Este trabalho apresenta um estudo sobre o comportamento de circuitos analógicos CMOS quando sujeitos aos efeitos de dose total ionizante. Os efeitos de dose total são resultado da interação entre a radiação ionizante e as camadas dielétricas dos dispositivos semicondutores, provocando o acúmulo de cargas nestas estruturas e a degradação dos parâmetros elétricos dos dispositivos. Com o objetivo de mensurar estes efeitos em circuitos analógicos CMOS, realizou-se um ensaio de irradiação, submetendo-os à incidência de radiação ionizante – proveniente de uma fonte 60Co – até a acumulação de 490 krad de dose. Como objeto de estudo, foram utilizadas sete referências de tensão, um regulador de tensão e uma fonte de corrente, fabricados em tecnologia CMOS de 130 nm (IBM CM8RF). Os resultados obtidos demonstram a degradação do desempenho destes circuitos em virtude dos efeitos de dose total, apontando também, diferentes níveis de sensibilidade entre as topologias utilizadas. Tais resultados obtidos podem ser utilizados para o estudo de técnicas de tolerância aos efeitos de dose total para as diferentes topologias analisadas. / This work presents a study on the behavior of CMOS analog circuits when subjected to total ionizing dose effects. The effects of total dose are the result of interaction between the ionizing radiation and the dielectric layers of semiconductor devices, causing charge buildup in these structures and affecting electrical parameters of the devices. In order to measure these effects in CMOS analog circuits, an irradiation test was performed, subjecting these circuits to the incidence of ionizing radiation – from a 60Co source – up to 490 krad of dose. Several circuits were employed as object of this study, including seven voltage references, one voltage regulator, and one current source, all fabricated in a CMOS 130 nm technology (IBM CM8RF). The obtained results demonstrated a performance degradation of these circuits due to total dose effects, showing different levels of sensitivity for the employed topologies. These results can be used for the research on tolerance techniques for total dose effects in the different topologies analyzed.

Orientador: Carlos Alberto dos Reis Filho / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-16T07:16:47Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Lima_JoseErickdeSouza_M.pdf: 6787187 bytes, checksum: 105b3b5aec8638e48cd17d79b4962b1d (MD5) Previous issue date: 2010 / Resumo: Este trabalho descreve um sistema constituído de diversos instrumentos, que se encontram interligados e gerenciados por um aplicativo de software, implementando um ambiente compacto para a caracterização de conversores analógico-digitais, de acordo com os procedimentos descritos nas normas IEEE 1057-1994 e IEEE 1241-2000. O sistema desenvolvido possui limitações quanto aos tipos de conversores analógico-digitais que podem ser testados, devidas às restrições impostas pelos equipamentos disponíveis neste momento. Sua estrutura, no entanto, foi concebida para permitir a expansão destes limites com a troca dos instrumentos limitantes à medida que estes forem adquiridos. A avaliação da sua funcionalidade foi realizada testando dois conversores analógico-digitais que têm características distintas. Enquanto um dos dispositivos testados tem resolução nominal de 10 bits e taxa de conversão de 80 MSPS, o outro tem resolução de 8 bits e taxa de conversão nominal de 8kSPS. A motivação para o desenvolvimento deste sistema está no projeto de conversores analógico-digitais integrados que se encontra em andamento no LPM-FEEC-Unicamp. A disponibilidade de um ambiente de teste com as propriedades do sistema desenvolvido é um requisito importante para o sucesso do projeto, pois viabiliza a verificação imediata dos circuitos construídos, reduzindo o tempo de convergência às metas do projeto / Abstract: This paper describes a system composed of various instruments, which are interconnected and managed by a software application, implementing a compact environment for characterization of analog-digital converters, according to the procedures described in IEEE 1057-1994 and IEEE 1241 -2000. The developed system has limitations on the kinds of analog-digital converters that can be tested due to restrictions imposed by the equipment available at the moment. Its structure, however, was designed to allow the expansion of these