Este trabalho tem como principal objetivo comparar as respostas de biossensores amperomé-tricos preparados a partir do uso de uma enzima, a tirosinase (polifenoloxidase, PFO), quando nas formas purificada e adquirida comercialmente e de extrato bruto enzimático do fruto do abacate (Persea Americana). As soluções de PFO apresentaram valores de atividades enzimá-ticas de 479 unidades de enzimas ativas por mililitro (UA mL-1) (purificada) e 259 UA mL-1 (extrato bruto). A enzima nas duas formas (pura e como extrato bruto) foi imobilizada quimi-camente em substratos de Au modificados com monocamadas automontadas (self-assembly monolayers, SAMs) de ácido mercaptopropiônico (MPA) pela técnica de impressão por mi-crocontato (CP). Os biossensores foram preparados sobre substratos de Au modificados por CP com um molde elastomérico de polidimetilsiloxano (PDMS), cujas trilhas paralelas de 100 m foram produzidas pela cura polimérica sobre um molde mestre de GaAs. A réplica de PDMS se mostrou fiel em relação ao molde mestre nos picos e vales, mas apresentou defeitos na borda dos moldes. Com o objetivo de otimizar o funcionamento dos biossensores, eles fo-ram caracterizados pelas técnicas de voltametria cíclica e cronoamperometria com um sistema de análise de injeção em fluxo (FIA) em meio de catecol a diferentes concentrações. Os po-tenciais de oxidação do catecol nos eletrodos de Au modificados foram observados em 418 e 365 mV, em pHs ótimos de funcionamento de 7,0 e 7,2, e com limites de detecção de 6,65 nmol L-1 e 4,65 nmol L-1 para os biossensores com a enzima purificada e com o extrato bruto, respectivamente. A saturação dos sensores teve início a uma concentração de catecol de 0,02 mol L-1. Com estes resultados, mostramos que é possível o preparo de biosensores com um baixo custo, eficientes e miniaturizadas a partir do uso da PFO na forma extrato bruto do fruto do abacate para a detecção de compostos fenólicos, tal como catecol, abrindo assim a possibi-lidade de uso destes biossensores na análise e no monitoramento de pesticidas presentes no solo e na água. / The main objective of this master thesis is to compare the performance of amperometric biosensors prepared using the purified tirosinase (PPO) enzyme, (commercially acquired) and the PPO present in the enzymatic crude extract from the avocado fruit (Persea Americana). The PPO solutions had 479 units of active enzyme per milliliter (UA mL-1) (purified) and 259 UA mL-1 (crude extract). Both forms of the enzyme (purified and crude extract) were chemically immobilized on gold substrates patterned with 3-mercaptopropionic acid (MPA) self assembled monolayers (SAMs), using the microcontact printing (CP) technique. The biosensors were prepared on gold subtracts patterned using CP with a polydimethylsiloxane (PDMS) elastomeric mold, that was shaped in the form as tracks using a gallium arsenate master mold. The PDMS mold was quite similar to the master mold in its peaks and valleys, but defects were found on the edges. In order to optimize the parameters of the biosensors , they were characterized using cyclic voltammetry and chronoamperometry techniques in a FIA system by cathecol injections at different concentrations. The oxidation potentials for the cathecol analysis using the patterned biosensors were observed at 418 and 365 mV, the optimum pH were 7,0 and 7,0, with detection limits of 6,65 nmol L-1 and 4,65 nmol L-1 for the purified enzyme and crude extract biosensors, respectively. The biosensors saturation point started at 0,02 mol L-1 of cathecol concentration. With this results, we demonstrate that it is possible to use miniaturized, efficient, low cost biosensors based on tyrosine from the avocado´s fruit crude extract to detect phenolic compounds, as the cathecol. This expands the possibility of using this biosensors in the analysis and monitoring pesticides in water and soil.

