June 2005 (has links) (PDF)
Les Transistors Bipolaires à Hétérojonction fonctionnent à hautes fréquences sous des tensions d'environ 5V, en particulier dans le système de matériaux InP/InGaAs. Il est souhaitable d'obtenir ces performances non pas sur InP mais sur GaAs, substrat plus robuste, disponible en taille supérieure et préféré en industrie. Un buffer métamorphique GaAs → InP est alors requis pour relaxer la contrainte due au désaccord de paramètre de maille. Cette thèse porte sur la croissance par Epitaxie par Jets Moléculaires de tels buffers et de TBH InP/InGaAs à base fortement dopée au béryllium. Les buffers sont évalués via un protocole expérimental dédié au TBH, associant des caractérisations «matériaux» (photoluminescence, Double Diffraction des rayons X, microscopies optique et à force atomique AFM) et électriques (diodes métamorphiques). Nous comparons ainsi les deux processus de relaxation possibles : avec introduction progressive de la contrainte sur buffer graduel In(Ga)AlAs, abrupte sur buffer uniforme InP. Le rôle de la cinétique des adatomes III en front de croissance sur le processus graduel est démontré. Les performances des TBH métamorphiques InP/InGaAs épitaxiés sur GaAs via un buffer graduel InGaAlAs sont au final proches de celles des TBH de référence sur InP.
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Exploration of liquid crystal polymer packaging techniques for rf wireless systemsPatterson, Chad E. 03 July 2012 (has links)
In the past decade, there has been an increased interest in low-cost, low-power, high data rate wireless systems for both commercial and defense applications. Some of these include air defense systems, remote sensing radars, and communication systems that are used for unmanned aerial vehicles, ground vehicles, and even the individual consumer. All of these applications require state-of-the-art technologies to push the limits on several design factors such as functionality, weight, size, conformity, and performance while remaining cost effective. There are several potential solutions to accomplish these objectives and a highly pursued path is through the utilization of advanced integrated system platforms with high frequency, versatile, multilayered materials.
This work intends to explore advanced 3-D integration for state-of the art components in wireless systems using LCP multilayer organic platforms. Several packaging techniques are discussed that utilize the inherent benefits of this material. Wire bond, via interconnect, and flip-chip packages are implemented at RF and millimeter-wave (mm-wave) frequencies to explore the benefits of each in terms of convenience, reliability, cost, and performance. These techniques are then utilized for the demonstration of bulk acoustic waveguide (BAW) filter applications and for the realization of highly integrated phased-array antenna systems.
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Uncooled Infrared Photon Detection Concepts and DevicesPiyankarage, Viraj Vishwakantha Jayaweera 23 March 2009 (has links)
This work describes infrared (IR) photon detector techniques based on novel semiconductor device concepts and detector designs. The aim of the investigation was to examine alternative IR detection concepts with a view to resolve some of the issues of existing IR detectors such as operating temperature and response range. Systems were fabricated to demonstrate the following IR detection concepts and determine detector parameters: (i) Near-infrared (NIR) detection based on dye-sensitization of nanostructured semiconductors, (ii) Displacement currents in semiconductor quantum dots (QDs) embedded dielectric media, (iii) Split-off band transitions in GaAs/AlGaAs heterojunction interfacial workfunction internal photoemission (HEIWIP) detectors. A far-infrared detector based on GaSb homojunction interfacial workfunction internal photoemission (HIWIP) structure is also discussed. Device concepts, detector structures, and experimental results discussed in the text are summarized below. Dye-sensitized (DS) detector structures consisting of n-TiO2/Dye/p-CuSCN heterostructures with several IR-sensitive dyes showed response peaks at 808, 812, 858, 866, 876, and 1056 nm at room temperature. The peak specific detectivity (D*) was 9.5E+10 Jones at 812 nm at room temperature. Radiation induced carrier generation alters the electronic polarizability of QDs provided the quenching of excitation is suppressed by separation of the QDs. A device constructed to illustrate this concept by embedding PbS QDs in paraffin wax showed a peak D* of 3E+8 Jones at ~540 nm at ambient temperature. A typical HEIWIP/HIWIP detector structures consist of single (or multiple) period(s) of doped emitter(s) and undoped barrier(s) which are sandwiched between two highly doped contact layers. A p-GaAs/AlGaAs HEIWIP structure showed enhanced absorption in NIR range due to heavy/light-hole band to split-off band transitions and leading to the development of GaAs based uncooled sensors for IR detection in the 2 5 μm wavelength range with a peak D* of 6.8E+5 Jones. A HIWIP detector based on p-GaSb/GaSb showed a free carrier response threshold wavelength at 97 µm (~3 THz)with a peak D* of 5.7E+11 Jones at 36 μm and 4.9 K. In this detector, a bolometric type response in the 97 - 200 µm (3-1.5 THz) range was also observed.
