Malgré la célébrité de certaines de ses estampes, consacrées à la mode et qui ont donné naissance à un genre appelé « bonnart », la dynastie Bonnart demeure peu connue. Ce travail vise à reconstruire l’histoire de cette famille parisienne et de ses deux boutiques de L’Aigle et du Coq, implantées rue Saint-Jacques. À l’étude de ses quatre générations succède l’analyse de la production de ses différents membres, qui furent imprimeurs, graveurs et marchands, mais aussi peintres et dessinateurs. Les Bonnart participèrent à des commandes royales et à la célébration du règne de Louis XIV tout en s’intéressant aux nouvelles tendances de l’art de leur temps. Notre catalogue comprend plus de 2 000 estampes, peintures et dessins ; il dessine un fonds qui dépasse largement les gravures de mode, résultant à la fois d’une activité de création et d’édition, comparable en bien des points à ceux de grandes familles contemporaines comme les Mariette ou les Poilly. Une grande partie de notre travail est ensuite consacrée à l’image de mode de la dynastie Bonnart, qui développe avec succès une formule influencée par les œuvres des Lepautre et de Jean Dieu de Saint-Jean. Ses membres profitent d’un intérêt général envers la mode, dont témoignent les articles du Mercure galant, et sont à l’origine de plusieurs innovations, en particulier celle du « portrait en mode ». Notre dernière partie revient quant à elle sur la réception et la fortune des Bonnart, depuis le XVIIe siècle jusqu’à aujourd’hui. Leurs images ont en effet largement été exploitées par les arts décoratifs, avant d’être considérées comme des documents historiques qui renseigneraient de manière fiable sur les mœurs de l’Ancien Régime et l’histoire du vêtement. / In spite of the fame of some of its engravings consecrated to fashion, which have given rise to a style called « bonnart », the Bonnart dynastie remains little known. This work aims to reconstruct the story of this Parisian dynasty and of its two boutiques « L’Aigle » and « Le Coq » established Rue Saint-Jacques. To the story of its four generations succeeds the analysis of the production of its different members that were printers, engravers and merchants, but also painters and designers. The Bonnart participated to royal orders and to the celebration of the reign of Louis XIV while interesting to the new tendencies of the art of their time. Our catalogue includes more than 2000 engravings, paintings and drawings ; it draws funds that pass widely beyond the « modes », resulting at once from an activity of creation and from an activity of edition, comparable in many aspects with those of great contemporaneous families such as those of the Mariette or of the Poilly families. A big part of our work, after that, is consecrated to the image of « mode » of the Bonnart dynasty that develops with success a formula influenced by the works of the Lepautre and of Jean Dieu de Saint-Jean. Its members profit by a general interest for fashion, shown in the articles of the « Mercure galant » ; they are at the origin of several innovations, in particular that of the « portrait en mode ». Our last part, as for it, come back to the reception and fortune of the Bonnart, from the 17th century until now. Their images have been, effectively, widely exploited by the decoratives arts, before being regarded as historical documents that would give valuable information about the customs of the Old Regime and the story of the clothing.

