Made available in DSpace on 2016-08-29T15:36:33Z (GMT). No. of bitstreams: 1 tese_6619_Talita Miranda T Xavier.pdf: 3341295 bytes, checksum: 3ee53fcdfc81ac86a4167b92fcd44b7a (MD5) Previous issue date: 2014-02-26 / O objetivo deste estudo foi avaliar o crescimento inicial de clones de eucalipto em condições de diferentes demandas atmosféricas associadas ao estresse hídrico. A avaliação do comportamento de clones de eucalipto em relação às trocas gasosas e as medidas de crescimento se fazem necessárias para tomar decisões que levem a uma maior produção, reduzindo custo e aumentando a eficiência no uso da água, otimizando assim a produção florestal. Os experimentos foram conduzidos em duas etapas, em casas de vegetação climatizadas com controle de temperatura e umidade relativa, localizada no Departamento de Ciências Florestais e da Madeira no Centro de Ciências Agrárias da Universidade Federal do Espírito Santo, em Jerônimo Monteiro. Foram utilizados clones comerciais do híbrido Eucalyptus urophylla x Eucalyptus grandis em idade de expedição, transplantados para vasos de 12 litros. O primeiro estudo foi desenvolvido com quatro clones entre 21 de Dezembro de 2012 a 04 de Fevereiro de 2013. O delineamento foi inteiramente casualizado, no esquema fatorial 4x2x3. Os tratamentos consistiram da interação de quatro clones (Clone 61, Clone 75, Clone 84 e Clone 66), duas condições microclimáticas (Alta demanda atmosférica e Baixa demanda atmosférica) e três intervalos de reposição de água à capacidade de campo (2, 4 e 6 dias), com cinco repetições. O segundo estudo foi realizado no período de 17 de Junho de 2013 a 15 de Agosto de 2013 e objetivou avaliar o uso de um fotoprotetor foliar à base de carbonato de cálcio no crescimento de dois clones sob estresse hídrico. Foi utilizado um fotoprotetor foliar, composto por 62,5% de carbonato de cálcio na concentração de 5%, aplicado na superfície adaxial da folha. Para indução do estresse hídrico era realizada suspensão da reposição de água até que o solo atingisse 30% da água disponível e, quando esse nível era atingido, realizava-se a reposição de água para que o mesmo retornasse à capacidade de campo, com base em pesagens diárias dos vasos. O experimento foi montado no esquema fatorial 4x2 em delineamento experimental inteiramente casualizado, sendo quatro ambientes (Temperatura inferior, Temperatura intermediária, Temperatura superior com DPV alto e Temperatura superior com DPV baixo) e dois níveis de fotoprotetor foliar (com e sem), com cinco repetições cada. Nos dois estudos, ao longo de todo período experimental foi realizado o monitoramento das condições microclimáticas dos ambientes por meio de estações meteorológicas automáticas. No final dos experimentos, foram avaliadas as variáveis de crescimento, altura, diâmetro, área foliar, matéria seca da parte aérea, raízes e total e relação raiz/parte aérea. E no segundo estudo, foi realizada a medição do status hídrico foliar e das trocas gasosas. Os dados foram submetidos à análise de variância e, quando significativa, as médias foram comparadas pelo teste de Tukey ao nível de 5% de probabilidade. Os clones avaliados apresentaram distintos padrões de crescimento nas condições de diferentes demandas atmosféricas, principalmente quando estas condições estavam associadas à reduzida disponibilidade hídrica no substrato, sendo que todos os clones foram penalizados com o estresse hídrico. A alta demanda atmosférica atuou como um fator estressante para as mudas de eucalipto em crescimento inicial, no entanto, a aplicação do fotoprotetor foliar favoreceu o crescimento, status hídrico e trocas gasosas das plantas sob estresse hídrico em condições de alta demanda atmosférica. Palavras-chave: Eucalipto. Temperatura do ar. Déficit de pressão de vapor do ar. Estresse hídrico.