O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de proximidade a, b e h para se modelar e controlar os efeitos do espalhamento dos elétrons no resiste e no substrato, e se altera o processamento convencional do SU-8 para se obter um processo com baixo contraste. A determinação dos parâmetros do efeito de proximidade para o sistema de escrita direta e amostra SU-8 / Si é feita experimentalmente e por simulação de Monte Carlo. Particularmente, verifica-se a dependência dos mesmos com a profundidade do resiste. Primeiramente utilizando o software PROXY, obtêm-se a, b e h da observação de padrões de teste revelados. Chega-se a 4m para o parâmetro () que mede o retroespalhamento dos elétrons pelo substrato e 0,7 para a relação (h) entre a intensidade destes com aquela dos elétrons diretamente espalhados pelo resiste (alcance dado por a). Ainda, com esses dados, estima-se o diâmetro do feixe do microscópio eletrônico de varredura a partir da equação de aproximação de espalhamento direto para pequenos ângulos (a = 128nm na superfície do resiste) e se determina a resolução lateral do processo (a = 800nm na interface resiste/ substrato, para um filme de 2,4m). Em seguida, usa-se o software CASINO para se calcular os parâmetros de proximidade a partir da curva de densidade de energia dissipada no resiste obtida pela simulação da trajetória de espalhamento dos elétrons. Confrontam-se, finalmente, os valores obtidos pelos dois métodos. Em relação ao processamento do resiste SU-8, são determinadas as condições experimentais para a fabricação de estruturas tridimensionais por litografia de feixe de elétrons. Especificamente, busca-se desenvolver um processo com características (espessura, contraste, sensibilidade e rugosidade) adequadas para a fabricação de micro-dispositivos ópticos. Inicia-se com o levantamento das curvas de contraste e da sensibilidade do SU-8 para determinadas temperaturas de aquecimento pós-exposição. Obtém-se contraste abaixo de 1 para aquecimento pós-exposição abaixo da temperatura de transição vítrea do resiste, mantendo-se sensibilidade elevada (2C/cm2). Em seguida, mede-se a rugosidade da superfície do filme revelado para diferentes doses de exposição. Para finalizar, submete-se a amostra a um processo de cura e escoamento térmico, para melhorar a dureza e a rugosidade do resiste a ser utilizado como dispositivo final Consegue-se um valor de rugosidade (40nm) inferior a 20 vezes o comprimento de onda de diodo laser de eletrônica de consumo. Por fim, é produzido um dispositivo com perfil discretizado em 16 níveis como prova de conceito. / This work aims at developing an electron-beam lithography process for the fabrication of microoptical elements using the negative tone chemically amplified resist SU-8 on Si substrate. A study of the proximity effect parameters a, b and h is carried out to model and control the electron scattering both in the resist and in the substrate, and the SU-8 standard processing conditions are changed to achieve a low contrast process. The determination of the SU-8 / Si proximity effect parameters and its dependence with resist depth is done employing an experimental method and through Monte Carlo simulations. First, a, b and h are obtained comparing exposed patterns calculated by the software PROXY. b, the parameter which measures the backscattering of the electrons by the substrate, is equal to 4m and the value of h, the ratio of the dose contribution of backscattered electrons to that of the forward scattered (related to a), is 0.7. The extrapolation of exposed patterns data is used to estimate the scanning electron microscope beam diameter through the equation for low angle scattering (a = 128nm at the resist surface) and the lateral resolution of the process is determined (a = 800nm at the resist/ substrate interface, for a 2.4m film). With aid of the software CASINO, Monte Carlo simulations of the scattering trajectories of electrons in substrate and resist materials are calculated, recording the energy that they dissipate through collisions along their path. The results obtained representing the profile of the energy dissipated in the resist are used to determine the proximity effect parameters. The experimental method results are compared to that obtained by simulation. Regarding the SU-8 processing, the process parameters for the fabrication of three-dimensional structures by electron-beam lithography are determined. The process is designed to have specifications (thickness, contrast, sensitivity and surface roughness) suitable for microoptical elements fabrication. It begins with the determination of the SU-8 contrast curve and its sensitivity for specific post-exposure bake temperatures. A below the unit contrast process with high sensitivity (2C/cm2) is achieved postannealing the sample below the resist glass transition temperature. The film surface roughness is measured after resist development for different exposure doses, and a controlled hardbake (cure) and reflow is carried to enhance both the mechanical properties and the surface roughness of the structures that will remain as part of the final device. A RMS roughness of 40nm, lower than 20 times the wavelength of consumer electronics laser diode, is obtained. The electron-beam process designed is applied to the fabrication of a microelement with a 16-level profile discretization.