Parmi d’autres caractéristiques, la mémoire électronique idéale doit présenter une faible consommation d'énergie, haute densité et de la rapidité en lecture/écriture/effacement. Différents types de mémoires ont été ainsi développées. Un exemple en l’eSTM (Embedded Select Trench Memory). Ce travail de thèse étudie la caractérisation et l'optimisation des procédés de gravure plasma utilisés dans la fabrication de cette nouvelle technologie développée par STMicroelectronics Rousset, l'eSTM. Ce travail a été fortement lié à la caractérisation des parois du réacteur, le plasma lui-même et la surface de la plaquette de silicium. La caractérisation chimique des surfaces exposées aux plasmas a permis de caractériser et d'optimiser ce nouveau procédé de gravure. De plus, cette étude vise également à comprendre les dépôts sur les parois du réacteur qui se produisent pendant la gravure de la tranchée de l’eSTM. Ces interactions sont responsables de l’absence de reproductibilité des procédés de gravure. La gravure plasma est contrôlée par la formation d'une couche de passivation se formant en surface des flancs du silicium. La maitrise de cette couche par les conditions du plasma (pression, puissance source débit de gaz...) a permis de développer un model innovant afin d'optimiser le CD de la tranchée. De plus, cette thèse a également porté sur l'étude des dérives des CD au niveau des STI (Shallow Trench Isolation). Des mesures correctives ont été développées afin de contrôler les sources de variations en créant une nouvelle stratégie de gravure pour corriger la dispersion des CD entre lots (25 plaquettes de silicium). / Among other characteristics, the ideal memory should have low power consumption, fast read/write/erase and high density solution. Different types of memories have been developed to pursuit these specific properties. Example of this attempt is the eSTM (Embedded Select Trench Memory). This PhD work studies the characterization and optimization of the plasma etching processes for this new technology developed by STMicroelectronics, the eSTM. This work has been highly related to the characterization of the reactor walls, the plasma itself and the wafer surface. The main objectives of this thesis are to understand the fundamental mechanisms of the etching processes and to propose innovative solutions to reduce the variations of CD by reaching the good control of the process desired. This thesis would help for the enhancement of our knowledge on the physical phenomena which happens during this process, especially the passivation. This would offer the possibility of optimize the etch process and get the best CD (Critical Dimension) in terms of electrical results. The emphasis, was put on the characterization to get the maximum knowledge about the interactions taking place during the process, such as plasma-surface interactions and plasma-reactor wall interactions. Furthermore, this thesis was also focused on the optimization of the process drifts at STI (Shallow Trench Isolation) level, since the reproducibility of production processes generates serious concerns in making the component of the chips. Therefore, corrective actions were developed to control the source of variations by creating a regulation loop able to correct the CD dispersion between lots (25wafers).

Les travaux de cette thèse portent sur le développement (modélisation, conception, réalisation et tests) d’une surface intelligente (smart surface) composée d’un réseau d'actionneurs numériques MEMS, capables de mouvoir des charges posées dessus. Pour la réalisation de ces smart-surfaces, deux voies ont été explorées : un actionnement par voie électromagnétique, constituée d’aimants fixes et mobiles, et un actionnement utilisant des éléments bistables couplés à des alliages à mémoire de forme. Dans le premier cas, la simulation de l’interaction magnétique entre un micro-actionneur et le champ créé par des pistes conductrices placées à proximité a été réalisée. Un réseau de 5x5 micro-actionneurs électromagnétiques quadristables a été ensuite conçu, réalisé et caractérisé. Ce démonstrateur est fonctionnel en convoyage d’objets légers en translation et en rotation. Dans le second cas, la conception et la réalisation d’un actionneur MEMS élémentaire ont été menées : des modèles analytiques ont été confrontés aux résultats obtenus par éléments finis, et enfin comparés aux résultats expérimentaux. Ces travaux ciblent la problématique de la commande des systèmes mécatroniques, à actionneurs multiples, aux échelles méso ou microscopique. La connectique associée est un problème récurrent dans les systèmes fortement miniaturisés, les structures présentées ici présentent un fort potentiel de réduction des connexions filaires, voire leur élimination complète. / The work of this doctoral thesis involves in developing a smart surface (including modelling, design, fabrication and tests), composed of an array of MEMS digital actuators, capable of moving objects placed on it. In order to produce these smart surfaces, two actuation types were explored: electromagnetic actuation on fixed and mobile magnets and optothermal actuation of shape memory alloys on bistable elements. In the first case, simulation of the magnetic interaction between a micro-actuator and the magnetic field generated by nearby current wires was performed. Then, an array of 5x5 quadristable electromagnetic micro-actuators was designed, produced and characterized. This demo prototype is functional for small-weight object conveyance by translation and rotation. In the second case, design and fabrication of an elementary MEMS actuator were carried out: analytical models were confronted with the results from Finite Element Analysis, and at last compared to experimental ones. This work targets at the issue of controlling multiple-actuator mechatronics systems, at meso- or micrometric scale. Since the associated connectors are a recurring problem in highly miniaturized systems, the structures presented herein demonstrate important potential of cabling reduction, even towards complete wireless configurations.