Tese (doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-Graduação em Engenharia Elétrica. / Made available in DSpace on 2012-10-21T15:50:03Z (GMT). No. of bitstreams: 1 203097.pdf: 1886681 bytes, checksum: dfff7ad69186226de1043c882e7b673c (MD5) / O presente trabalho aborda o desenvolvimento e a implementação do protótipo de um reator eletrônico destinado à alimentação de lâmpadas de vapor de sódio de alta pressão em alta freqüência. A utilização de reatores eletrônicos para alimentar lâmpadas de descarga traz inúmeros benefícios, como aumento do rendimento e redução de peso e volume e possibilidade de inserção de características especiais de funcionamento. No entanto, as lâmpadas de vapor de sódio de alta pressão, quando alimentadas em alta freqüência, estão sujeitas ao fenômeno conhecido como ressonância acústica. O trabalho desenvolvido visa a concepção de circuitos eletrônicos capazes de alimentar tais lâmpadas em alta freqüência

Orientador: Vladimir Prokofievich Poliakov / Co-orientador: Carlos José de Mesquita Siqueira / Dissertaçao (mestrado) - Universidade Federal do Paraná, Setor de Tecnologia, Programa de Pós-Graduaçao em Engenharia Mecânica. Defesa: Curitiba, 2005 / Inclui bibliografia e anexos / Resumo: Pesquisas em aplicações de materiais avançados em próteses artificiais que apontam em minimizar as complicações biomecânicas de materiais implantados é atualmente de grande interesse. O desgaste provocado por pequenas partículas geradas do polietileno do peso molecular ultra alto (UHMWPE), usado geralmente no material de implante da taça acetabular da articulação coxo-femural foi reduzido ultimamente por um fator 30-600, revestindo as partes metálicas com um filme duro de DLC. A presença das partículas do polietileno são consideradas o principal fator que induz à osteólise. As tentativas precedentes em se revestir o UHMWPE com filmes finos duros resistentes ao desgaste pelo método CVD (Deposição Química de Vapor) e em combinação com métodos diferentes por PVD (Deposição Física de Vapor) não obtiveram sucesso. O trabalho atual inclui resultados de caracterização físico-química, de propriedades mecânicas (nanodureza, módulo elástico) e de testes tribológicos de filmes duros DLC depositados no UHMWPE. A caracterização físico-química dos filmes DLC foram realizadas por Espectroscopia Raman (RS), Análise de Reação Nuclear (NRA) e Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Os resultados da análise de Espectroscopia Raman dos filmes DLC PVD e DLC CVD depositados em UHMWPE são diferentes daqueles para os filmes DLC PVD sem hidrogênio e assemelham-se aos resultados dos filmes DLC CVD com hidrogênio. Todo filme depositado por PVD e CVD em polietileno contêm hidrogênio. O teor de hidrogênio dos filmes DLC PVD são menores (6.0 %) do que os depositados por CVD (23 - 25%) analisados por NRA. A nanodureza e o módulo elástico dos filmes DLC PVD com espessuras de 0,25 ?m e 1?m sobre UHMWPE apresentaram valores da ordem de 10 GPa e 50-100 GPa respectivamente. A nanodureza é sensivelmente maior do que para os filmes de DLC CVD (0,6 GPa). O comportamento tribológico foi estudado por deslizamento recíproco através de um tribômetro linear. Verificou-se que o coeficiente de atrito variou de 0,12 para o UHMWPE não revestido a 0,18 para o DLC PVD e DLC CVD após quarenta mil ciclos. Para ensaios mais longos, há uma tendência de redução o coeficiente de atrito para o DLC PVD, mostrando maior poder de lubrificação. Quanto ao desgaste, mostrou-se que as taxas apresentadas pelo UHMWPE revestido por DLC PVD é equivalente ao do material não revestido, para ensaios até duzentos mil ciclos. Os resultados encontrados até o momento, para as condições de deposição dos filmes utilizados neste trabalho não sugerem que o revestimento do UHMWPE seja uma alternativa promissora para minimizar as complicações biomecânicas associadas à articulação do implante. / Abstract: Research in advanced materials aplications in artificial prosthetics aiming to minimize the biomechanical complications of the