O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito de proximidade a, b e h para se modelar e controlar os efeitos do espalhamento dos elétrons no resiste e no substrato, e se altera o processamento convencional do SU-8 para se obter um processo com baixo contraste. A determinação dos parâmetros do efeito de proximidade para o sistema de escrita direta e amostra SU-8 / Si é feita experimentalmente e por simulação de Monte Carlo. Particularmente, verifica-se a dependência dos mesmos com a profundidade do resiste. Primeiramente utilizando o software PROXY, obtêm-se a, b e h da observação de padrões de teste revelados. Chega-se a 4m para o parâmetro () que mede o retroespalhamento dos elétrons pelo substrato e 0,7 para a relação (h) entre a intensidade destes com aquela dos elétrons diretamente espalhados pelo resiste (alcance dado por a). Ainda, com esses dados, estima-se o diâmetro do feixe do microscópio eletrônico de varredura a partir da equação de aproximação de espalhamento direto para pequenos ângulos (a = 128nm na superfície do resiste) e se determina a resolução lateral do processo (a = 800nm na interface resiste/ substrato, para um filme de 2,4m). Em seguida, usa-se o software CASINO para se calcular os parâmetros de proximidade a partir da curva de densidade de energia dissipada no resiste obtida pela simulação da trajetória de espalhamento dos elétrons. Confrontam-se, finalmente, os valores obtidos pelos dois métodos. Em relação ao processamento do resiste SU-8, são determinadas as condições experimentais para a fabricação de estruturas tridimensionais por litografia de feixe de elétrons. Especificamente, busca-se desenvolver um processo com características (espessura, contraste, sensibilidade e rugosidade) adequadas para a fabricação de micro-dispositivos ópticos. Inicia-se com o levantamento das curvas de contraste e da sensibilidade do SU-8 para determinadas temperaturas de aquecimento pós-exposição. Obtém-se contraste abaixo de 1 para aquecimento pós-exposição abaixo da temperatura de transição vítrea do resiste, mantendo-se sensibilidade elevada (2C/cm2). Em seguida, mede-se a rugosidade da superfície do filme revelado para diferentes doses de exposição. Para finalizar, submete-se a amostra a um processo de cura e escoamento térmico, para melhorar a dureza e a rugosidade do resiste a ser utilizado como dispositivo final Consegue-se um valor de rugosidade (40nm) inferior a 20 vezes o comprimento de onda de diodo laser de eletrônica de consumo. Por fim, é produzido um dispositivo com perfil discretizado em 16 níveis como prova de conceito. / This work aims at developing an electron-beam lithography process for the fabrication of microoptical elements using the negative tone chemically amplified resist SU-8 on Si substrate. A study of the proximity effect parameters a, b and h is carried out to model and control the electron scattering both in the resist and in the substrate, and the SU-8 standard processing conditions are changed to achieve a low contrast process. The determination of the SU-8 / Si proximity effect parameters and its dependence with resist depth is done employing an experimental method and through Monte Carlo simulations. First, a, b and h are obtained comparing exposed patterns calculated by the software PROXY. b, the parameter which measures the backscattering of the electrons by the substrate, is equal to 4m and the value of h, the ratio of the dose contribution of backscattered electrons to that of the forward scattered (related to a), is 0.7. The extrapolation of exposed patterns data is used to estimate the scanning electron microscope beam diameter through the equation for low angle scattering (a = 128nm at the resist surface) and the lateral resolution of the process is determined (a = 800nm at the resist/ substrate interface, for a 2.4m film). With aid of the software CASINO, Monte Carlo simulations of the scattering trajectories of electrons in substrate and resist materials are calculated, recording the energy that they dissipate through collisions along their path. The results obtained representing the profile of the energy dissipated in the resist are used to determine the proximity effect parameters. The experimental method results are compared to that obtained by simulation. Regarding the SU-8 processing, the process parameters for the fabrication of three-dimensional structures by electron-beam lithography are determined. The process is designed to have specifications (thickness, contrast, sensitivity and surface roughness) suitable for microoptical elements fabrication. It begins with the determination of the SU-8 contrast curve and its sensitivity for specific post-exposure bake temperatures. A below the unit contrast process with high sensitivity (2C/cm2) is achieved postannealing the sample below the resist glass transition temperature. The film surface roughness is measured after resist development for different exposure doses, and a controlled hardbake (cure) and reflow is carried to enhance both the mechanical properties and the surface roughness of the structures that will remain as part of the final device. A RMS roughness of 40nm, lower than 20 times the wavelength of consumer electronics laser diode, is obtained. The electron-beam process designed is applied to the fabrication of a microelement with a 16-level profile discretization.