« Tout au long de cette étude, nous avons essayé de conserver une perspective chronologique, pour autant que celle-ci recoupe l'évolution culturelle des collections du Séminaire. Notre travail est divisé en trois chapitres couvrant chacun un ou des aspects de cette histoire. Le premier chapitre est consacré à l'utilisation de l'imagerie religieuse au Séminaire depuis sa fondation jusqu'à la fin du XVIIIe siècle, avec un bref regard sur le XIXe siècle. Que ce soit dans un contexte dévotionnel ou missionnaire, ou encore dans le cadre de l'instruction, pour édifier ou récompenser, l'usage de la gravure était courant. Le Séminaire, de Québec, de par ses vocations premières d'instruction et d'évangélisation, était particulièrement destiné à devenir un centre de diffusion d'imagerie. Les nombreuses dévotions implantées par les fondateurs du Séminaire, ou répandues par les oeuvres spirituelles circulant à l'époque, rendaient nécessaire le recours à l'imagerie comme support matériel du culte. Nous traiterons de ces aspects ainsi que de l'approvisionnement du Séminaire en gravures, effectué principalement par le biais du Séminaire des Missions Etrangères de Paris. Dans un second chapitre, nous aborderons la question de l'évolution historique et matérielle des collections du Séminaire. Le XIXe siècle et le début du XXe siècle sont témoins d'un accroissement rapide de celles- ci : les acquisitions du Séminaire, les dons venant de religieux et de laïcs, de collectionneurs privés, se succèdent à un tel rythme qu'en 1901 l'artiste Raab, venu restaurer quelques toiles du Musée du Séminaire, s'émerveillera devant les gravures conservées à la voûte des Archives ; selon lui, le Séminaire possède alors "... la plus belle collection qu'il y ait en Amérique." Après avoir passé en revue les diverses acquisitions du Séminaire, nous nous arrêterons sur les moyens par lesquels les religieux se procuraient des estampes. Les voyages en Europe, notamment, étaient l'occasion d'une recherche active de gravures. Enfin, nous verrons quel rôle "culturel" était assigné à la gravure au Séminaire (documentation, décoration). Dans le troisième et dernier chapitre, nous traiterons plus particulièrement des collectionneurs et de leur apport aux collections du Séminaire. Dans un premier temps, nous étudierons les sources, les intérêts, les idées des principaux amateurs, à partir de leur correspondance ou de leur catalogue de collection. Nous verrons comment, pour la plupart, l'activité de collectionneur était mêlée de près à leurs occupations d'historiens, de bibliographes, de bibliothécaires et de chercheurs. En fait, l'intérêt pour la gravure semble avoir été de mise chez tous ceux qui s'occupaient d'histoire canadienne au XIXe siècle. Dans un second temps, nous essaierons de voir en quoi la gravure reflétait les conceptions historiques de cette époque. A cette fin, nous passerons en revue les divers projets de collections historiques élaborés par les collectionneurs ou encore par le Séminaire, notamment à l'occasion de fêtes commémoratives. »--Pages 6-8

Ce mémoire a pour objet le portrait dans l'estampe diffusée au Bas-Canada entre 1825 et 1850. Pour l'analyser, nous avons examiné les différentes méthodologies de la stylistique en histoire de l'art avant de retenir une stylistique descriptive s'appuyant sur une recherche historique. Cette dernière a notamment permis de constater l'existence de relations étroites entre le milieu de l'estampe et la vie socio-politique durant le deuxième quart du XIXe siècle. Nous avons alors pu constater combien le corpus d'oeuvres étudié était éclaté et dans quelle mesure il nécessiterait une mise en perspective élargie prenant en compte les productions étrangères contemporaines de l'Angleterre, de la France et des Etats-Unis. / Montréal Trigonix inc. 2018

L'estampe est une oeuvre d’art imprimée sur papier à partir d'une matrice sur laquelle l'artiste a inscrit l'image de façon à ce que l'encre d'impression puisse y être déposée puis reportée sur le papier. L'oeuvre se réalise donc en deux étapes distinctes. Dans la première, l'artiste intervient techniquement pour modifier la surface de la matrice selon l'idée personnelle qu'il veut concrétiser. C'est alors que s'accomplit le processus créateur mais l'image n'existe que virtuellement, la matrice n'étant qu'un moule et non l'oeuvre en soi. A la deuxième étape, celle de l'impression, l'estampe est réalisée alors que l'encre déposée sur la matrice est reportée sur papier, révélant l'image créée par l'artiste. Au cours des siècles, les métiers de l'estampe se sont développés avec la contribution des artistes et des artisans qui ont cherché à en élargir les possibilités. C'est ainsi que les quatre grandes techniques de l'estampe se sont succédé, chacune ayant une pratique particulière et une écriture expressive