implanted materials is presently of great interest .The wear of Ultra High Molecular Weight Polyethylene (UHMWPE) particulate commonly used in hip joints as material for acetabular cup was lately decreased by a factor 30-600 by coating metallic substrates with a hard DLC film. The wear generated by particulates of polyethylene are considered to be the main origin inducing osteolysis. Previous attempts to cover UHMWPE with hard wear resistant thin films by CVD (Chemical Vapour Deposition) method and also in combination with different PVD (Physical Vapour Deposition) methods had not been succeeded . The present work includes the results of the physical chemical characterization, mechanical properties (nanohardness , elastic modulus ) and tribological tests of hard DLC films deposited on UHMWPE . Physical chemical characterization of DLC films they had been carried through Raman Spectroscopy (RS) , Nuclear Reaction Analysis (NRA) and Scanning Electron Microscopy (SEM) The results of Raman Spectroscopy analysis of DLC PVD and DLC CVD films deposited on UHMWPE are different from those for hydrogen free DLC PVD films without hydrogen and resemble it the results of films DLC CVD with hydrogen. All of that films PVD and CVD deposited on polyethylene substrates contain hydrogen . Content of hydrogen in carbon films DLC PVD are smaller (6,0 %) than that in CVD (23 - 25%) analyzed by NRA . The nanohardness and elastic modulus of DLC PVD with thickness from 0,25 ?m - 1,0?m deposited on UHMWPE obtained values in the order of 10 GPa and 50-100 GPa respectively. The nanohardness is noticeably larger than those for DLC CVD films (0,6 GPa). The tribological behavior was studied by reciprocating sliding through linear tribometer.It was verified that the friction coefficient varied of the 0,12 for the UHMWPE not coated to 0,18 for DLC PVD and DLC CVD after forty thousand cycles. For longer tests, it has a reduction trend of the friction coefficient for DLC PVD, showing greater to be able of lubrication. About the wear, revealed that the rates presented for the UHMWPE coated for DLC PVD are equivalent to the material not coated, for tests up to two hundred thousand cycles. The results found until the moment, for the conditions from deposition of the films used in this work do not suggest that covering of UHMWPE is a promising alternative to minimize the biomechanics complications associates to the joint of the implantation.

Made available in DSpace on 2016-06-02T20:36:56Z (GMT). No. of bitstreams: 1 6704.pdf: 2596152 bytes, checksum: c0ace24070a3a87b56217d2a683e90dc (MD5) Previous issue date: 2014-12-12 / Financiadora de Estudos e Projetos / The Steam reforming of Acetone (SRA) reaction was studied on magnesium aluminate (MgAl2O4) supported nickel (Ni) and cobalt (Co) catalysts. The catalysts with 8 wt.% of Ni, Co or Ni-Co were prepared by dry impregnation and characterized with X-Ray Diffraction (XRD), Temperature Programmed Reduction (TPR) and Thermogravimetric Analysis (TGA). The catalytic tests were carried out at the molar ratio H2O/C3H6O = 6 of three ways: i) Thermal decomposition of C3H6O as a function of temperature between 523 and 973K; ii) SRA reaction as a function of temperature between 523 and 873K; and iii) SRA reaction in presence of H2 as a function of temperature. The stability tests were carried out for 4 hours at 773 and 4 hours at 873K. The thermal decomposition of acetone in homogeneous phase was significant above 923K. The SRA on reduced catalysts occur at temperatures above 773K, with conversion in a mixture of H2, CO2, CO and minor conversion to CH4 and C2H4. On Cocontaining catalysts, the SRA occurs via pyrolytic mechanism with the activation of C3H6O by cleavage of C-H bonds, followed of C-C and C-O bonds and oxidation of C formed by H2O. The Ni-containing catalyst, in the presence of H2, is active at lower temperatures (523K) than Co-containing catalysts with conversion predominantly to CH4. The results indicate that the H2 instead of C3H6O reduce of NiO on surface and the