Dissertação apresentada ao Programa de Pós- Graduação em Integração Contemporânea da América Latina da Universidade Federal da Integração Latino-Americana, como requisito parcial à obtenção do título de Mestra em Integração Latino- Americana. Orientador: Prof. Dr. Paulo Renato da Silva e Coorientadora: Profa. Dra. Rosangela de Jesus Silva / Submitted by María Silvina Sosa Vota (maria.vota@aluno.unila.edu.br) on 2018-02-20T16:53:04Z No. of bitstreams: 1 SOSA VOTA, M.S. - Prensa satírica en la región del Río de la Plata a finales del siglo XIX.pdf: 5695748 bytes, checksum: c8538f15a87e86932c1153db1cb38c7c (MD5) / Approved for entry into archive by Nilson Junior (nilson.junior@unila.edu.br) on 2018-02-20T17:00:10Z (GMT) No. of bitstreams: 1 SOSA VOTA, M.S. - Prensa satírica en la región del Río de la Plata a finales del siglo XIX.pdf: 5695748 bytes, checksum: c8538f15a87e86932c1153db1cb38c7c (MD5) / Made available in DSpace on 2018-02-20T17:00:10Z (GMT). No. of bitstreams: 1 SOSA VOTA, M.S. - Prensa satírica en la región del Río de la Plata a finales del siglo XIX.pdf: 5695748 bytes, checksum: c8538f15a87e86932c1153db1cb38c7c (MD5) Previous issue date: 2017-12-15 / No século XIX, a imprensa satírica foi um meio que, graças ao desenvolvimento da litografia, permitiu a circulação de representações textuais e visuais, tendo destaque as caricaturas que apresentaram leituras e discursos sobre os diferentes atores que intervieram nas suas conjunturas específicas. Construíram um universo de significados em estreita vinculação com a trama social, cultural e política, na qual se enquadraram forjando novos sentidos a partir da sátira e do humor. Principalmente na segunda metade do século, estas publicações serão importantes no processo de consolidação das identidades nacionais. A partir do estudo de dois títulos da imprensa satírica do século XIX rio-platense, El Mosquito (Buenos Aires) e La Ortiga y el Garrote (Montevidéu), o presente trabalho se propõe como objetivo principal observar e analisar comparativamente as publicações nos primeiros anos da década de 1870. Se dará especial atenção às distâncias e aproximações das mesmas, refletindo sobre sua contribuição ou não na conformação de uma ideia do nacional e, sobretudo, identificando se intervêm (e no caso afirmativo, como faz) na realidade regional de tradição tão dinâmica até aquela data, privilegiando as seções visuais das publicações mas sem por isso desconsiderar cada edição dos periódicos na sua totalidade. Para isso, se partirá de um estudo exaustivo das fontes para posteriormente analisar as representações que elas veicularam na sua época de circulação a partir de parâmetros estabelecidos / In the nineteenth-century, satirical press was a type of publication possible by the development of lithography that allowed the circulation of textual and visual representations. Caricatures showed lectures and speeches about the different actors that intervened in their specific scenarios. They built an universe of meanings in close connection with social, cultural and political schemes, constructing new senses from humor. In the second half of the century, this publications will be important in the process of consolidation of national identities. Studying two tittles of satirical press from the Rio de la Plata, El Mosquito (Buenos Aires) y La Ortiga y el Garrote (Montevideo), this paper proposes as main objective observe and analyze comparatively the publications in the first years of 70 decade. It will focus on the distances and approaches of them, thinking about their contribution or not to the conformation of an idea of the national and, especially, identifying if intervene (and if it is affirmative how it does) the regional reality in which they are. Visual sections will be privileged, but without disregarding each edition of the newspapers as a whole. With this propose, the starting point will be an exhaustive study of the sources, and subsequently analyze their representations from set parameters / En el siglo XIX, la prensa satírica fue un tipo de publicación que, gracias al desarrollo de la litografía, permitió la circulación de representaciones textuales y visuales, destacándose las caricaturas que presentaron lecturas y discursos sobre los diferentes actores que intervinieron en sus coyunturas específicas. Construyeron un universo de significados en estrecho vínculo con la trama social, cultural y política en la que se enmarcaron, forjando nuevos sentidos a partir de la sátira y del humor. En la segunda mitad del siglo, estas publicaciones serán importantes en el proceso de consolidación de las identidades nacionales. A partir del estudio de dos títulos de la prensa satírica decimonónica rioplatense, El Mosquito (Buenos Aires) y La Ortiga y el Garrote (Montevideo) el presente trabajo se propone como objetivo principal observar y analizar comparativamente las publicaciones en los primeros años de la década de 1870. Se prestará especial atención a las distancias y las aproximaciones de las mismas, reflexionando sobre su contribución o no a la conformación de una idea de lo nacional y sobre todo, identificando si interviene (y en caso afirmativo cómo lo hace) la realidad regional de tradición tan dinámica hasta la fecha, privilegiando la secciones visuales de las publicaciones pero sin por ello desconsiderar cada edición de los periódicos en su totalidad. Para ello, se partirá de un estudio exhaustivo de las fuentes para posteriormente analizar las representaciones que ellas vehicularon en su época de circulación a partir de parámetros establecidos.

