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11	Strukturelle Änderungen in dünnen amorphen Zr-Al-Ni-Cu- und Ta-Si-N-Schichten Bicker, Matthias 21 June 2000 (has links) Mit verschiedenen experimentellen Methoden werden die strukturabhängigen Eigenschaften amorpher Zr-Al-Ni-Cu- und Ta-Si-N- Multikomponentenschichten untersucht. Aus Messungen der mechanischen Spannungen in amorphen Zr-Al-Ni-Cu-Schichten werden mit hoher Empfindlichkeit relative Volumenänderungen bestimmt, die bei Schichtwachstum, Relaxation und Kristallisation auftreten. Das Meßverfahren ermöglicht Untersuchungen der Spannungsrelaxation und Viskosität in der Nähe des Glasübergangs. Irreversible Spannungsrelaxationen unterhalb von Tg können mit der "Freie Volumen-Theorie" gedeutet werden. Als Ursache für eine schnelle Abnahme von Druckspannungen im Bereich des Glasübergangs wird dagegen ein Fließprozeß vorgeschlagen. Unmittelbar während der Kristallisation werden nur geringe Spannungsänderungen festgestellt. Aus Messungen der isothermen Spannungsrelaxation werden Viskositäten der amorphen Schichten bestimmt. Aus den Spannungsmessungen ergeben sich neue Erkenntnisse über das Relaxations- und Kristallisationsverhalten von Multikomponentengläsern. Es werden grundlegende Fragestellungen zu Entmischungs- und Kristallisationsvorgängen in amorphen Ta-Si-N-Schichten untersucht, die auch für technologische Anwendungen der Schichten als Diffusionsbarrieren relevant sind. ASAXS-, TEM- und XRD- Messungen ergeben, daß in amorphen Ta40Si14N46-Schichten bei Temperaturen zwischen 1073 K und 1273 K komplexe Prozesse, wie eine Phasenseparation und eine nachfolgende Nanokristallisation ablaufen. Diese Prozesse führen zu einer Bildung von Strukturen mit charakteristischen Ausdehnungen und wirken sich auf die mechanischen Spannungen aus. Durch die vorliegenden Ergebnisse wird gezeigt, daß die Stabilität der Diffusionsbarrieren bereits unterhalb der Kristallisationstemperatur durch die Entmischung und Nanokristallisation begrenzt ist. 29 Physik, Astronomie RVI 230 RVI 220 RVI 000 RVT 120 RVS 100 mathematics Metallene Gläser Dünne Schichten Entmischung Nanokristallisation Mechanische Spannungen Relaxation Kristallisation Viskosität Glasübergang Diffusionsbarrieren Magnetron Sputtern Massive Gläser 33.66 33.68
12	Rauhigkeit und Durchmischung der Grenzflächen in laserdeponierten Cu-Ag- und Fe-Ag-Schichtsystemen / Interface roughness and intermixing in laser deposited Cu-Ag and Fe-Ag multilayers Weisheit, Martin 25 October 2002 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Grenzflächendurchmischung Rauhigkeit gepulste Laserdeposition dünne Schichten Cu Ag Fe interface mixing roughness pulsed laser deposition thin films Cu Ag Fe 33.68 Oberflächen Dünne Schichten Grenzflächen RVS 000 Metalle
13	Direkte Lasersynthese von Funktionsschichten / Untersuchung physikalischer Prozesse des Lasernitrierens anhand des Modellsystems TiN / Direct laser synthesis of functional coatings / Investigation of physical processes during laser nitriding by means of the model system TiN Höche, Daniel 28 November 2008 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Nitrieren TiN Freie Elektronen Laser Finite Elemente Methode Nitriding TiN Free electron laser finite element method 33.68 51.20 51.45 31.76 RVS 700: Mikrostruktur Gefüge- {Physik}
14	Size-selective synthesis of nanometer-sized Palladium clusters and their hydrogen solvation behaviour / Größen-selektive Herstellung von Nanometer-großen Palladium-Clustern und ihr Verhalten bei Wasserstoff-Beladung Shtaya-Suleiman, Mohammed A. M. 25 July 2003 (has links) No description available. Mathematics and Computer Science Cluster Wasserstoff Phasenunwandlung Löslichkeit Isothermen Synchrotron Strahlung Transmissionselektronenmikroskopie Röntgendiffraktometrie 530 Physik Clusters Hydrogen Phase transition Solubility Isotherms Synchrotron radiation transmission electron microscopy x-ray diffraction 51.10 33.64 RV RVS 000: Metalle {Physik}