intermediates of acetone activation on reduce Ni surface is hydrogenate to CH4 at low temperatures. The thermogravimetric analysis of used catalysts demonstrate greater carbon accumulation on Ni than on Co-containing catalysts. / A Reação de Reforma a Vapor de Acetona (RVA) foi estudada sobre catalisadores de níquel (Ni) e cobalto (Co) suportados em aluminato de magnésio (MgAl2O4). Os catalisadores com teor metálico de 8% (Ni ou/e Co) foram preparados por impregnação sobre MgAl2O4 e caracterizados por Difração de Raios X (DRX), Redução à Temperatura Programada (TPR) e Análise Termogravimétrica (ATG). Os testes de atividade catalítica foram realizados na razão molar H2O/C3H6O = 6 de três formas: i) decomposição térmica de C3H6O em função da temperatura entre 523 a 973K; ii) reação RVA em função da temperatura entre 523 a 873K; e iii) reação RVA em função da temperatura em presença de H2. Os ensaios de estabilidade foram realizados por 4h a 773 e 873K. A decomposição térmica de C3H6O em fase homogênea foi significativa acima de 923K. Na RVA em temperaturas abaixo de 773K a superfície do catalisador é inativa. A reação de reforma se inicia com a redução do catalisador pela C3H6O, acima de 773K, formando uma mistura de H2, CO2, CO e em pequenas quantidades CH4 e C2H4. Sobre os catalisadores contendo Co, a RVA ocorre via mecanismo pirolítico com a ativação de C3H6O e quebra das ligações C-H seguida da C-C e C-O e oxidação do C formado pela H2O. O catalisador contendo apenas Ni, em presença de H2 é ativo em temperaturas acima de 523K, formando predominantemente CH4. Os resultados indicam que a superfície do catalisador de Ni é reduzido pelo H2, em vez da C3H6O e os intermediários da ativação da acetona (C e CO) em baixas temperaturas são hidrogenados para a formação do CH4. A análise termogravimétrica dos catalisadores usados mostra um maior acúmulo de carbono sobre os catalisadores de níquel, do que os contendo cobalto.

Made available in DSpace on 2015-01-26T13:21:15Z (GMT). No. of bitstreams: 0 Previous issue date: 2013-12-18Bitstream added on 2015-01-26T13:30:54Z : No. of bitstreams: 1 000799020.pdf: 3222465 bytes, checksum: c30d3499b8072bed965388127e97a052 (MD5) / Um dos produtos meteorológicos advindos do processamento de alta precisão de dados GNSS é a estimativa do atraso zenital troposférico o qual pode ser utilizado para quantificar o vapor d’água integrado na coluna atmosférica, importante medida para as ciências atmosféricas. A combinação de séries temporais do atraso troposférico visa gerar uma solução única, mais confiável se comparada com as soluções individuais estimadas via processamento de dados GNSS. Esta dissertação propõe uma combinação em tempo quase real do atraso zenital troposférico baseada em múltiplas soluções para um tempo específico. Nessas circunstâncias, optou-se por uma combinação obtida por meio do método dos mínimos quadrados, com controle de qualidade realizado pelo processo detecção, identificação e adaptação. As estimativas do atraso zenital troposférico foram obtidas por meio dos softwares de processamento de dados GNSS, GAMIT e GIPSY-OASIS II (GOA-II), os quais utilizam diferentes métodos e estratégias de processamento... / One of meteorological products obtained from the high-precision GNSS data processing is the zenithal tropospheric delay, which can be used to quantify the integrated water vapor, an important measurement for atmospheric sciences. Combination of tropospheric delay time series aims to generate a single solution, more reliable than each individual series. This dissertation proposes a combination in near real time of tropospheric delay parameters based on multiple solutions for a specific time. Under these circumstances, it was decided a combination derived by the least squares method and the quality control process based on detection, identification and adaptation. The zenithal tropospheric delay was derived by GIPSY-OASIS II and GAMIT GNSS data processing software systems, each one using different processing methods and strategies...

