Global ETD Search

61	Synthese von Übergangsmetallkomplexen der 4. Nebengruppe zur Herstellung verschiedenartiger Polymere Meichel, Eduard 12 November 2001 (has links) Zusammenfassung: Die vorliegende Arbeit lässt sich thematisch in drei Bereiche gliedern. Der erste Teil handelt von der Synthese stark elektronenziehender Ligandensysteme und deren Umsetzung zu Metallocendichloriden. Es zeigt sich, dass die Umsetzung von pentafluorbenzolhaltigem Cyclopentadien, Inden oder Fluoren mit Silizium-Verbindungen nicht zu der gewünschten Reaktion zu Si-verbrücken Systemen führen, sondern, dass sich andersartige Si-F-Moleküle bilden. Zugängliche, unverbrückte Komplexe zeigen im besonderen eine geringe Stabilität im Vergleich zu nicht-C6F5-haltigen Metallocenen. Die Hauptthematik der Arbeit beschäftigt sich mit der Synthese von in 2-Position funktionalisierter sowie verbrückter Indene und deren Umsetzung zu Metallocenkomplexen. Hierbei interessiert vor allem der sterische Einfluss der am Ligandensystem sitzenden Gruppen. Die Darstellung der Inden-2-verbrückten Indene erstreckt sich über eine Bromaddition, thermodynamische Freisetzung von HBr, Grignard-Reaktion und anschließender Brückenbildung mit Cyclopentadien- und tert.Butylamineinheiten. Weiterer Bestandteil dieses Abschnitts ist die Umsetzung der synthetisierten Moleküle zu Metallocenverbindungen. Dabei werden auf diesem Wege Sandwich- bzw. Halbsandwich-Komplexe in guter Ausbeute erhalten. Der dritte Bereich beschäftigt sich mit der Umsetzung von Titan-4-chlorid gegenüber unterschiedlichern Trimethylsilyl-substituierten Indenen. Durch Substitution eines Chloratoms durch eine Phenolatgruppe erhält man die Indenyldichlortitanphenolate. info:eu-repo/classification/ddc/540 ddc:540 Übergangsmetallkomplexe Sterische Hinderung Metallorganische Verbindungen Hexafluorbenzol Metallocene elektronenerziehende Gruppen Inden-2-Brücke verbrückende Liganden Halbsandwich-Komplex C- und Si-Brücken metallocenes withdrawing groups hexafluorbenzene metalorganic compounds indene-2-bridge bridged ligands halfsandwich-complex steric decrease C- and Si-bridges
62	Bimetallocen- und Metallocen-Komplexe in Elektronentransfer- und Katalysestudien Lohan, Manja 01 March 2011 (has links) Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der Synthese, dem Reaktionsverhalten und der Elektrochemie von Bimetallocen- und Metallocen-haltigen Komplexen. Die Eignung von Bis(ethinyl)biferrocen- und Bis(ethinyl)biruthenocen-haltigen Brückenbausteinen, intramolekularen Elektronentransfer zwischen zwei identischen Eisen-, Ruthenium- und Osmium-Halbsandwich-Fragmenten zuzulassen, wurde mittels geeigneter Spektroskopiearten untersucht. Weiterhin wurden zwei verschiedene Übergangsmetallkomplexfragmente über den Bis(ethinyl)biferrocen-Brückenbaustein miteinander verknüpft um neuartige gemischte Übergangsmetallacetylide zu erhalten, an welchen ebenfalls Elektronentransferstudien durchgeführt werden konnten. Zusätzlich waren Biferrocenyl- und Metallocenyl-Phosphane Gegenstand der Untersuchungen. Es erfolgte einerseits die Koordination an PtCl2- und Pt(CCFc)2-Fragmente. Die so erhaltenen neuen heterometallischen Platin(II)-Bisacetylide wurden mittels Cyclovoltammetrie und UV-Vis-NIR-spektroelektrochemischen Methoden untersucht um herauszufinden, in welchem Ausmaß Ladungen delokalisiert vorliegen können. Die Biferrocenyl- und Ruthenocenyl-Phosphane wurden andererseits an PdCl2-Bausteine koordiniert und im Anschluss auf ihre Wirksamkeit als (Prä-)Katalysatoren in Palladium-vermittelten Heck- und Suzuki-C-C-Kupplungsreaktionen getestet. info:eu-repo/classification/ddc/546 ddc:546