limits with the exchange of the limiting instruments as they are acquired. The evaluation of its functionality was performed by testing two analog-digital converters that have distinct characteristics. While one of the tested devices has nominal resolution of 10 bits and conversion rate of 80 MSPS, the other has 8-bit resolution and conversion rate four orders of magnitude below. The motivation for developing this system is the design of integrated analog-digital converters that is being carried on at the LPM-FEEC-Unicamp. The availability of a test environment with the properties of the developed system is an important requisite for the success of the project because it enables the immediate verification of the constructed circuits, thus reducing the convergence time to the project goals / Mestrado / Eletrônica, Microeletrônica e Optoeletrônica / Mestre em Engenharia Elétrica

Orientador: José Antonio Siqueira Dias / Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-08-17T22:39:39Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Garcia_AlexandreDavidRinco_M.pdf: 2843880 bytes, checksum: ecc88d93aeb48f3dad51bc6b4d4fe6f4 (MD5) Previous issue date: 2011 / Resumo: Neste trabalho é apresentado um estudo que visa otimizar os sistemas de ripple counter mediante a utilização de relés de estado sólido (FET). Com a utilização de relés de estado sólido para ripple counter é possível não apenas economizar recursos com a montagem do circuito, mas também inserir proteções inerentes ao FET. Este trabalho também mostra que é possível compensar as variações de camada devidas ao aumento da temperatura. Os sistemas atuais utilizam relés comuns e circuitos agregados; este trabalho demonstra que o uso de relés de estado sólido em aplicações de ripple counter, considerando as variações de temperatura da junção, é, não apenas viável, como também uma solução que agrega maior valor ao produto / Abstract: In this work a deep study to optimize ripple counter systems utilizing solid state relays (FET) is presented. The usage of solid relay for ripple counter will be possible not only saving money on external circuits but also inserting inherent protection's FET. This work shows that is possible to compensate the layer variations due to temperature's increasing. The currently systems use common relays and aggregates circuits, but the description above demonstrates that the usage of solid-state relay in ripple counter applications considering the junction temperature variations is not only feasible but also a better solution / Mestrado / Eletrônica, Microeletrônica / Mestre em Engenharia Elétrica

Orientador: Elnatan Chagas Ferreira / Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação / Made available in DSpace on 2018-07-26T07:52:19Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Martins_EvandroMazina_D.pdf: 12663095 bytes, checksum: 438eee1189b507756777d28043ff55be (MD5) Previous issue date: 1999 / Resumo: Na arquitetura duplo "folding" com interpolação, os bits mais significativos são determinados pela quantização do sinal de entrada usando um circuito "folding" e os bits menos significativos são obtidos pela técnica de interpolação. A maioria das soluções empregadas para implementar uma técnica de interpolação utiliza a interpolação resistiva ou uma técnica de interpolação por divisão de corrente (com transistores NMOS). Estas técnicas de interpolação têm alguns aspectos indesejáveis. Alternativamente, este trabalho propõe fazer a interpolação no circuito de "folding encoder" e nos "latches" mestre do conversor A/D. Os resultados mostraram que a nova técnica de interpolação pennite construir conversores A/D de 8 bits, porém é necessário cuidados especiais na detenninação das áreas dos transistores que fazem a interpolação dupla. Nos conversores A/D tipo duplo "folding", um conjunto de alguns "latches" mestre-escravo transforma a informação analógica interpolada em um código circular. Um erro de decisão em um "latch" mestre-escravo pode causar erro no código circular (denominado erro de bolha). Técnicas de correção de erro detectam e corrigem os erros de bolha, melhorando a razão de erro do conversor A/D. Este trabalho também propõe e descreve um novo método para a técnica digital de correção de erro que detecta e corrige erros de bolha durante a detecção da transição de zero para um do código circular. Além disso, este trabalho propõe uma