qui lui soit propre. Ce sont, par ordre d'apparition historique, la gravure en relief, l'intaglio ou la gravure en creux, la lithographie et la sérigraphie. L'estampe est donc un métier d'art issu d'une grande tradition, celle de l'impression artisanale, mais aussi une oeuvre née de l'esprit créateur de l'artiste. Ces deux aspects sont indissociables, le métier ne prenant sa vocation artistique qu'avec la sensibilité de l'artiste et le rapport constant de ses gestes è l'image qu'il veut créer; mais à travers le processus technique, l'esprit créateur élabore à mime le dialogue avec la matière une j ^ réflexion qui donne son caractère expressif à l'oeuvre. C'est pourquoi le contenu de ce livre, qui traite du déroulement technique de chacun des métiers de l'estampe, laisse toujours une place importante h la volonté de l'artiste, â son intuition et à ses choix esthétiques afin que l'essence même du processus créateur s'intègre à la pratique technique. Ce livre, consacré à l'estampe en tant qu'expérience artistique, a été conçu pour faire connaître tous les aspects impliqués dans la pratique de ses métiers en dégageant autant la logique du procédé technique, d'une part, que la dimension expressive des interventions de l'artiste, d'autre part. Chaque chapitre décrit donc, geste après geste, l'élaboration technique d'un des quatre grands métiers de l'estampe. Chaque séquence technique se déploie d'abord autour d'une trame théorique afin de donner un fil directeur et une compréhension à la complexité de ces métiers; chaque matériel, chaque intervention est justifié en fonction de son rôle dans l'articulation des principes techniques propres à chacun des métiers. A la rigueur logique du procédé technique se juxtapose l'esprit du processus expressif qui élargit la fonction des interventions techniques, ces dernières devenant simultanément des gestes créateurs de signes ou d'effets répondant aux exigences de l'expression individuelle. C'est essentiellement à cette synthèse que l'artiste doit parvenir, chaque geste se soumettant â la fois à l'approche expressive et S la logique technique, générant une image originale tout en respectant le caractère du métier dont il emprunte la voie de réalisation. / Québec Université Laval, Bibliothèque 2014

L’objectif de la thèse est de développer un dispositif de micro positionnement intégrant à la fois les actionneurs et les capteurs. Un dispositif a été conçu afin de réaliser des déplacements dans les plans sur une course millimétrique. Le dispositif compact ne nécessite pas de système de guidage additionnel et selon le mode d’utilisation de ces moteurs, il est capable de réaliser des translations dans le plan ou des rotations autour d’un axe perpendiculaire au plan. Le dispositif comprend quatre moteurs électromagnétiques linéaires fixés orthogonalement sur une structure en forme de croix. Chaque moteur consiste en une paire de bobines planes entrelacées fixe et une barre ’aimants mobile. Un capteur de déplacement intégré dans la structure en croix permettant de mesurer le déplacement de celle-ci a été conçu et fabriqué. Ce capteur est constitué d’une tête de mesure à fibres optiques placé face à un réseau en silicium réalisé par des techniques de microfabrication. Afin de minimiser les erreurs d’assemblage, la structure en croix a également été micro fabriquée. Le dispositif est capable de réaliser un déplacement de 10 mm et une rotation de ±11° autour de l’axe perpendiculaire au plan du dispositif. La résolution de déplacement du dispositif est de 1,4 µm avec une précision de 31 nm en boucle fermée. Le dispositif peut également atteindre une vitesse de déplacement de 12 mm/s. / The objective of thesis is to develop an integrated micro positioning system for micro applications. A unique micro positioning system design capable to deliver millimeter level strokes with pre-embedded auto guidance feature in micro application has been realized. The design integrates, a stack of orthogonally arranged four electromagnetic linear motors. Each linear motor consists of a fixed planar electric drive coil and mobile permanent magnet array. The optimal design of the system delivers a small footprint size. In addition, to measure and control the displacement, a high resolution compact optical displacement measurement sensor has been designed and fabricated in silicon material using microfabrication technology. Furthermore, a light weight silicon cross structure was fabricated using dry etching technology to reduce components assembly errors. The device is capable to deliver 10 mm displacement stroke with a rotation of ±11° about an axis perpendicular to the plane of the device. The displacement resolution of the device is 1.4 µm with a precision of 31 nm in closed loop control. The device can realize displacement with a speed of 12 mm/s.