Made available in DSpace on 2015-05-14T12:14:15Z (GMT). No. of bitstreams: 1 arquivototal.pdf: 9771925 bytes, checksum: 18e09223967768516f9115888a6485b4 (MD5) Previous issue date: 2013-02-01 / Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - CAPES / The ability to manipulate the adsorption process is very desirable. The possibility of understanding and eventually modifying the underlying mechanism is an intriguing task in fundamental physics as well as useful for applications. Indeed, the ability to control the adsorption processes is motivated by the control of thin film growth, by exploring ways to transfer patterns to a surfaces in development of microelectronics, as well as by constructing nanometer-scaled structures which are very important in the development of quantum devices. A first theoretical proposal (De Silans et al. 2006) has been done on controlling the adsorption of cold alkali atoms in dielectric surfaces using laser light. In 2007, Balykin and co-workers (Afanasiev et al. 2007) demonstrated laser-induced adsorption of hot atoms on a surface. They reported that sending a powerful near resonant laser to the interface between a dielectric surface and an alkali vapour leads to the formation of a metallic thin film, and demonstrated the possibility of using such a technique for sub-micrometer lithography. The aim of this work is to systematically study the process of laser induced hot atomic cesium vapor adsorption so as to understand the underlying mechanism as well as to control the process. We monitor the rate of a thin film growth during an induced adsorption process onto a characterized crystalline surface (sapphire) for a prescribed set of experimental conditions in order to be able to decipher, at the atomic level, the rules governing the evolution of the growth (physisorption or chemisorption), and to explore ways to tailor the film shape (lithography). To probe the film growth, we detect the transmission of a He:Ne laser, thus monitoring the time evolutionof the film's thickness. In this way we obtain the growth rate as a function of experimental parameters (vapour density, laser frequency and power and surface temperature). The data obtained we used to model the physical processes involved in the light-induced adsorption. / A compreensão do mecanismo de adsorção tem sua importância tanto do ponto de vista fundamental, no que concerne a identificação das interações átomo e superfície, como também tem um forte apelo tecnológico. Controlar o processo de adsorção é motivado, por exemplo, pelo controle do crescimento de filmes finos, explorando maneiras de transferir padrões espaciais para uma superfície particularmente visando á litografia, com aplicações evidentes em microeletrônica. Com essa motivação geral estudamos nessa tese processos de interação de átomos com superfícies dielétricas na presença de lasers ressonantes. Uma primeira proposta de um mecanismo para controlar, via laser, o processo de adsorção de átomos alcalinos frios em uma superfície dielétrica foi apresentado em (De Silans et al. 2006). Em 2007, Balykin e colaboradores (Afanasiev et al. 2007) observaram o processo de adsorção de átomos alcalinos de um vapor térmico sobre uma superfície dielétrica. Eles relataram que incidindo um laser quase ressonante na interface dielétrico vapor alcalino formava-se um filme fino metálico e demonstram também a possibilidade de usar tal técnica para litografia sub-micrométrica. O objetivo desse trabalho é estudar sistematicamente o processo de adsorção induzida por laser de vapor atômico de césio térmico em uma superfície dielétrica, para compreender o mecanismo do processo que abre a possibilidade do controle desse processo de litografia. Desta forma, nós monitoramos a taxa de crescimento do filme em uma superfície de safira para um conjunto de condições experimentais com a finalidade de ser capaz de decifrar, no nível atômico, as regras que governam o crescimento do filme, e explorar maneiras de manipular o perfil do filme. Para sondar o crescimento do filme, nós monitoramos a transmissão de um laser não ressonante. Desta maneira, obtemos a taxa de crescimento do filme em função dos parâmetros experimentais (densidade do vapor, frequência e potência do laser e a temperatura da superfície). Os dados obtidos foram usados para modelar o processo físico envolvido, que nos permite descrever de forma bastante completa, as etapas desse processo de adsorção induzida por laser. Além desse estudo sistemático da adsorção induzida por laser, fizemos durante o desenvolvimento desse trabalho uma série de estudos de técnicas para a estabilização de laser semicondutores em uma transição atômica.