nova topologia para o conversor A/D que permite diminuir a complexidade do circuito e o consumo de potência, com a conseqüente redução da área do "chip" / Abstract: In a double folding architecture with interpolation, the most significant bits are determined by the quantization of input signal using a folding circuit and the least significant bits are obtained by interpolation technique. Most of the solutions employed to implement an interpolation technique use a resistive interpolation or a current division interpolation technique (with NMOS transistor). These interpolation techniques have some undesirable features. Alternatively, this work proposes to make the interpolation in the folding encoder circuit and in the master latches of the A/D converter. The results showed that the new interpolation technique allows to build A/D converters of 8 bits, even so it is necessary special care in the determination of the areas of the transistors that make the double interpolation. In double folding A/D converters, a set of some master-slave latches transforms the interpolated analog information into circular code. A decision error in a master-slave latch may cause error in the circular code (the so-called bubble error). Error correction techniques detect and correct bubble errors improving the error rate of the A/D converter. This work also proposes and describes a new method for digital error correction technique that detects and corrects bubble errors during the transition detection from zero to one for circular code. Furthermore, this work proposes a new topology for the A/D converter that allows the decrease of circuit complexity and of the potency consumption, with the consequent reduction of the area of the " chip" / Doutorado / Doutor em Engenharia Elétrica

Neste trabalho é apresentado o projeto de uma fonte de tensão de referência, um circuito capaz de prover uma tensão invariante com a temperatura, a tensão de alimentação e o processo de fabricação. São apresentadas: as equações de funcionamento, os passos para a elaboração da uma topologia final, o dimensionamento dos parâmetros de projeto com o uso de algoritmos metaheurísticos, o desenho do layout e os resultados e análises finais. O projeto emprega a tecnologia CMOS de 0,35 &#956m com quatro camadas de metal da Austria Micro Systems, em que os VTH0\'s dos transistores NMOS e PMOS, modelo típico, são, respectivamente, 0,5 V e -0,7 V. O circuito de fonte de referência é do tipo bandgap e faz a soma ponderada de correntes proporcionais a temperatura para atingir uma tensão de referência. Obteve-se um circuito típico com 0,5 V de tensão de referência, coeficiente de temperatura de 15 ppm/ºC em intervalo de temperatura de -10 a 90ºC em 1,0 V de tensão de alimentação, regulação de linha de 263 ppm/V em um intervalo de variação de 1,0 V a 2,5 V em 27ºC, 2,7 &#956A de corrente consumida e área de 0,11 mm². A introdução de um bloco de ajuste de coeficiente de temperatura, com ajuste digital, permite que mais que 90% dos circuitos produzidos tenham um coeficiente de temperatura de até 30 ppm/ºC. As medidas realizadas no trabalho são provenientes de simulações elétricas realizadas com o ELDO e modelos BSIM3v3. / In this work is presented a design of a reference voltage source, circuits capable to provide an invariant voltage regardless of the temperature, power supply and fabrication process. It\'s presented: the operation equations, the steps to elaborate a final topology, the project parameter sizing using a metaheuristic algorithm, the drawing of the layout, and the final results and its analysis. The design employs an AMS-CMOS 0.35 &#956m technology with four metal levels, whose NMOS and PMOS VTH0\'s for a typical circuit is 0.5 V and -0.7 V. The reference voltage circuit is bandgap and performs a weighted summation of proportional temperature currents to achieve the voltage reference. A typical circuit was obtained with 0.5 V reference voltage, 15 ppm/ºC temperature coefficient in the temperature range of -10 to 90ºC under 1.0 V power supply, 263 ppm/V line regulation in the range of 1.0 V to 2.5 V under 27ºC, 2.7 &#956A power consumption in a 0.11 mm² area. For a projected circuit its also possible to ensure a temperate coefficient under 30 ppm/ºC, for more than 95% of the produced circuits, employing an adjustment block which ought to be digitally calibrated for each circuit.