Avec la miniaturisation des composants et l'ajout de nouveaux matériaux de grille, notamment les métaux et les oxydes high-k, il est de plus en plus difficile de développer des procédés de gravure plasma permettant de maintenir un bon contrôle dimensionnel. L'objectif de ce travail de thèse est de déterminer une stratégie de gravure qui permette de graver un empilement polysilicium/TiN/Mo/HfO2 tout en satisfaisant les exigences dimensionnelles des noeuds technologiques 45 nm et 32 nm. Dans une première partie nous avons étudié la gravure du polysilicium par des plasmas de SF6/CH2F2(CHF3)/Ar et avons comparé les résultats à ceux obtenus avec des plasmas de HBr/Cl2/O2. Nous avons acquis une connaissance fine des mécanismes de gravure mis en jeu, notamment les mécanismes de passivation. Nous avons ainsi pu développer un procédé de gravure anisotrope et montrer que les plasmas fluorocarbonés présentent plusieurs avantages pour le contrôle dimensionnel. Dans une deuxième partie nous avons étudié la gravure du nitrure de titane et du molybdène en veillant à ne pas endommager les éléments de la grille déjà gravés ni la couche d'oxyde high-k sous jacente. Suite à ces études, deux stratégies de gravure se sont imposées : le TiN doit être gravé avec un plasma de HBr/Cl2 tandis que le Mo doit être gravé avec un plasma de HBr/Cl2/O2. Enfin, dans une troisième partie, nous avons étudié les problèmes liés à la rugosité de bord de ligne dans un empilement résine 193nm/carbone amorphe/polysilicium. Nous avons montré que la rugosité présente initialement dans le motif de résine se transférait dans le motif de polysilicium final et que les étapes de gravure du masque dur et du polysilicium avaient une influence faible. Nous avons également examiné l'influence sur la rugosité de deux procédés plasmas appliqués à la résine : le procédé de « resist trimming » et le procédé de « cure ».

La mission Darwin, un projet d'interférométrie spatiale initié par l'ESA, nécessite l'utilisation de filtres modaux fonctionnant dans la gamme spectrale [6-20 µm]. Dans le cadre de ce travail, nous proposons la réalisation de filtres modaux basés sur des guides d'onde « tout tellurures » obtenus par la méthode d'empilement et de gravure. L'originalité de ce travail réside dans le fait que les guides réalisés sont de grandes dimensions (couches épaisses et profondeurs de gravure importantes), pour satisfaire aux exigences du projet. La première étape a donc consisté à choisir une méthode de dépôt qui permette d'obtenir des couches épaisses. La co-évaporation thermique a ainsi été mise en place et les paramètres de dépôt optimisés. Des couches d'épaisseur pouvant atteindre 17 µm, de bonne qualité (adhérentes, amorphes, denses et homogènes), transparentes de 6 à 20 µm et d'indice de réfraction contrôlé ont pu être obtenues. La gravure physique réactive (RIE) de ces couches, en utilisant un mélange gazeux CHF3/O2/Ar, a constitué la deuxième partie de ce travail. L'obtention de marches de profondeur pouvant dépasser 10 µm, présentant des profils de gravure de qualité, a été démontrée. Les différents guides d'onde IR réalisés ont été caractérisés optiquement après préparation de leurs faces d'entrée et de sortie. L'observation d'un bon confinement de la lumière sur un banc de guidage à λ = 10,6 µm et l'obtention d'un taux de réjection de 10-3 sur un banc d'interférométrie annulante nous ont permis de confirmer que les guides d'onde à base de couches tellurures et réalisés par la méthode d'empilement et de gravure constituaient une solution de choix en tant que filtres modaux pour l'interférométrie spatiale. / The Darwin mission, an interferometric spatial project initiated by ESA, requires modal filters being able to work in the whole spectral range [6-20 µm]. In the framework of this work, we propose the realization of modal filters based on waveguides obtained by stacking and etching chalcogenide films. The originality of this work lies in the fact that the realized waveguides have large dimensions (thick films and deep etching), to satisfy the project requirements. The first step consisted in choosing the deposition method which allows obtaining thick films. The thermal