Este estudo tem como principal objetivo pensar sobre como a construção das visualidades, materializadas nos rótulos de Cachaça litográficos do Paraná, refletem e refratam os acontecimentos históricos, as práticas culturais, as relações de trabalho, as transições tecnológicas e as constituições de estereótipos de gênero, ocorridos durante as décadas de 1930 a 1950. A estrutura do trabalho abrange três momentos: o primeiro relaciona-se ao mapeamento e ao inventário, e posterior catalogação do acervo da Casa da Memória; o segundo, ligado aos trabalhadores e às oficinas litográficas do Paraná, foi realizado a partir de pesquisas bibliográficas e entrevistas com envolvidos no processo litográfico; e o último, constitui-se da análise dos rótulos, orientadas a partir de uma abordagem teórica inspirada em Raymond Williams, Stuart Hall e Jesús Martín-Barbero. Como ferramenta de análise utiliza-se uma proposta semiótica de base peirceana. Os rótulos foram classificados em quatro temáticas: representações de gênero, natureza (paisagens rurais e animais), tecnologia e os tipográficos. Todos foram fichados e, a partir desse material, foram desenvolvidos os textos das análises. Alguns resultados obtidos foram: a inalteração das visualidades dos rótulos, apontando que as imagens compartilhadas pela sociedade têm um processo de transformação que nem sempre coincide com a transformação tecnológica; o processo de transição tecnológica alterou a divisão dos trabalhos nas oficinas; a influência dos meios de comunicação de massa (cinema, rádio e periódicos) nas representações elaboradas pelos litógrafos; e a capacidade dos rótulos em indicar interações, modificações e circulações das tecnologias na sociedade. / This study aims to think about the construction of the visualities, materialized in lithographic Cachaça labels, reflect and refract the historical events, cultural practices, labor relations, technological transitions, the normative gender stereotypes constitutions occurred during the 1930s to 1950s. The structure of the study is divided in three stages: one related to mapping, inventory and subsequent cataloging the material collected; the second on the workers and lithographic workshops of Paraná conducted from bibliographical research and interviews with involved in the lithographic process, and the latter, consists of the analysis of the labels, oriented from a theoretical approach inspired by Raymond Williams, Stuart Hall and Jesús Martín-Barbero. As an analysis tool is used a semiotic proposal of Peirce ́s background. The labels are divided into four themes: gender representations (female and male), nature (rural landscapes and animals), technology and typographic. All are blacklisted and, from this material, the texts of analysis are developed. Some results were: no changes of the visualities labels, pointing out that the images shared by society have a transformation process that does not always coincide with technological change; the technological transition process does not modify the division of work in the workshops; the influence of the mass media (cinema, radio and periodicals); and the ability of the labels to indicate interactions, modifications and circulations of technology in society.

Este estudo tem como principal objetivo pensar sobre como a construção das visualidades, materializadas nos rótulos de Cachaça litográficos do Paraná, refletem e refratam os acontecimentos históricos, as práticas culturais, as relações de trabalho, as transições tecnológicas e as constituições de estereótipos de gênero, ocorridos durante as décadas de 1930 a 1950. A estrutura do trabalho abrange três momentos: o primeiro relaciona-se ao mapeamento e ao inventário, e posterior catalogação do acervo da Casa da Memória; o segundo, ligado aos trabalhadores e às oficinas litográficas do Paraná, foi realizado a partir de pesquisas bibliográficas e entrevistas com envolvidos no processo litográfico; e o último, constitui-se da análise dos rótulos, orientadas a partir de uma abordagem teórica inspirada em Raymond Williams, Stuart Hall e Jesús Martín-Barbero. Como ferramenta de análise utiliza-se uma proposta semiótica de base peirceana. Os rótulos foram classificados em quatro temáticas: representações de gênero, natureza (paisagens rurais e animais), tecnologia e os tipográficos. Todos foram fichados e, a partir desse material, foram desenvolvidos os textos das análises. Alguns resultados obtidos foram: a inalteração das visualidades dos rótulos, apontando que as imagens compartilhadas pela sociedade têm um processo de transformação que nem sempre coincide com a transformação tecnológica; o processo de transição tecnológica alterou a divisão dos trabalhos nas oficinas; a influência dos meios de comunicação de massa (cinema, rádio e periódicos) nas representações elaboradas pelos litógrafos; e a capacidade dos rótulos em indicar interações, modificações e circulações das tecnologias na sociedade. / This study aims to think about the construction of the visualities, materialized in lithographic Cachaça labels, reflect and refract the historical events, cultural practices, labor relations, technological transitions, the normative gender stereotypes constitutions occurred during the 1930s to 1950s. The structure of the study is divided in three stages: one related to mapping, inventory and subsequent cataloging the material collected; the second on the workers and lithographic workshops of Paraná conducted from bibliographical research and interviews with involved in the lithographic process, and the latter, consists of the analysis of the labels, oriented from a theoretical approach inspired by Raymond Williams, Stuart Hall and Jesús Martín-Barbero. As an analysis tool is used a semiotic proposal of Peirce ́s background. The labels are divided into four themes: gender representations (female and male), nature (rural landscapes and animals), technology and typographic. All are blacklisted and, from this material, the texts of analysis are developed. Some results were: no changes of the visualities labels, pointing out that the images shared by society have a transformation process that does not always coincide with technological change; the technological transition process does not modify the division of work in the workshops; the influence of the mass media (cinema, radio and periodicals); and the ability of the labels to indicate interactions, modifications and circulations of technology in society.