Geradores de referência, ou fontes de tensão de referência, são largamente empregados na composição de diversos circuitos eletrônicos, pois são responsáveis por gerar e manter uma tensão constante para o restante do circuito. Como se trata de um circuito analógico e que possui diversas condições a serem atendidas (baixo coeficiente de temperatura, baixa tensão de alimentação, baixa regulação de linha, dentre outras), sua complexidade é alta e isso se reflete no tempo/dificuldade de um projeto. Com a finalidade de aumentar a qualidade do circuito e diminuir o tempo de projeto, foi estudado o projeto de fontes de tensão de referência através da aplicação de metaheurísticas, que são métodos de otimização utilizados em problemas que não possuem solução analítica. As metaheurísticas aplicadas foram: algoritmos genéticos, simulated annealing e pattern search, todos disponíveis em uma toolbox de otimização do Matlab. A fonte projetada, utilizando uma topologia proposta neste trabalho, fornece uma tensão de referência de 0,302 V em 300 K a uma tensão mínima de operação de 1,01 V. O coeficiente de temperatura, no intervalo de -10°C a 90°C, é de 19 ppm/°C a 1,01 V e a regulação de linha, com tensão de alimentação no intervalo de 1,01 V a 2,5 V, é de 81 ppm/V a 300 K. O consumo de potência é de 4,2 \'mü\'W, também em 300 K e a 1,01 V e a área é de 0,061 \'MM POT.2\'. Como resultado, mostrou-se a eficiência da utilização destes métodos no dimensionamento de elementos do circuito escolhido e foi obtida uma fonte de tensão de referência que atende aos critérios estabelecidos e é superior quanto ao critério de regulação de linha, quando comparada a outras fontes da literatura. Neste trabalho, foi utilizada a tecnologia CMOS de 0,35 \'mü\'m da Austria Micro Systems (AMS). / Voltage references are widely employed to compose electronic circuits, since they are responsible for generating and maintaining a constant voltage to the rest of the circuit. As it is an analog circuit and it has several conditions to fulfill (low temperature coefficient, low supply voltage, low line regulation, among others), its complexity is high, which reflects at the time/difficulties of a design. In order to increase the quality of the circuit and to minimize the design time, it was studied voltage references design using metaheuristics, which are optimization methods used in problems with no analytical solution. The applied metaheuristics were: genetic algorithms, simulated annealing and pattern search, they are all available in an optimization toolbox at Matlab. The designed voltage reference, applying a topology proposed in this work, provides a reference voltage of 0.302 V at 300 K at a minimum supply voltage of 1.01 V. The temperature coefficient, from -10°C to 90°C, is 19 ppm/°C at 1.01 V and the line regulation, using a supply voltage from 1.01 V to 2.5 V, is 81 ppm/V at 300 K. The power consumption is 4.2 W also at 300 K and 1.01 V and the area is 0.061 \'MM POT.2\'. As a result, it was shown that those methods are efficient in sizing the devices of the chosen topology and it was obtained a voltage reference that fulfills all established criteria and that is superior at the line regulation criterion, when compared to other voltage reference of the literature. In this work, the 0.35-\'mü\'m CMOS technology provided by Austria Micro Systems (AMS) was used.

Este trabalho consiste no projeto de uma Fonte de Tensão de Referência CMOS com coeficiente de temperatura inferior a 50 ppm/ºC. Esta fonte deve ser aplicada em receptores/transmissores de radio freqüência mas pode também ser utilizada em qualquer sistema analógico. A tecnologia utilizada foi a CMOS 0,35 µm da AMS (Austria Micro Systems) com quatro níveis de metal e dois de silício policristalino. A fonte de tensão implementada é do tipo Bandgap e utiliza dispositivos MOS em inversão fraca, um transistor bipolar parasitário e resistores de silício policristalino de alta resistividade. No circuito é produzida uma tensão PTAT (Proportional to Absolute Temperature) que somada a tensão base-emissor do transistor bipolar resulta numa tensão de saída independente da temperatura. O projeto e o desenho do layout desta fonte foram realizados. A partir do layout foram gerados netlists para simulações realizadas utilizando o software ELDO com o modelo MOS BSIM3v3, nas condições de operação típicas, worst speed e worst power. Através destas simulações verificou-se que o circuito atendia as especificações iniciais. O valor da tensão de saída, no entanto, apesar de estar próximo do valor desejado de 1,25 V, variou com as condições de simulação empregadas. Dois circuitos Bandgap diferentes foram enviados para fabricação: um circuito com resistores integrados (dimensões de 220 µm x 76 µm) e outro sem os resistores (dimensões de 190 µm x 36 µm). Este último permite, com o ajuste do valor dos resistores colocados externamente, modificar, se necessário, as condições de operação do circuito. Os circuitos foram caracterizados obtendo-se para o circuito com resistores