Submitted by Setor de Tratamento da Informa??o - BC/PUCRS (tede2@pucrs.br) on 2016-10-20T16:22:58Z No. of bitstreams: 1 DIS_CARLOS_JOSE_PETRY_FILHO_COMPLETO.pdf: 1014403 bytes, checksum: 0b1589dd556d94c26d4d0e8e3df24260 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-10-20T16:22:58Z (GMT). No. of bitstreams: 1 DIS_CARLOS_JOSE_PETRY_FILHO_COMPLETO.pdf: 1014403 bytes, checksum: 0b1589dd556d94c26d4d0e8e3df24260 (MD5) Previous issue date: 2016-03-29 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior - CAPES / Objective: The aims of this study were evaluate and compare the maximum load strength of the following materials: nanoceramic resin, lithium dissilicate ceramic and zirconium dioxide-reinforced lithium silicate ceramic when used as occlusal veneers in thicknesses recommended by the manufacturer and/or reduced to 0.6 mm, and the occurrence of fracture and fracture types. Materials and Method: Fifty six human molars extracted were randomly divided into 7 groups according to the material and thickness: Control group; L15 and L06 groups (Lava Ultimate), E15 and E06 (e.max CAD) and S10 and S06 (Suprinity). Each material was used in two thicknesses, the minimum thickness recommended by the manufacturer and 0.6mm. All restorations were made using CAD/CAM CEREC system. After milling, all samples were treated according to manufacturer?s recommendations and etched with hydrofluoric acid and silane when indicated. For teeth etching it was used 37% phosphoric acid for 15 seconds selectively enamel, washed for 30 seconds with water and dried with compressed air. The adhesive used was Single Bond Universal, applied actively for 20 seconds. For the cementation was used the dual cement Relyx Ultimate. Results: There was a statistically significant difference in the relationship between the material used and the maximum load strength. There was no significant difference between material and thickness within the groups. The largest recorded charging load average was 3428.25 N at Control Group however without statistically difference from the L15 group 2995.75 N. E15 groups, E06, S10 and S06 showed no statistically significant difference, the lowest average was recorded in group S06 1330.68 N. Conclusions: Within the limitations of this in vitro study, it is possible to concluded that material interfere in the maximum power load in occlusal veneers, however reducing the thickness of these materials does not affect the maximum force recorded charging, all materials recorded loading force greater than that recorded in natural occlusion. / Objetivo: O objetivo deste estudo foi avaliar e comparar a for?a m?xima de carregamento dos seguintes materiais: resina nanocer?mica, cer?mica dissilicato de l?tio e a cer?mica silicato de l?tio refor?ada por di?xido de zirc?nio quando utilizadas como facetas oclusais em espessuras recomendadas pelo fabricante e com espessura reduzida de 0,6 mm, assim como avaliar os tipos e frequ?ncia de fraturas ocorrentes. Materiais e m?todo: Aleatoriamente 56 terceiros molares extra?dos h?gidos foram divididos em 7 grupos de acordo com as vari?veis material e espessura: grupo Controle (dente h?gido); grupos L15 e L06 (Lava Ultimate) com 1,5 mm e 0,6 mm respectivamente, E15 e E06 (e.max CAD) com 1,5mm e 0,6mm respectivamente e S10 e S06 (Suprinity) com 1mm e 0,6 mm respectivamente. Cada material foi utilizado em duas espessuras, a espessura m?nima recomendada pelo fabricante e 0,6mm. Todas as restaura??es foram confeccionadas utilizando o sistema CAD/CAM CEREC. As pe?as receberam o tratamento p?s fresagem de acordo com as recomenda??es dos fabricantes. Para condicionamento dos dentes foi utilizado ?cido fosf?rico 37% por 15 segundos de forma seletiva em esmalte, lavados por 30 segundos com ?gua corrente e secos com jato de ar. O adesivo utilizado foi Single Bond Universal, aplicado de forma ativa por 20 segundos. Para a cimenta??o foi utilizado o cimento resinoso dual Relyx Ultimate. Resultados: Houve diferen?a estatisticamente significativa na rela??o entre o material utilizado e a for?a m?xima de carregamento. A maior m?dia de carga de carregamento registrada foi no grupo Controle 3428,25 N por?m n?o diferiu estatisticamente do grupo L15, 2995,75 N. Os grupos E15, E06, S10 E S06 n?o apresentaram diferen?a estat?stica significativa, a menor m?dia foi registrada no grupo S06 1330,68 N. Conclus?es: Dentro das limita??es de um estudo in vitro conclu?mos que o material interfere na for?a m?xima de carregamento em facetas oclusais. No entanto, a redu??o das espessuras destes materiais n?o interferiu na for?a m?xima de carregamento registrada quando comparado ? indica??o do fabricante. Foi poss?vel observar que todos os materiais testados resistiram a uma for?a de carregamento superior ? registrada em oclus?o natural descrito na literatura.