Submitted by Renata Lopes (renatasil82@gmail.com) on 2017-06-19T19:31:47Z No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5) / Approved for entry into archive by Adriana Oliveira (adriana.oliveira@ufjf.edu.br) on 2017-06-29T12:33:33Z (GMT) No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5) / Made available in DSpace on 2017-06-29T12:33:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 ligiamariaalvesdelacerda.pdf: 5069586 bytes, checksum: 1d64230fb2ba63a875f3302b83855cce (MD5) Previous issue date: 2012-12-11 / Esta pesquisa tem como objetivo analisar as narrativas visuais, vinculadas à memória da indústria gráfica regional, tomando-se como investigação o estudo da implantação da primeira casa litográfica comercial do Estado de Minas Gerais, a Litografia a vapor Pietro Biancovilli. A fonte principal da pesquisa é o Álbum 6 de litografias pertencente ao acervo do Arquivo Histórico da Fundação Museu Mariano Procópio, que contem 130 exemplares de impressos comerciais pertencentes a essa litografia. Buscou-se, também, a análise em fontes documentais encontradas no Setor de Memória da Biblioteca Municipal Murilo Mendes, no Arquivo Histórico de Juiz de Fora e no Arquivo Público Mineiro, onde foram examinados periódicos e documentos relativos à chegada e à produção do litógrafo italiano Pietro Angelo Biancovilli. O recorte temporal se inicia em 1888, quando o emigrante chega ao Brasil, e termina no ano de 1914, quando se encerram suas atividades comerciais. Consoante com as proposições da História Cultural, esta pesquisa concebe o exame das práticas e representações imagéticas, forjadas no âmbito da cidade de Juiz de Fora em fins do século XIX e décadas iniciais do século XX. / This research has the purpose to analize the visual accounts linked to the memory of local graphic industry, studying the settling of the first commercial lithography house in the State of Minas Gerais, the steam litography Pietro Biancovilli. The main source of the research is the “Álbum 6” of lithographies belonging to the collection of the Historical Archive of the Mariano Procópio Museum Foundation, with 130 pieces of commercial prints belonging to this lithography. It has been analized documental sources found in the Memory Department of the Municipal Library Murilo Mendes, in the Historical Archive of Juiz de Fora and in the Public Archive of Minas, where it has been examined periodicals and documents related to the arrival and production of the italian lithographer Pietro Angelo Biancovilli. The time researched begins in 1888, when the foreigner arrives to Brazil, and it ends in the year of 1914, when he closes his commercial activities. Regarding to the propositions of Cultural History, this research conveives the examination of practices and representations of images, forged in the Juiz de Fora life in the end of 19th Century and in the first decades of the 20th Century.