63	ALD of Copper and Copper Oxide Thin Films For Applications in Metallization Systems of ULSI Devices Waechtler, Thomas, Oswald, Steffen, Roth, Nina, Lang, Heinrich, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas 15 July 2008 (has links) As a possible alternative for growing seed layers required for electrochemical Cu deposition of metallization systems in ULSI circuits, the atomic layer deposition (ALD) of Cu is under consideration. To avoid drawbacks related to plasma-enhanced ALD (PEALD), thermal growth of Cu has been proposed by two-step processes forming copper oxide films by ALD which are subsequently reduced. This talk, given at the 8th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2008), held in Bruges, Belgium from 29 June to 2 July 2008, summarizes the results of thermal ALD experiments from [(<sup><i>n</i></sup>Bu<sub>3</sub>P)<sub>2</sub>Cu(acac)] precursor and wet O<sub>2</sub>. The precursor is of particular interest as it is a liquid at room temperature and thus easier to handle than frequently utilized solids such as Cu(acac)<sub>2</sub>, Cu(hfac)<sub>2</sub> or Cu(thd)<sub>2</sub>. Furthermore the substance is non-fluorinated, which helps avoiding a major source of adhesion issues repeatedly observed in Cu CVD. As result of the ALD experiments, we obtained composites of metallic and oxidized Cu on Ta and TaN, which was determined by angle-resolved XPS analyses. While smooth, adherent films were grown on TaN in an ALD window up to about 130°C, cluster-formation due to self-decomposition of the precursor was observed on Ta. We also recognized a considerable dependency of the growth on the degree of nitridation of the TaN. In contrast, smooth films could be grown up to 130°C on SiO<sub>2</sub>and Ru, although in the latter case the ALD window only extends to about 120°C. To apply the ALD films as seed layers in subsequent electroplating processes, several reduction processes are under investigation. Thermal and plasma-assisted hydrogen treatments are studied, as well as thermal treatments in vapors of isopropanol, formic acid, and aldehydes. So far these attempts were most promising using formic acid at temperatures between 100 and 120°C, also offering the benefit of avoiding agglomeration of the very thin ALD films on Ta and TaN. In this respect, the process sequence shows potential for depositing ultra-thin, smooth Cu films at temperatures below 150°C. ALD Atomic Layer Deposition Atomlagenabscheidung info:eu-repo/classification/ddc/540 ddc:540 info:eu-repo/classification/ddc/620 ddc:620 info:eu-repo/classification/ddc/660 ddc:660 Ameisensäure Dampfdruck Integrierte Schaltung Kupfer Kupferoxide Metallisieren Metallisierungsschicht Metallorganische Verbindungen Ruthenium Röntgen-Photoelektronenspektroskopie Sauerstoff Silicium Siliciumdioxid Tantal Tantalnitride ULSI Verkupferung Wasserdampf
64	β-Aminosubstituted α,β-Unsaturated Fischer Carbene Complexes as Precursors for Complex Oligocyclic Molecules - Basics and Applications / β-Amino-substituierte α,β-Ungesättigte Fischer Carben-Komplexeals Vorläufer für Kompexe Oligocyclische Moleküle - Grundforschung und Anwendungen Wu, Yao-Ting 03 July 2003 (has links) No description available. 500 Naturwissenschaften allgemein Mathematics and Computer Science Fischer Carben-Komplexe 6π-electrocyclisierung Diels-Alder Reaktion Aldol Reaktion Lineare Triquinane Steroid ähnliche Moleküle Fischer carbene complexes 6π-electrocyclization Diels-Alder reaction Aldol reaction linear triquinanes steroid-like molecules 35 17 35.52 35.60 35.66 SUJ 700: Acetale Epoxyde {Organische Chemie} SUK 350: Amine -NH2- Amide Enamine Imine {Organische Chemie} SUT 100
65	Die Iromycine und das Collinolacton: Synthese mikrobieller Naturstoffe aus Streptomyces sp. / The Iromycins and the Collinolacton: synthesis microbial natural products from Streptomyces sp. Shojaei, Heydar 02 May 2007 (has links) No description available. 540 Chemie Mathematics and Computer Science Totalsynthese des Naturstoffs Iromycin A Inhibitor der NO-Synthase 6-Brommethylpyron terminales Alkin Carboaluminierungsreaktion Alkenyldimethylalane Lithiumalkenyltrialkylalanate Alanate Kreuzkupplungsprodukt Iromycinvorläufer Übergangsmetall-katalysierte Reaktionen Collinolacton enantioselektive Aldol-Reaktion diastereoselektive Diels-Alder-Reaktion Oxy-Cope-Umlagerung Baeyer-Villiger-Oxidation Hexadienal Mukaiyama-Aldoladdition NO synthase inhibitor 6-brommethylpyron terminal alkyn carboalumination reaction alkenyldimethylalane lithium alkenyltrialkylalanate alanate crosscuppling product precursor of iromycin transition metals catalysisreactions collinolacton enantioselectiv aldol reaction diastereoselectiv Diels-Alder reaction Oxy-Cope rearrangement Baeyer-Villiger oxidation Hexadienaldehyd Mukaiyama aldol addition 35.50 35.52 35.60 SU 000: Organische Chemie SUJ 270

Page generated in 0.1229 seconds