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High-Efficiency Linear RF Power Amplifiers DevelopmentSrirattana, Nuttapong 14 April 2005 (has links)
Next generation mobile communication systems require the use of linear RF power amplifier for higher data transmission rates. However, linear RF power amplifiers are inherently inefficient and usually require additional circuits or further system adjustments for better efficiency. This dissertation focuses on the development of new efficiency enhancement schemes for linear RF power amplifiers.
The multistage Doherty amplifier technique is proposed to improve the performance of linear RF power amplifiers operated in a low power level. This technique advances the original Doherty amplifier scheme by improving the efficiency at much lower power level. The proposed technique is supported by a new approach in device periphery calculation to reduce AM/AM distortion and a further improvement of linearity by the bias adaptation concept.
The device periphery adjustment technique for efficiency enhancement of power amplifier integrated circuits is also proposed in this work. The concept is clearly explained together with its implementation on CMOS and SiGe RF power amplifier designs. Furthermore, linearity improvement technique using the cancellation of nonlinear terms is proposed for the CMOS power amplifier in combination with the efficiency enhancement technique.
In addition to the efficiency enhancement of power amplifiers, a scalable large-signal MOSFET model using the modified BSIM3v3 approach is proposed. A new scalable substrate network model is developed to enhance the accuracy of the BSIM3v3 model in RF and microwave applications. The proposed model simplifies the modeling of substrate coupling effects in MOS transistor and provides great accuracy in both small-signal and large-signal performances.
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Etude et réalisation d'une source<br />térahertz accordable de grande pureté<br />spectraleCzarny, Romain 29 June 2007 (has links) (PDF)
La génération d'onde THz de grande pureté spectrale par photomélange est une technique très prometteuse afin de réaliser des oscillateurs locaux THz performants. Nous avons donc proposé une approche originale consistant à associer un laser bi-fréquence émettant autour de 1 µm à un photomélangeur de bande interdite compatible. Le choix de cette longueur d'onde permet la réalisation de lasers pompés diodes compacts et peu onéreux ainsi que l'utilisation de photoconducteurs présentant les propriétés électriques requises. <br />Ainsi, nous avons développé 2 lasers bi-fréquence amplifiés utilisant des milieux actifs (KGW et CaF2) dopés Yb dont l'utilisation permet de générer des puissances optiques supérieurs à 1 W ainsi qu'un signal de battement électrique continu de bonne pureté spectrale (<30 kHz).<br />Nous avons ensuite étudié et caractérisé 2 matériaux photoconducteurs compatibles avec une illumination à 1 µm : l'InGaAsN et l'In.23Ga.77As-BT épitaxié à basse température (BT) sur substrat métamorphique et dopé Be. Les propriétés de ces deux matériaux ont été étudiées et comparées avec celles du GaAs-BT.<br />Après avoir modélisé le fonctionnement de photomélangeurs (en prenant en compte la participation des trous) nous avons effectué des expériences de photomélange : nous avons détecté un signal de quelques dizaines de nW dont la fréquence a pu être accordée jusqu'à 2 THz.<br />Enfin, nous avons proposé un nouveau type de photomélangeur guide vertical. Les modélisations ont montré que la puissance THz émise (0,2 mW à 1 THz), l'accordabilité (0-3 THz) et la pureté spectrale du signal généré (< 30 KHz) de cette source devraient en faire une des plus attractive dans cette gamme de fréquence.