15	Spannungen, Dehnungen und Lage der Phasengrenzen in dünnen Nb- und Y-Schichten bei Wasserstoffbe- und -entladung / Stresses, strains and position of phase boundaries in thin Nb- and Y-films during H-loading and -unloading Dornheim, Martin 22 May 2002 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Dünne Schichten Wasserstoff Niob Yttrium Spannungen Dehnungen Phasendiagramm Thin films hydrogen niobium yttrium stresses strains phase diagram 33.60 33.68 51.10 RVC820 RVS000 RVS400 RVS 420 RVT120
16	Charakterisierung und Optimierung von Diffusionsbarrieren auf der Basis metallischer Oxidschichten / Characterization and optimization of diffusion barriers based on metallic oxide films Pinnow, Cay-Uwe 11 December 2001 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Dünne Schichten Diffusionsbarriere Oxid Sputtern Sauerstoffdiffusion ferroelektrisch SIMS Tracer Rekristallisation thin films diffusion barrier oxide sputtering oxygen diffusion ferroelectric SIMS tracer recrystallization 33.68 33.72 RV 000: Kondensierte Materie {Physik}
17	Bestimmung von Platzbesetzung und Bindungsenergien mittels Atomsondentomographie / Site Occupation and Binding Energies by Means of Atom Probe Tomography Boll, Torben 07 May 2010 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Atomsonde Intermetallische Phase Platzbesetzung Bindungsenergie TiAl Cr Ag Nb Cu3Au DFT Spatial Distribution Maps AtomVicinity Simulation Atom Probe Tomography APT TAP 3DAP intermetallic TiAl Cr Nb Ag Cu3Au L10 L12 site occupation binding energy DFT Spatial Distribution Maps AtomVicinity Simulation 51.10 33.61
18	由消費者行為分析防偽標籤的市場需求 / Exploring the Demand of the Anti-Counterfeit Tag market -- From the perspective of Consumer Behavior 黃崇格, Huang, Chung-Ko Unknown Date (has links) 本研究有鑒於目前市場上仿冒品充斥，全球產業每年因偽造行為所產生的損失已高達美金4000億元左右，嚴重影響產業生存。為打擊仿冒現象，防偽產業因應而生，隨著消費者越來越重視消費權益及企業為了維護其品牌權益而蓬勃發展，嚴然已成為各種新產品不可或缺的附屬產品，防偽產業的未來發展及其競爭激烈是可以預期的。本論文提及的防偽標籤是專指『將單一或多種以上的防偽技術運用在可以黏貼或印製在目標產品的包裝或目標產品本身的標籤產品』。由於防偽標籤是附屬於目標產品，並非消費者所購買的標的。但透過對消費者購買行為的研究可以分析產品防偽的需求程度，進而提供產品製造商或供應商了解該產品是否需要防偽標籤？　本文首先蒐集消費者行為之文獻資料，找出消費者特性、消費者價值觀、消費者生活型態及消費者涉入程度等與防偽涉入程度相關的變數，整理各變數間的交互關係導出消費者對於防偽涉入程度會影響產品防偽的需求程度；其次透過焦點訪談及專家訪問內容得知，產品特性也是影響產品防偽的需求程度的重要因素；最後再由產品防偽的需求程度分析防偽標籤的市場需求。另一方面，不同的購買情境也會影響防偽標籤的市場需求，其中包括了購買通路以及標籤功效、法令規範、消費者對防偽標籤辨識能力等外在環境。本研究經由消費者問卷調查，將所獲得的資料經由多變量變異數分析、相關分析及頻次分析等統計方法所得之結果來驗證假設。其結論均能滿足本研究所希望達到的五項目的。　一、影響防偽標籤市場需求的因素　二、影響消費者防偽涉入程度的因素　三、哪些特性的產品需要防偽標籤　四、哪些通路的產品需要防偽標籤　五、現階段防偽標籤的推廣成效最後將本研究之發現作整理，提供防偽標籤業者作實務上的建議，希望這些參考意見在防偽產業擬定防偽標籤行銷策略時，能給予適切的助益。防偽標籤消費者行為消費者涉入程度消費者生活型態消費者價值觀購買情境多變量變異數分析相關分析 Anti-Counterfeit Tag Consumer Behavior Involvement AIO life-style Rokeach Value Survey (RVS) Purchase Situation MANOVA Correlation
19	Löslichkeit und Diffusion von Wasserstoff in dünnen Schichten amorpher ZrTiNiCuBe- und ZrAlNiCu-Legierungen / Solubility and diffusivity of hydrogen in thin films of amorphous ZrTiNiCuBe- and ZrAlNiCu-alloys Bankmann, Joachim 28 January 2003 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science Wasserstoff amorphe Legierung Platzenergieverteilung Löslichkeit Modellierung Zr Tetraeder Diffusion Isothermen hydrogen amorphous alloy density of sites solubility modelling Zr tetrahedra diffusion isotherms 33.60 33.68 51.10
20	Mikrostruktur und Wachstum bei der ionenstrahlunterstützten Deposition von Yttrium-stabilisierten Zirkonoxid-Filmen / Microstructure and growth of yttria-stabilized zirconia films fabricated by ion-beam-assisted deposition Kautschor, Lars-Oliver 22 November 2002 (has links) No description available. 530 Physik Mathematics and Computer Science dünne Filme Yttrium-stabilisiertes Zirkonoxid YSZ ionenstrahlunterstützte Deposition IBAD YBCO TEM HREM Mikrostruktur biaxial texturiert in-plane out-of-plane Textur thin films yttria-stabilized zirconia YSZ ion-beam-assisted deposition IBAD YBCO TEM HREM microstructure biaxially textured in-plane out-of-plane texture 33.61 33.68 RVS 700: Mikrostruktur Gefüge- {Physik}

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