co-evaporation was setting up and the deposition parameters were optimized. Films with thickness which can reach 17 µm, of good quality (adhesive, amorphous, dense and homogeneous), transparent from 6 to 20 µm and with controlled refractive index were obtained. The physical reactive etching of these films, by using a gas mixture CHF3/O2/Ar, constituted the second part of this work. The obtaining of deep rib which can exceed 10 µm, presenting etching profiles of good quality was demonstrated. The elaborated IR waveguides were optically characterized after preparation of their entrance and exit faces. The observation of light confinement on a guiding bench at λ = 10.6 µm and the obtaining of a rejection rate of 10-3 on a nulling interferometry bench allowed confirming that the waveguides based on the stacking and etching of telluride films was a choice solution as modal filters for the spatial interferometry.

Les interactions plasma-paroi représentent l'un des principaux problèmes à résoudre pour avancer dans la recherche sur la fusion contrôlée. Ce travail de thèse a pour objectif de développer une source d'hydrogène atomique à basse pression (< Torr) dans un réacteur à configuration hélicon en mélange H2/Ar pour étudier la gravure chimique du graphite et de composites à fibres de carbone utilisés dans le tokamak Tore Supra. Selon les conditions expérimentales, le réacteur peut générer les modes de couplages capacitif, inductif, Trivelpiece-Gould et hélicon à bas champ. Leur caractérisation a montré que le mode inductif est, dans ce cas, celui présentant le plus grand intérêt pour la source d'hydrogène atomique. Les études en mode inductif ont révélé un phénomène de décroissance de la densité relative de deux niveaux métastables de l'ion Ar+ et d'un niveau métastable de l'argon neutre lors de l'augmentation du champ magnétique de confinement. Un modèle simple a confirmé que ces niveaux métastables sont détruits par collisions électroniques vers des niveaux de plus grande énergie. La gravure du graphite par la source d'hydrogène atomique est relativement efficace (jusqu'à 3 µm/h) à 10 mTorr et diminue avec la pression. Une analyse qualitative de la cinétique de l'hydrogène atomique a permis de conclure que cette baisse de la vitesse de gravure est due au flux d'hydrogène atomique arrivant sur l'échantillon qui décroît lorsque la pression augmente. Les premières observations de la surface après gravure ont mis en évidence la présence de structures carbonées (agglomérats de nanoparticules et dépôts). Ces structures ressemblent à celles observées dans différents tokamaks / Plasma-wall interactions are one of the main issues in fusion research and must be thoroughly studied to progress in this topic. The objective of this work is to develop an atomic hydrogen source at low pressure (< Torr) in a helicon configuration reactor working in H2/Ar gas mixture. This source is then used to study the chemical etching of graphite and carbon fiber composites composing the limiter of the Tore Supra tokamak. Depending on the experimental conditions, the RF power coupling of the reactor can be in capacitive, inductive, Trivelpiece-Gould or low field helicon mode. The characterization of these modes determined that in this case the inductive one presents the greatest interest for the atomic hydrogen source. Further studies in inductive mode showed that increasing the confinement magnetic field leads to a decrease of measured relative densities of two metastable levels of argon ion and one metastable state of neutral argon. A simple model simulating neutral metastable state behavior confirmed that these levels are destroyed by electronic collisions towards upper levels. The chemical etching of graphite exposed to the atomic hydrogen source is relatively efficient (up to 3 µm/h) at 10 mTorr and drops with the pressure. A qualitative analysis of atomic hydrogen kinetics concluded that this behavior is due to the decrease of atomic hydrogen flux on the sample with increasing pressure. Finally, first observations of the etched surface underlined different structures (nanoparticles clusters and deposits). These can be compared to the ones observed in different tokamaks