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Search results
Showing 21 to 29 of 29 (0.013 seconds)| 21 |
Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení / Submicron Structures with Deep Relief — Technology of PreparationMatějka, Milan January 2017 (has links)
The dissertation thesis is focused on research and development in the field of microfabrication by the technology of electron beam lithography. In the first part of this work, the extensive study is conducted in the field of technology of electron beam lithography in terms of physical principles, writing strategies and resist materials. This is followed with description of physical principles of etching for the transfer of relief structures into substrates. The thesis describes innovative techniques in modelling, simulation, data preparation and optimization of manufacturing technology. It brings new possibilities to record deep binary or multilevel microstructures using electron beam lithography, plasma and reactive ion etching technology. Experience and knowledge in the large area of microlithography, plasma and anisotropic wet-etching of silicon have been capitalized to the design process of manufacturing of nano-patterned membranes. It was followed with practical verification and optimization of the microfabrication process.
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Une fenêtre sur les processus stochastiques et la cosmologie gamma à travers les études spectrales et temporelles d'AGN observés par H.E.S.S.Biteau, Jonathan 22 February 2013 (has links) (PDF)
Cinquante ans après la découverte de l'origine extragalactique des quasars, leurs noyaux (AGN) et les jets qu'ils montrent parfois nous réservent encore des surprises, en particulier dans le domaine des rayons gamma. Au dessus de 100 GeV, les télescopes Cherenkov tels que H.E.S.S. ont détecté plus de 50 AGN, principalement des blazars, objets dont le jet pointe vers l'observateur. La détection de deux d'entre eux, 1ES 1312-423 et SHBL J001355.9-185406, est décrite dans cette thèse. Leurs spectres multi longueurs d'onde sont ajustés par un modèle synchrotron self-Compton. Les rayons gamma émis par les blazars sont en partie absorbés par la lumière de fond extragalactique (EBL), deuxième composante cosmologique diffuse la plus intense, qui contient l'histoire intégrée de la formation d'étoiles. La première détection de cette absorption au dessus de 100 GeV est réalisée, conduisant à la mesure de l'amplitude du pic optique de l'EBL à 20% près. Finalement, les variations extrêmes du flux des blazars sont étudiées à l'aide des éruptions de PKS 2155-304 vues par H.E.S.S.. L'observation d'une distribution de flux hautement asymétrique et d'une corrélation R.M.S.-flux sont expliquées dans le cadre d'un modèle cinématique, où l'émission observée est une réalisation d'un processus stochastique.
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Fabrication of Nanostructures by Low Voltage Electron Beam LithographyAdeyenuwo, Adegboyega P. Unknown Date
No description available.
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Aplikace fokusovaného iontového a elektronového svazku v nanotechnologiích / Application onf the Focused Ion on Electron Beam in NanotechnologiesŠamořil, Tomáš January 2016 (has links)
Nowadays, the systems that allow simultaneous employment of both focused electron and ion beams are very important tools in the field of micro- and nanotechnology. In addition to imaging and analysis, they can be used for lithography, which is applied for preparation of structures with required shapes and dimensions at the micrometer and nanometer scale. The first part of the thesis deals with one lithographic method – focused electron or ion beam induced deposition, for which a suitable adjustment of exposition parameters is searched and quality of deposited metal structures in terms of shape and elemental composition studied. Subsequently, attention is paid also to other types of lithographic methods (electron or ion beam lithography), which are applied in preparation of etching masks for the subsequent selective wet etching of silicon single crystals. In addition to optimization of mentioned techniques, the application of etched silicon surfaces for, e.g., selective growth of metal structures has been studied. The last part of the thesis is focused on functional properties of selected 2D or 3D structures.
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Risikofaktoren für Blutungskomplikationen nach ÖsophagusvarizenligaturGrothaus, Johannes 03 May 2012 (has links)
Esophageal varices are expanded veins of the submucosa that develop in patients with portal hypertension. They develop as collaterals between the portal vein and the superior vena cava. Varices are seen when the HPVG rises >12mmHG and can lead to a life-threatening bleeding episode. Endoscopic band ligation (EBL) is the treatment of choice of acute variceal bleeding. It is also performed for primary and secondary prophylaxis of bleeding from esophageal varices. After EBL, patients are at risk of postinterventional bleeding. Therefore, patients are often hospitalized until endoscopy proves all applied ligation bands have dropped off. At present, there is no standardized algorithm for surveillance of patients after EBL. Furthermore, risk factors for bleeding complications after EBL are poorly evaluated. The available studies mostly investigated patient collectives .after endoscopic sclerotherapy. The aim of this study was to investigate bleeding behaviour after EBL, to make recommendations for in- and out-patient surveillance after EBL and to analyze independent risk factors for bleeding complications after EBL.
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Comprehensive Computational Assessment And Evaluation of Epstein Barr virus (EBV) Variations, miRNAs, And EBERs in eBL, AML And Across CancersMovassagh, Mercedeh J. 30 April 2019 (has links)
Viruses are known to be associated with 20% of human cancers. Epstein Barr virus (EBV) in particular is the first virus associated with human cancers. Here, we computationally detect EBV and explore the effects of this virus across cancers by taking advantage of the fact that EBV microRNAs (miRNAs) and Epstein Barr virus small RNAs (EBERs) are expressed at all viral latencies. We identify and characterize two sub-populations of EBV positive tumors: those with high levels of EBV miRNA and EBERS expression and those with medium levels of expression.
Based on principal component analysis (PCA) and hierarchical clustering of viral miRNAs across all samples we observe a pattern of expression for these EBV miRNAs which is correlated with both the tumor cell type (B cell versus epithelial cell) and with the overall levels of expression of these miRNAs.