integrados um coeficiente de temperatura inferior à 40 ppm/ºC, taxa de variação da saída com a tensão de alimentação próxima de 19 mV/V. O valor da tensão de saída a 50 ºC esteve entre 1,1835 V e 1,2559 V (1,25 V ± 67 mV). Para o circuito sem os resistores integrados, obteve-se um coeficiente de temperatura que chegou à 90 ppm/ºC, taxa de variação da saída com a tensão de alimentação inferior à 28 mV/V. O valor da tensão de saída a 50 ºC esteve entre 1,247 V e 1,2588 V (1,25 V ± 9 mV). A faixa de temperatura utilizada para as medidas foi de -30 ºC a 100 ºC. O consumo de corrente dos circuitos é de aproximadamente 14 µA e seu funcionamento é garantido para tensões de alimentação tão baixas quanto 1,8 V. / This work consists in the design of a CMOS Voltage Reference Source with a temperature coefficient inferior to 50 ppm/ºC. This voltage source should be applied in radio frequency receptor/transmitter but can be also applied in any analog system. The technology employed in the design is the CMOS 0.35 µm from the AMS (Austria Micro Systems) with four metal levels and two poly-silicon levels. The implemented voltage source is of the Bandgap type and uses MOS devices in weak inversion, a parasitic bipolar transistor, and resistors made with high resistive poly-silicon. The circuit produces a PTAT (Proportional to Absolute Temperature) voltage that is added to the bipolar transistor base-emitter voltage to build an output voltage independent of temperature. The project and the drawing of the layout of the circuit had been carried out. The netlists of the circuit were generated from the layout and they were employed in simulations done with the software ELDO and the BSIM3v3 MOS model, in typical, worst speed, and worst power conditions. Through these simulations it was verified that the circuit reached the initial specifications. The value of the output voltage, however, although being next to the desired value of 1.25 V, varied with the employed simulation conditions. Two different Bandgap circuits had been sent to the foundry: a circuit with integrated resistors (dimensions of 220 µm x 76 µm) and another one without the resistors (dimensions of 190 µm x 36 µm). This last one allows, with the adjustment of external resistor values, modifying, if necessary, the operation conditions of the circuit. The circuits had been characterized and the circuit with integrated resistors has a temperature coefficient inferior to 40 ppm/ºC, an output variation rate with the power supply close to 19 mV/V. The output voltage value at 50 ºC is between 1.1835 V and 1.2559 V (1.25 V ± 67 mV). The circuit without the resistors has a temperature coefficient as high as 90 ppm/ºC, an output variation rate with the power supply inferior to 28 mV/V. The output voltage value at 50 ºC is between 1.247 V and 1.2588 V (1.25 V ± 9 mV). The temperature range used in the measurements was from -30 ºC to 100 ºC. The current consumption of the circuits is approximately of 14 µA, and they operate with power supply voltages as low as 1.8 V.

Esse trabalho de mestrado teve como estudo o transistor Túnel-FET (TFET) fabricado em estrutura de nanofio de silício. Este estudo foi feito de forma teórica (simulação numérica) e experimental. Foram estudadas as principais características digitais e analógicas do dispositivo e seu potencial para uso em circuitos integrados avançados para a próxima década. A análise foi feita através da extração experimental e estudo dos principais parâmetros do dispositivo, tais como inclinação de sublimiar, transcondutância (gm), condutância de saída (gd), ganho intrínseco de tensão (AV) e eficiência do transistor. As medidas experimentais foram comparadas com os resultados obtidos pela simulação. Através do uso de diferentes parâmetros de ajuste e modelos de simulação, justificou-se o comportamento do dispositivo observado experimentalmente. Durante a execução deste trabalho estudou-se a influência da escolha do material de fonte no desempenho do dispositivo, bem como o impacto do diâmetro do nanofio nos principais parâmetros analógicos do transistor. Os dispositivos compostos por fonte de SiGe apresentaram valores maiores de gm e gd do que aqueles compostos por fonte de silício. A diferença percentual entre os valores de transcondutância para os diferentes materiais de fonte variou de 43% a 96%, sendo dependente do método utilizado para comparação, e a diferença percentual entre os valores de condutância de saída variou de 38% a 91%. Observou-se também uma degradação no valor de AV com a redução do diâmetro do nanofio. O ganho calculado a partir das medidas experimentais para o dispositivo com diâmetro de 50 nm é aproximadamente 45% menor do que o correspondente ao diâmetro de 110 nm. Adicionalmente estudou-se o impacto do diâmetro considerando diferentes polarizações de porta (VG) e concluiu-se que os TFETs apresentam melhor desempenho para baixos valores de VG (houve uma redução de aproximadamente 88% no valor de AV com o aumento da tensão de porta de 1,25 V para 1,9 V). A sobreposição entre