Made available in DSpace on 2015-04-14T13:29:12Z (GMT). No. of bitstreams: 1 397727.pdf: 6814018 bytes, checksum: 6e35a618cab019880f495b514a8897a3 (MD5) Previous issue date: 2007-12-12 / O presente estudo objetivou avaliar e comparar a resist?ncia de uni?o ao cisalhamento de br?quetes colados com dois sistemas de fotoativa??o de resinas compostas, o LED e o PAC, mediante diferentes tempos de exposi??o. Foram selecionados 90 dentes incisivos dec?duos bovinos, os quais foram divididos em seis grupos, de acordo com a fonte de luz e o tempo de exposi??o utilizado. No grupo LED, foram usados os tempos 5, 10 e 15 segundos e, no grupo PAC, 3, 6 e 9 segundos. Para aferir a pot?ncia da luz emitida pelos aparelhos LED (OrtholuxTM LED Curing Light, 3M Unitek, EUA) e PAC (Apollo? 95E, DenMed Technologies, EUA), foi utilizado um radi?metro para cada natureza de luz, os quais indicaram como valores m?dios 800mW/cm2 e 1800mW/cm2, respectivamente. O sistema adesivo utilizado para a colagem dos br?quetes foi o TransbondTM XT?, e as superf?cies de esmalte foram preparadas conforme as recomenda??es do fabricante. Ap?s a colagem, os corpos-de-prova foram mantidos em ?gua destilada a 37?C por 24 horas e submetidos ? tens?o de cisalhamento na m?quina de ensaio mec?nico Emic DL2000?, no sentido inciso-cervical, ? velocidade de 0,5mm/min. De acordo com as an?lises estat?sticas ANOVA e Tukey, verificou-se que houve diferen?a significativa entre os grupos estudados (p<0,005). Os grupos fotoativados por LED n?o mostraram diferen?a estatisticamente significativa entre si, sendo que o grupo fotoativado por 15s (16,68MPa) apresentou a maior m?dia de resist?ncia de uni?o, seguido pelo grupo fotoativado por 10s (14,76MPa) e por 5s (13,92MPa). Quanto aos fotopolimerizados por PAC, os grupos fotoativados por 9s (12,66MPa) e por 6s (9,96 MPa) n?o mostraram diferen?a estatisticamente significativa entre si. A menor m?dia de resist?ncia de uni?o foi obtida com o grupo fotopolimerizado por PAC durante 3s (8,29MPa), embora este grupo n?o tenha se diferenciado estatisticamente do grupo fotoativado por PAC por 6s. Observou-se que, mesmo nos grupos que apresentaram as menores m?dias de resist?ncia de uni?o, LED 5s e PAC 3s, os valores s?o considerados suficientes para suportar as for?as exercidas, tanto pela mec?nica ortod?ntica quanto pela mastiga??o. De acordo com o teste estat?stico Kruskal-Wallis, n?o houve diferen?a significativa no padr?o de falhas na descolagem entre os grupos estudados. O escore predominante foi o n?mero 3 (65,6%) do ?ndice de adesivo remanescente (IAR) mostrando que a resina composta, predominantemente, permaneceu aderida ? superf?cie do esmalte, preservando-o de eventuais traumas. Estes resultados permitem concluir que, tanto a tecnologia LED quanto a tecnologia PAC podem ser utilizadas na colagem de br?quetes com efetividade, permitindo redu??o significativa no tempo da colagem ortod?ntica, comparada ? tecnologia tradicional por l?mpadas hal?genas