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In situ- und online-Raman-Spektroskopie zur Analyse von Halbleiterheterostrukturen aus ZnSxSe1-x und Gruppe-III-NitridenSchneider, Andreas 30 April 2002 (has links) (PDF)
In situ and online Raman spectroscopy - also known as Raman monitoring - offers the excellent opportunity among other possibilities for the evaluation of Raman spectra to investigate semiconductor layers during their growth without any interruption. Not only the surface properties of such layers can be studied, also simultaneously the substrate and the interface layer/substrate can be analysed.
This study presents the analysis of growth processes of ZnS/sub x/Se/sub(1-x)/ and GaN layers as well the investigation of nitrogen doped ZnSe:N. Molecular beam epitaxy (MBE) was used for the fabrication of these layers. The analysis of the Raman spectra was focused on the chemical composition of the semiconductor material, the stress in layer and substrate, the incorporation of extraneous atoms like nitrogen radicals into a crystal, the doping and structural order of the semiconductor and as well on the crystalline and amorphous phase of the material. Additionally to the MBE growth processes, the temperature induced resonant Raman scattering of ZnS/sub x/Se/sub(1-x)/ and ZnSe:N and also the desorption, adsorption and phase transition of a-As, a-Se and Sb were studied. Further investigations were undertaken on the nitridation of GaAs(100) by means of a nitrogen plasma generated in an rf-plasma source.
The properties and changes of the semiconductor layers and the substrate depending on the layer thickness during growth are evaluated. The results are compared with theoretical models (e.g. spatial correlation model and modified random-element-isodisplacement (MREI) model). / In situ- und online-Raman-Spektroskopie oder auch Raman-Monitoring genannt bietet unter anderem die ausgezeichnete Möglichkeit, das Wachstum von Halbleiterschichten ohne Unterbrechung zu verfolgen. Dabei können nicht nur die Oberflächeneigenschaften untersucht werden, sondern es können gleichzeitig auch Informationen über das Substrat und über die Grenzfläche Schicht/Substrat gemacht werden.
In der vorliegenden Arbeit wurden die Wachstumsprozesse von ZnS/sub x/Se/sub(1-x)/- und GaN-Schichten sowie des stickstoffdotierten ZnSe:N untersucht. Zur Schichtherstellung wurde die Molekularstrahlepitaxie (MBE) verwendet. Das Hauptaugenmerk wurde dabei auf die chemische Zusammensetzung der Halbleitermaterialien, Verspannungen von Schicht und Substrat, auf den Einbau von Fremdatomen wie Stickstoffradikale in ein Kristall, die Dotierung und die strukturelle Ordnung der Halbleiter sowie deren kristalline und amorphe Phase gerichtet. Neben den MBE-Wachstumsprozessen wurden temperaturinduzierte resonante Raman-Streuung an ZnS/sub x/Se/sub(1-x)/ und ZnSe:N sowie Desorptions-, Adsorptions- und Phasenübergänge von a-As, a-Se und Sb studiert. Die Nitridierung von GaAs(100) mittels eines Stickstoffplasmas aus einer rf-Quelle wurde ebenso untersucht.
Die Eigenschaften und Veränderungen der Halbleiterschichten und der Substrate während des Wachstums werden in Abhängigkeit von der Schichtdicke dargelegt. Die Ergebnisse werden mit entsprechenden theoretischen Modellen (z.B. Spatial-Correlation-Modell und Modified Random-Element-Isodisplacement (MREI)-Modell) verglichen.
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