porta e fonte e o perfil de dopantes na junção de tunelamento também foram analisados a fim de compreender qual combinação dessas características resultariam em um melhor desempenho do dispositivo. Observou-se que os melhores resultados estavam associados a um alinhamento entre o eletrodo de porta e a junção entre fonte e canal e a um perfil abrupto de dopantes na junção. Por fim comparou-se a tecnologia MOS com o TFET, obtendo-se como resultado um maior valor de AV (maior do que 40 dB) para o TFET. / This Master thesis focused in the study of the NW-TFET. The study was performed either by simulation as by experimental measurements. The main digital and analog characteristics of the device and its potential for use in advanced integrated circuits for the next decade were studied. The analysis was performed by extracting and studying the devices main parameters, such as subthreshold swing, transconductance (gm), output conductance (gd), intrinsic voltage gain (AV) and transistor efficiency. The experimental measurements were compared with the results obtained by simulation. Utilizing different simulation fitting parameters and models, the device behavior (observed in the experimental measurements) was understood and explained. During the execution of this work, either the influence of the source material on the device performance, as the impact of the nanowire diameter on the transistor main analog parameters, were studied. The devices with SiGe source presented higher values of gm and gd than those with silicon source. The percentual difference among the values of transconductance for the different source materials varied from 43% to 96%, being dependent on the method utilized for the comparison, and the percentual difference among the values of output conductance varied from 38% to 91%. A degradation of AV was also observed with the nanowire diameter reduction. The gain calculated from the experimental measurements for the device with 50 nm of diameter is approximately 57% lower than the gain corresponding to the diameter of 110 nm. Furthermore, the impact of the diameter considering different gate biases (VG) was analysed. It was concluded that TFETs show improved performance for lower values of VG (a reduction of approximately 88% of AV was observed for an increase of the gate voltage from 1.25 V to 1.9 V). The gate/source overlap length and the dopant profile at the tunneling junction were also analyzed in order to understand which combination of this features would result in a better performance of the device. It was observed that the best results were related to an alignment between the gate electrode and the source/channel junction and to an abrupt dopant profile at the junction. Finally, the MOS technology was compared with TFET, resulting in a higher AV (higher than 40 dB) for the TFET.

Neste trabalho apresentamos a análise do comportamento analógico de transistores MOS implementados em tecnologia Silício sobre Isolante (SOI), de canal gradual (GC) e com tensão mecânica aplicada ao canal, operando em baixas temperaturas (de 380 K a 90 K), em comparação com dispositivos SOI convencionais. Este estudo foi realizado utilizando-se medidas experimentais de transistores e pequenos circuitos fabricados, bem como através da utilização de simulações numéricas bidimensionais e modelos analíticos. No caso dos transistores de canal gradual, inicialmente foi proposto um modelo analítico contínuo para a simulação da corrente de dreno em baixas temperaturas. Este modelo foi validado para temperaturas entre 300 K e 100 K e incluído na biblioteca de modelos de um simulador de circuitos. Foram analisadas características importantes para o funcionamento de circuitos analógicos, tais como a distorção harmônica de dispositivos operando em saturação e o descasamento de alguns parâmetros, como tensão de limiar e corrente de dreno, em diversas temperaturas. No caso da distorção, foi verificada uma melhora significativa promovida pela utilização da estrutura de canal gradual, ultrapassando 20 dB em 100 K. O descasamento apresentou piora em relação ao transistor convencional, devido a imperfeições de alinhamento que podem ocorrer no processo de fabricação, principalmente na etapa de definição da região fracamente dopada do canal. Foi observada uma piora de até 2,5 mV na variação da tensão de limiar e mais de 2% na corrente de dreno, em temperatura ambiente, em relação ao transistor uniformemente dopado. O impacto da utilização de transistores GC SOI em espelhos de corrente e amplificadores dreno comum também foi também avaliado. Os resultados experimentais mostraram que a estrutura de canal gradual é capaz de promover a melhora no desempenho destes dois blocos analógicos em comparação com transistores uniformemente dopados em todo o intervalo de temperaturas estudado. Amplificadores dreno comum com ganho praticamente constante e próximo do limite teórico e espelhos de corrente com precisão de espelhamento superior àquela apresentada por transistores convencionais, com maior excursão