o presente trabalho é um estudo exploratório a respeito da síntese de filmes de diamante via deposiçãoquímica a vapor (CVD) sobre alguns substratos cerâmicos: diboreto de titânio (TiB2), ítria (Y20a), zircão (ZrSi04), zircônia parcialmente e totalmente estabilizada com ítria (Zr02), pirofilita ( Al2Si4OlO(OHh), .alumina (Al2Oa) e nitreto de boro hexagonal (h-BN). Estes substratos foram produzidos, em sua maioria, a partir da sinterização de pós micrométricos em altas temperaturas. Além do estudo em relação a possíveis candidatos alternativos ao tradicional silício para o crescimento de filmes auto-sustentáveis, procuramos encontrar substratos onde o filme aderisse bem e cujas propriedades tribológicas pudessem ser melhoradas com o recobrimento com filme de diamante.Dentre os materiais selecionados, constatamos que a topografia da superfície relacionada à densidade de contornos de grão, desempenha um papel relevante na nucleação do diamante. Além disso, os materiais que favorecem a formação de carbonetos conduziram a melhores resultados na nucleação e crescimento do filme, indicando que a ação da atmosfera reativa do CVD com o substrato também contribui decisivamente para o processo de nucleação. A partir dos resultados obtidos, concluímos que a aderência do filme de diamante ao zircão é excelente, assim como a qualidade do filme, o que pode serexplorado convenientemente caso as propriedades mecânicas do sinterizado de zircão sejam adequadas. No caso da zircônia parcialmente estabilizada, os resultados obtidos foram surpreendentes e este material poderia substituir o convencional substrato de silício para a deposição de filmes auto-sustentados de diamante, com inúmeras vantagens, dentre elas o fato de ser reutilizável e de não ser necessário ataque com ácidos para remoção do substrato, o que evita a geração de resíduos químicos. / This work presents the results of an exploratory study about the diamond synthesis through Chemical Vapor Deposition (CVD) over some ceramic substrates: titanium diboredo (TiB2), yttria (1203), zircon (ZrSi04), zirconia partially and totally stabilizade (Zr02), pyrophyllite (Al2Si401O(OHh), alumina (Al203) and hexagonal boron nitride (h - BN). Most of these substrates were prepared from the sintering of micrometer-size grains under high temperature. Beside the search for possible candidates to replace the conventionally used silicon substrate to grow self-standing films, we also search for substrates with interesting tribological properties that could be improved if the substrates were coated with a well adherent diamond filmo From the set of ceramic materials studied, we found out that the surface topography, related to the grain boundary density, plays, an important role in diamond nucleation. Moreover, the materiaIs where the carbide formation is favored showed better results concerning diamond nucleation and growth, compared to the materiaIs where there is no carbide formation. The reaction of thesubstrate material with the CVD environment also plays an important role in nucleation processo In the particular case of zircon substrate, the adhesion of the diamond filmis excellent, as well as the quality of the film, that can be very interesting from 'the technological point of view. In the case of zirconia partially stabilizade, the results are very interesting and this material could be replace the traditional silicon substrate to grow self-standing diamond films, with advantages such as it can be used several times and there is no need to use chemical etching to remove the substrate, avoiding chemical waste disposal.

As propriedades magnéticas e de magneto-transporte de filmes finos de diamante dopado com boro e de amostras massivas de grafite pirolítico altamente orientado (HOPG) implantado com sódio foram estudadas experimentalmente em função da temperatura, do campo magnético aplicado e da concentração de impurezas. Os filmes de diamante foram produzidos com a técnica de deposição química a partir da fase vapor (CVD). Os filmes foram crescidos sobre substrato de ZrO2 e são auto-sustentáveis. Fonte sólida de boro foi usada para o processo de dopagem. A introdução de boro produz uma banda de impurezas que domina o transporte elétrico nestes materiais. O mecanismo de condução eletrônica é do tipo salto de alcance variável na presença de um gap de Coulomb. Para uma certa concentração de boro, uma transição metal/isolante induzida pela temperatura foi observada. Nesta amostra, medidas de coeficiente Hall indicam que a concentração é devida a portadores de tipo elétron e de tipo lacuna. A concentração de Na nas amostras de grafite HOPG alcançou 1 e 2 at % na região implantada. Medidas magnéticas nas amostras HOPG mostram a presença de uma fraca contribuição ferromagnética, que se manifesta na configuração de campo magnético aplicado paralelamente aos planos de grafeno. A magnetização de saturação correspondente a essa resposta é significativamente maior nas amostras implantadas que no sistema puro. Oscilações de Schubnikov-de Haas são observadas nas medidas de magnetoresistência efetuadas neste sistema. A partir da dependência em temperatura do fator de Lifchitz-Kosevich foram obtidas as massas efetivas dos portadores de carga relevantes, as quais não dependem da quantidade de impurezas de Na presentes nas amostras. / Magnetic and magneto-transport properties of boron doped-diamond thin films and bulk samples of highly oriented pyrolytic graphite (HOPG) were studied as functions of temperature, applied magnetic field and impurity content. Self-sustained diamond films were prepared by chemical vapor deposition (CVD). Doping was obtained from a solid boron source. Eletrical transport in these films is dominated by a variable range hopping process in the presence of a Coulomb gap. For a givem boron concentration, a temperature induced metal-isulator transition was observed. Measurements of the Hall coefficient in this sample revealed that electron-like and hole-like carriers are present. The Na concentrations in the implanted-HOPG samples attain 1 and 2 at % in the implanted region. Magnetic measurements in the HOPG samples revealed the occurrence of a weak ferromagnetic response when the field is applied parallel to the graphene sheets. The saturation magnetization of the implanted samples is significantly larger than that of the undoped HOPG system. Schubnikov-de Haas oscilations are observed in magneto-resistance measurements. From the temperature dependence of the Lifchitz- Kosevich factor, the effective masses of the relevant carries in HOPG are determined. These masses do not depend on the presence of the Na impurities.

