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Strukturelle Änderungen in dünnen amorphen Zr-Al-Ni-Cu- und Ta-Si-N-Schichten

Bicker, Matthias 21 June 2000 (has links)
Mit verschiedenen experimentellen Methoden werden die strukturabhängigen Eigenschaften amorpher Zr-Al-Ni-Cu- und Ta-Si-N- Multikomponentenschichten untersucht. Aus Messungen der mechanischen Spannungen in amorphen Zr-Al-Ni-Cu-Schichten werden mit hoher Empfindlichkeit relative Volumenänderungen bestimmt, die bei Schichtwachstum, Relaxation und Kristallisation auftreten. Das Meßverfahren ermöglicht Untersuchungen der Spannungsrelaxation und Viskosität in der Nähe des Glasübergangs. Irreversible Spannungsrelaxationen unterhalb von Tg können mit der "Freie Volumen-Theorie" gedeutet werden. Als Ursache für eine schnelle Abnahme von Druckspannungen im Bereich des Glasübergangs wird dagegen ein Fließprozeß vorgeschlagen. Unmittelbar während der Kristallisation werden nur geringe Spannungsänderungen festgestellt. Aus Messungen der isothermen Spannungsrelaxation werden Viskositäten der amorphen Schichten bestimmt. Aus den Spannungsmessungen ergeben sich neue Erkenntnisse über das Relaxations- und Kristallisationsverhalten von Multikomponentengläsern. Es werden grundlegende Fragestellungen zu Entmischungs- und Kristallisationsvorgängen in amorphen Ta-Si-N-Schichten untersucht, die auch für technologische Anwendungen der Schichten als Diffusionsbarrieren relevant sind. ASAXS-, TEM- und XRD- Messungen ergeben, daß in amorphen Ta40Si14N46-Schichten bei Temperaturen zwischen 1073 K und 1273 K komplexe Prozesse, wie eine Phasenseparation und eine nachfolgende Nanokristallisation ablaufen. Diese Prozesse führen zu einer Bildung von Strukturen mit charakteristischen Ausdehnungen und wirken sich auf die mechanischen Spannungen aus. Durch die vorliegenden Ergebnisse wird gezeigt, daß die Stabilität der Diffusionsbarrieren bereits unterhalb der Kristallisationstemperatur durch die Entmischung und Nanokristallisation begrenzt ist.
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Strukturelle Untersuchung der amorph/kristallinen Grenzfläche mittels quantitativer hochauflösender Transmissionselektronenmikroskopie an den Systemen a-Si/c-Si und a-Ge/c-Si / Structural investigation of the amorphous/crystalline interface by means of quantitative high-resolution transmission electron microscopy on the systems a-Si/c-Si and a-Ge/c-Si

Thiel, Karsten 02 November 2006 (has links)
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Löslichkeit und Diffusion von Wasserstoff in dünnen Schichten amorpher ZrTiNiCuBe- und ZrAlNiCu-Legierungen / Solubility and diffusivity of hydrogen in thin films of amorphous ZrTiNiCuBe- and ZrAlNiCu-alloys

Bankmann, Joachim 28 January 2003 (has links)
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4

Analyse der Glättung rauer Oberflächen durch Dünnschichtdeposition / Analysis of smoothing of rough surfaces by thin film deposition

Röder, Johanna 23 June 2009 (has links)
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5

Relaxationen in komplexen Fluiden / Relaxations of complex fluids

Schwabe, Moritz 02 November 2010 (has links)
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6

Low Temperature Phase of the m-component Spin Glass / Die Tieftemperaturphase des m-Komponenten Spinglases

Braun, Axel 29 June 2011 (has links)
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7

Mechanische Spannungen und Mikrostruktur dünner TiNi- und Ti50Ni50-xCux-Formgedächtnisschichten / Mechanical stresses and microstructure of TiNi and Ti50Ni50-xCux shape memory thin films

Harms, Henning 06 May 2003 (has links)
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8

Wachstum amorpher Schichten: Vergleich von Experiment und Simulation im Bereich Oberflächenrauhigkeit und mechanische Spannungen / Growth of amorphous thin films: Comparison of experiment and simulation concerning surface roughness and mechanical stresses

Mayr, Stefan Georg 01 November 2000 (has links)
No description available.
9

Short range ordering and microstructure property relationship in amorphous alloys / Nahordnung und Mikrostruktur-Eigenschaftsbeziehungen in amorphen Legierungen

Shariq, Ahmed 09 January 2007 (has links)
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