We further investigated the effect of the levels of EBV miRNAs with the overall survival of patients across cancers. Through Kaplan Meier survival analysis we observe a significant correlation with levels of EBV miRNAs and lower survival in adult AML patients. We also designed a machine learning model for risk assessment of EBV in association with adult AML and other clinical factors.
Our next aim was to identify targets of EBV miRNAs, hence, we used a combination of previously known methodologies for miRNA target detection in addition to a multivariable regression approach to identify targets of these viral miRNAs in stomach cancer.
Finally, we investigate the variations across EBV subtype specific EBNA3C gene which interacts with the host immune system. Preliminary data suggests potential regional variations plus higher pathogenicity of subtype 1 in comparison to subtype 2 EBV.
Overall, these studies further our understanding of how EBV manipulates the tumor microenvironment across cancer subtypes.
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Elektrische Charakterisierung PLD-gewachsener Zinkoxid-NanodrähteZimmermann, Gregor 14 October 2010 (has links) (PDF)
Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der elektrischen Charakterisierung von Zinkoxid-Nanodrähten, die mittels gepulster Laserablation (PLD) hergestellt wurden.
Ausgehend von den so generierten ZnO-Nanodraht-Ensembles werden Methoden zu deren elektrischer Untersuchung diskutiert und auf praktische Anwendbarkeit hin verglichen. Die entwickelten Methoden werden auf Ensembles von auf n-leitenden ZnO- und ZnO:Ga-Dünnschichten aufgewachsenen Phosphor-dotierten ZnO-Nanodrähten angewendet. Deren reproduzierbares, in Strom–Spannungs- (I–U-) Kennlinien beobachtetes diodenartiges Verhalten wird genauer beleuchtet.
Im Zusammenhang mit der elektrischen Charakterisierung einzelner ZnO-Nano-drähte werden experimentelle Methoden zur Vereinzelung und zur Kontaktierung der vereinzelten ZnO-Nanodrähte diskutiert. Dabei werden sowohl etablierte Methoden wie Elektronenstrahllithographie (EBL) als auch neue Techniken wie elektronen- und ionenstrahlinduzierte Deposition (EBID/IBID) und Strom–Spannungs-Rastersondenmikroskopie (I-AFM) behandelt und ihre Eignung für eingehende elektrische Untersuchungen und reproduzierbare Messungen analysiert.
Die geeignetsten Methoden werden schließlich eingesetzt, um spezifischen Widerstand sowie Ladungsträgermobilität und -dichte sowohl in nominell undotierten als auch in Aluminium-dotierten ZnO-Nanodrähten zu untersuchen und zu vergleichen. In der Ableitung der physikalischen Materialparameter aus den Messdaten wird dabei besonderes Augenmerk auf die Einbeziehung der geometrischen Besonderheiten der Nanodrähte gegenüber Volumenmaterial- und Dünnschichtproben gelegt. Im Zuge dessen wird unter anderem ein Modell für den elektrischen Widerstand in Nanodrähten mit ihrer Länge nach veränderlichem Querschnitt abgeleitet.
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Elektrische Charakterisierung PLD-gewachsener Zinkoxid-NanodrähteZimmermann, Gregor 17 August 2010 (has links)
Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der elektrischen Charakterisierung von Zinkoxid-Nanodrähten, die mittels gepulster Laserablation (PLD) hergestellt wurden.
Ausgehend von den so generierten ZnO-Nanodraht-Ensembles werden Methoden zu deren elektrischer Untersuchung diskutiert und auf praktische Anwendbarkeit hin verglichen. Die entwickelten Methoden werden auf Ensembles von auf n-leitenden ZnO- und ZnO:Ga-Dünnschichten aufgewachsenen Phosphor-dotierten ZnO-Nanodrähten angewendet. Deren reproduzierbares, in Strom–Spannungs- (I–U-) Kennlinien beobachtetes diodenartiges Verhalten wird genauer beleuchtet.
Im Zusammenhang mit der elektrischen Charakterisierung einzelner ZnO-Nano-drähte werden experimentelle Methoden zur Vereinzelung und zur Kontaktierung der vereinzelten ZnO-Nanodrähte diskutiert. Dabei werden sowohl etablierte Methoden wie Elektronenstrahllithographie (EBL) als auch neue Techniken wie elektronen- und ionenstrahlinduzierte Deposition (EBID/IBID) und Strom–Spannungs-Rastersondenmikroskopie (I-AFM) behandelt und ihre Eignung für eingehende elektrische Untersuchungen und reproduzierbare Messungen analysiert.
Die geeignetsten Methoden werden schließlich eingesetzt, um spezifischen Widerstand sowie Ladungsträgermobilität und -dichte sowohl in nominell undotierten als auch in Aluminium-dotierten ZnO-Nanodrähten zu untersuchen und zu vergleichen. In der Ableitung der physikalischen Materialparameter aus den Messdaten wird dabei besonderes Augenmerk auf die Einbeziehung der geometrischen Besonderheiten der Nanodrähte gegenüber Volumenmaterial- und Dünnschichtproben gelegt. Im Zuge dessen wird unter anderem ein Modell für den elektrischen Widerstand in Nanodrähten mit ihrer Länge nach veränderlichem Querschnitt abgeleitet.
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Charakterizace struktur připravených selektivním mokrým leptáním křemíku / Characterization of structures fabricated by selective wet etching of siliconMetelka, Ondřej January 2014 (has links)
The task of master’s thesis was to perform optimalization process for preparing metal etching mask by electron beam litography and subsequent selective wet ething of silicon with crystalographic orientation (100). Further characterization of etched surface and fabricated structures was performed. In particular, attention was given to the morphology demonstrated by scanning electron microscopy and study changes of the optical properties of gold plasmonic antennas due to their undercut.
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