Este trabalho apresenta um estudo sobre a inserção de boro em filmes de diamante crescidos via deposição química a vapor (CVD) e propõe-se a conceber uma rota alternativa de incorporação de boro por fonte sólida, em alta concentração, a partir do substrato de deposição. Num primeiro grupo de experimentos estudou-se o comportamento dos filmes depositados em zircônia parcialmente estabilizada, traçando procedimentos específicos de pré-tratamento dos substratos. Num segundo grupo de experimentos objetivou-se estudar a incorporação de boro em filmes crescidos em substratos de grafite e substratos compostos de grafite/boro amorfo e grafite/boro cristalino. Num terceiro grupo de experimentos foi testada a deposição dos filmes em substratos de boro amorfo. Foram utilizadas diferentes técnicas de análise, sendo que aqueles filmes crescidos sobre zircônia, além de auto-sustentados, apresentaram boa cristalinidade e alta incorporação de boro. Ainda pôde ser observado nesses filmes: texturização, defeitos cristalinos e segregação de ordem nanométrica. Os filmes oriundos do segundo grupo de análise cresceram fortemente aderidos e nos permitiram caracterizar a região de interface filme-substrato a partir de um ataque químico realizado nos mesmos. Foi identificada uma concentração ótima de boro a ser misturada à grafite no substrato para obter filmes altamente dopados. É indiferente utilizar boro amorfo ou cristalino no processo, como apontado pelos resultados. Para o grupo de substratos de boro amorfo, nas condições estudadas, não foi possível a nucleação de diamante. / This work presents a study about boron doping of diamond films grown by chemical vapor deposition (CVD) and proposes an alternative route of boron incorporation by solid source, in high concentration, from the substrate of deposition. In the first group of experiments the behavior of the films deposited in partially stabilized zirconia was studied, tracing specific procedures of pre-treatment of substrate. In the second group of experiments it was studied the boron incorporation in films grown in substrates of graphite and substrates of graphite/amorphous boron and graphite/crystalline boron. In the third group of experiments the deposition of the films in amorphous boron substrates was investigated. Different techniques of analysis were used, being that those films that had been grown on zirconia, beyond self-supporting, showed good crystallinity and high incorporation of boron. It could be observed in those films: texturization, crystalline defects and segregation of nanometric order. The films deriving from the second group of analysis had grown strongly adhered to substrate and made possible the characterization of region between substrate-film from a chemical treatment realized on them. It was identified a saturation limit of the concentration of boron to be mixed to graphite in the substrate to get highly doped films. It is indifferent to use amorphous or crystalline boron during the process, like showed by the results. To the group of amorphous boron substrates, in the studied conditions, it was not possible to nucleate diamond.