Submitted by Renata Lopes (renatasil82@gmail.com) on 2017-09-28T19:52:37Z No. of bitstreams: 1 lucianadeoliveirainhan.pdf: 10066254 bytes, checksum: 82e429358b8bc970ef70d2d5e1556880 (MD5) / Approved for entry into archive by Adriana Oliveira (adriana.oliveira@ufjf.edu.br) on 2017-10-09T19:25:07Z (GMT) No. of bitstreams: 1 lucianadeoliveirainhan.pdf: 10066254 bytes, checksum: 82e429358b8bc970ef70d2d5e1556880 (MD5) / Made available in DSpace on 2017-10-09T19:25:07Z (GMT). No. of bitstreams: 1 lucianadeoliveirainhan.pdf: 10066254 bytes, checksum: 82e429358b8bc970ef70d2d5e1556880 (MD5) Previous issue date: 2017-04-19 / O trabalho propõe uma análise da produção artística desenvolvida pela artista e litógrafa mineira Lotus Lobo desde o final da década de 1960 até os dias de hoje, com matrizes de rótulos de embalagens descartadas pelas estamparias mineiras (especialmente de Juiz de Fora), em um momento de substituição de tecnologias de impressão. Destaco sua aproximação com a Pop Art — cuja produção, em geral, também dialoga com as artes gráficas ligadas ao contexto sócioindustrial —, mostrando as influências e as disparidades que impedem seu trabalho de ser meramente caracterizado como tal. Procuro refletir sobre duas direções de seu trabalho: a produção da artista plástica, por meio da apropriação das imagens dessas matrizes e de materiais de refugo industrial, como as maculaturas; e a pesquisadora que tenta manter viva a memória do design gráfico mineiro do início do século XX, seja por projetos acadêmicos ou iniciativas individuais, independentes, demonstrando a alta criatividade de sua produção artística e o lastro de suas contribuições. / This paper proposes an analysis of the artistic production developed by the artist and lithographer Lotus Lobo from the late 1960s to the present day, with matrices of packaging labels discarded by the printmakers of Minas Gerais (especially from Juiz de Fora), at a time when printing technologies were being replaced. I highlighted her proximity to Pop Art — whose works also dialogue with the graphic arts linked to the industrial context — showing the influences and the disparities that prevent her work from being characterized as Pop. I try to reflect on two directions of her work: the production of the plastic artist, through the appropriation of the images of these matrices and materials refused by the industry, as the stained printings (maculaturas); and the researcher who tries to keep alive the memory of the graphic design of Minas Gerais of the early twentieth century, either by academic projects or through independent initiatives, demonstrating the high creativity of her artistic production and the wide range of her contributions.

No presente trabalho, buscou-se generalizar o Stern-Gerlach óptico para o caso de duas cavidades, as quais possuem eixos ópticos perpendiculares entre si. Nesse experimento, um pacote atomico de dois níveis incide em uma pequena fração do volume ocupado por dois modos, na região onde os nodos das ondas estacionárias de cada modo se superpõem. Diferentemente do Stern-Gerlach óptico de cavidade única, além do intercâmbio de fótons efetuado entre o átomo e cada modo separadamente, também ocorre interação modo-modo, mediada indiretamente pelo átomo. Esse fator contribui efetivamente na caracterização da distribuição de momento do átomo. Espera-se que os desvios de trajetória sofridos pelo átomo, decorrentes de sua interação simultânea com dois modos idênticos do campo de radiação, devam ser observados no plano definido pelas duas cavidades. O estudo é efetuado considerando-se o tratamento clássico da posição do centro de massa atômico, que está associado à sua direção de incidência. Além do que, considera-se a aproximação de Raman-Nath, na qual despreza-se a variação da energia cinética transversal ao movimento atômico, durante a interação átomo-modos. Verifica-se que a análise da distribuição de momento atômico transversal permite acessar a estatística de fótons dos modos das cavidades. Este resultado viabiliza a realização da tomografia dos estados de dois modos por meio da medida da distribuição de momento bidimensional dos átomos. Por fim, através da utilização de estados coerentes na configuração de cavidades cruzadas, investiga-se as possibilidades do controle da direção de deflexão do átomo para aplicações em litografia puramente quântica. / This work deals with the generalization of the optical Stern-Gerlach effect for two cavities whose optical axes are perpendicular to each other. An atomic wave of a two-level atom is focused on a small fraction of the volume occupied by the two modes, in the region where the standing waves nodes overlap. Unlike the optical Stern-Gerlach of single cavity, besides the separate photon exchange between an atom and each mode, there also occurs mode-mode interaction indirectly mediated by the atom. This fact contributes towards the characterization of the atomic momentum distribution. Trajectory deviations suffered by the atom due to its simultaneous interaction with the two identical modes of the radiation field are expected in the plane defined by the two cavities. The study is carried out considering the classical treatment of the atomic center of mass position, which is associated with its incidence direction. The Raman-Nath approximation, which neglects the variation in the kinetic energy transversal to the atomic motion during the interaction atom-modes is considered. The analysis of the transversal momentum distribution of the atom allows accessing the photon statistics of the cavities modes. This result enables the realization of the two-mode states tomography via measurement of the two-dimensional momentum distribution of the atom. Finally, by using coherent states of the crossed cavities configuration, the study investigates the possibilities of controlling the atomic deflection direction for applications to quantum lithography.