do sinal de saída e maior resistência de saída, foram obtidos. Foram também comparadas características analógicas de transistores SOI com tensão mecânica uniaxial e biaxial agindo sobre o canal em função da temperatura. Os resultados obtidos indicam que a tensão mecânica sobre o canal resulta em ganho de tensão melhor, ou no mínimo igual, àquele obtido com um transistor convencional com as mesmas dimensões e tecnologia. / In this work an analysis of the analog behavior of MOS transistors implemented in Silicon-on-Insulator technology, with graded-channel (GC) and mechanical strain applied to the channel, operating at low temperatures (from 380 K down to 90 K), in comparison to standard SOI devices is presented. This study has been carried out by using experimental measurements of transistors and small circuits, as well as through two-dimensional numerical simulations and analytical models. In the case of graded-channel transistors, an analytical model for the simulation of the drain current at low temperatures has been initially proposed. This model has been validated from 300 K down to 100 K and included to the models library of a circuit simulator. Important characteristics for analog circuits have been evaluated, namely the harmonic distortion of devices biased in saturation regime and the mismatching of parameters like the threshold voltage and the drain current, at several temperatures. Regarding the distortion, it has been verified a significant improvement due to the use of the graded-channel architecture, which reached more than 20 dB at 100 K. The matching has been worsened in comparison to standard transistor, due to misalignements that may take place in the devices processing, mainly in the definition of the lightly doped region in the channel. It has been observed a worsening of up to 2.5 mV in the threshold voltage variation and more than 2 % in the drain current, at room temperature, in comparison to the uniformly doped device. The impact of the application of GC transistors in current mirrors and commondrain amplifiers has been also evaluated. The experimental results showed that the graded-channel structure is able to provide improved performance of these analog blocks in comparison with uniformly doped transistors in the entire studied range of temperatures. Commom-drain amplifiers with virtually constant gain, close to the theoretical limit and current mirrors with improved mirroring precision in comparison to standard transistors, with increased output swing and output resistance have been obtained. Analog characteristics of SOI transistors with uniaxial and biaxial mechanical strain in the channel have been also compared as a function of the temperature. The analysis of experimental measurements indicates that the use of mechanical strain results in better or, at least, similar voltage gain than stardard transistors, for the same dimensions and technology.

Esta pesquisa caracteriza-se como um estudo de análise gráfico-conceitual acerca da importância de processos de ação criadora referenciáveis à questão do movimento por meio de formas de representação e de exploração do espaço e do tempo na Arquitetura. Aborda a questão da representação na linguagem arquitetônica, entendida como meio de relação entre tempo e espaço. Investiga como o movimento sendo uma possível síntese desta equação pode ser percebido, representado e interpretado na geração de um projeto arquitetônico. Reflete sobre a mudança de paradigmas que caracterizam a transição dos meios de representação e identifica as expressões de movimento na linguagem arquitetônica, assim como novos parâmetros de raciocínio projetual por meio da análise de projetos e métodos projetivos analógicos e digitais de arquitetos, designers e artistas. Contextualiza as manifestações de clara relação da Arquitetura com a compreensão do espaço, tempo e movimento e propõe-se como base de reflexão comparativa entre a modernidade e a contemporaneidade. / This research is characterized as a study of graphconceptual analysis concerning to the importance of processes of creative action related to the subject of the movement by means of representation forms and exploration of space and time in the Architecture. It introduces the representation in the architectural language, understood as the relationship between time and space. It investigates how the movement - being a possible synthesis of this equation - can be noticed, represented and interpreted in the generation of an architectural project. The dissertation contemplates the change of paradigms which characterize the transition of the representational methods, from analogical to digital movement expressions in the architectural language, as well as new parameters of projetual reasoning by means of the analysis of projects of architects, designers and artists. It contextualizes the manifestations of clear relationships in Architecture within the understanding of space, time and movement as a basis of comparative reflection between the modernity and the contemporaneity.