Foram estudadas as propriedades elétricas de estruturas MOS envolvendo materiais com Zr e Hf: Al/HfO2/Si, Al/HfAlO/Si, Al/ZrO2/Si e Al/ZrAlO/Si depositadas por JVD (Jet Vapor Deposition) submetidas a diferentes doses de implantação de nitrogênio e tratamentos térmicos; Au/HfO2/Si e Au/HfxSiyOz/Si preparadas por MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) e Au/HfxSiyOz/SiO2/Si preparadas por sputtering reativo em O2 submetidas a tratamentos térmicos distintos. Para isso, além das medidas de C-V e I-V padrão, foi desenvolvido o método da condutância para estudo da densidade de estados na interface dielétrico/Si, o qual mostrou-se mais viável para as estruturas com dielétricos alternativos. A inclusão de Al na camada de dielétrico, bombardeamento por íons de nitrogênio, e tratamentos térmicos rápidos em atmosferas de O2 e N2 foram responsáveis por mudanças nas propriedades das amostras. Diversos mecanismos físicos que influenciam as propriedades elétricas dessas estruturas foram identificados e discutidos. Foi constatado que as interfaces com menores densidades de estados foram as das amostras preparadas por MOCVD e sputtering reativo.

Tese (doutorado)—Universidade de Brasília, Faculdade de Tecnologia, Departamento de Engenharia Mecânica, 2015. / Submitted by Fernanda Percia França (fernandafranca@bce.unb.br) on 2015-11-20T19:59:26Z No. of bitstreams: 1 2015_EdgarSobralAshiuchi.pdf: 4822357 bytes, checksum: 0a5b84f109f0c56b9d9bd06d784e6ea3 (MD5) / Approved for entry into archive by Raquel Viana(raquelviana@bce.unb.br) on 2016-05-12T19:28:40Z (GMT) No. of bitstreams: 1 2015_EdgarSobralAshiuchi.pdf: 4822357 bytes, checksum: 0a5b84f109f0c56b9d9bd06d784e6ea3 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-05-12T19:28:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 2015_EdgarSobralAshiuchi.pdf: 4822357 bytes, checksum: 0a5b84f109f0c56b9d9bd06d784e6ea3 (MD5) / Este trabalho tem como principal objetivo investigar os efeitos do tratamento criogênico profundo quanto à microabrasão na liga de alumínio laminado AA 6101-T4 com e sem o revestimento de CrN depositado por PVD. O material tal como recebido foi utilizado como referência de desempenho em ensaios de resistência ao desgaste microabrasivo para amostras que receberam o tratamento criogênico, o revestimento de CrN ou as combinações de ambos. O material tratado criogenicamente apresentou aumento relativo na resistência ao desgaste da ordem de 35%. Com uma combinação específica do tratamento criogênico profundo e do revestimento de filme fino de CrN, a resistência ao desgaste obteve incremento da ordem de 81%. Esse resultado da combinação do tratamento criogênico e do revestimento de CrN foi substancialmente superior aos obtidos para os materiais que receberam apenas um deles. Levando em consideração os mecanismos de desgaste manifestados no sistema tribológico, a dureza não demonstrou acompanhar o acréscimo da resistência ao desgaste. Estruturas nanométricas tais como aglomerados ou zonas de Guinier-Preston (GP) exibiram maior concentração nas amostras tratadas criogenicamente. De acordo com este trabalho, apenas a presença de tais nanoestruturas pôde ser associada ao aumento da resistência ao desgaste com a aplicação do tratamento criogênico profundo. Esta tese explora esse tipo de beneficiamento além dos limites da sua habitual aplicação para o aço. _______________________________________________________________________________________________ ABSTRACT / This work aimed to investigate the effects of deep cryogenic treatment with respect to the abrasion in rolled aluminum alloy AA 6101-T4 with and without the CrN coating deposited by PVD. The material as received was used as a performance benchmark in microabrasive wear resistance test for samples receiving the cryogenic treatment, the CrN coatings or combinations of both. The cryogenically treated material presented relative increase in wear resistance of the order of 35%. With a specific combination of deep cryogenic treatment and the thin CrN film coating, the wear resistance was an increase of approximately 81%. This results from the combination of the cryogenic treatment and CrN coating was substantially higher than those obtained for the materials that received only one of them. Taking into account the wear mechanisms manifested in the tribological system, the hardness did not show follow the wear resistance increase. Nanoscale structures such as clusters or Guinier-Preston(GP) zones exhibited highest concentration in the samples treated cryogenically. According to this work, only the presence of such nanostructures could be associated with increased wear resistance for the material cryogenic treated. This thesis explores the deep cryogenic treatment beyond the limits of their usual application for steel.