Made available in DSpace on 2015-04-14T13:29:20Z (GMT). No. of bitstreams: 1 406879.pdf: 817502 bytes, checksum: a388f3f8f4ce8e84782dbb5d5932a532 (MD5) Previous issue date: 2008-08-05 / O objetivo deste estudo foi comparar diferentes larguras de cinzel utilizadas em ensaios mec?nicos para avalia??o da resist?ncia de uni?o ao cisalhamento na interface esmalte dental / resina composta. Para a realiza??o do ensaio e cisalhamento, cinz?is com larguras de 0,5mm, 1,0 mm, 2,0 mm e 3,0 mm foram utilizados para testar 4 grupos (n=15). Foram utilizados 60 dentes bovinos do grupo incisivo que tiveram sua inclus?o, preparo de superf?cie e confec??o dos corpos de prova realizados de acordo com Goes (1994). As superf?cies de esmalte foram planificadas, condicionadas com ?cido fosf?rico (3M/ESPE) ? 15%, seguido da aplica??o do sistema adesivo Single Bond (3M) e de resina composta Z-250 (3M) conforme instru??es do fabricante. Para o ensaio de cisalhamento foi utilizada uma m?quina de ensaio universal EMIC DL 2000 (EMIC, BRASIL) a velocidade de 0,5mm/min. Os dados obtidos foram comparados estatisticamente com an?lise de vari?ncia e teste de Duncan com n?vel de signific?ncia de 5% (p < 0,05) e submetidos ao teste de correla??o de Pearson (p < 0,01). As m?dias obtidas em Megapascal para a resist?ncia de uni?o ao cisalhamento foram: 0,5mm - 19,66; 1,0mm 18,78; 2,0 mm 16,77; 3,0 mm 16,06. Houve diferen?a estatisticamente significativa entre os grupos, quando submetidos ? an?lise de vari?ncia (p = 0,045) e testes de compara??o m?ltipla de Duncan. A menor m?dia (MPa) foi registrada para o grupo com cinzel de 3,0mm (16,06), enquanto a maior m?dia (MPa) foi verificada para o grupo com cinzel de 0,5mm (19,66), que diferiram estatisticamente. A correla??o entre largura do cinzel e resist?ncia de uni?o foi significante (p < 0,01). Os resultados obtidos permitem concluir que os valores (MPa) de resist?ncia de uni?o ao cisalhamento sofrem influ?ncia da largura do cinzel utilizado no ensaio.

La lithographie est une étape clé de micro/nanotechnologie pour la fabrication de composants utilisés dans les domaines de la microéléctronique, de l’électronique flexible, de la photonique, du photovoltaïque, de la microfluidique... Cette étape de lithographie nécessite l’utilisation d’une résine inscriptible servant de masque temporaire permettant le transfert de motifs dans le matériau sous-jacent par gravure ou par déposition de nouveaux matériaux. La lithographie fait appel à des résines organiques mais aussi à des solvants organiques et des produits chimiques corrosifs et nocifs, ce qui va à l’encontre des problématiques environnementales et qui engendre des coûts supplémentaires liés à la gestion des risques et des déchets. De plus le contexte réglementaire (REACh ou US pollution act) évolue vers une plus grande protection de l’environnement et de la santé humaine et encourage l’utilisation de produits alternatifs. Dans ce contexte, mon projet de thèse visait à développer une résine biosourcée, non modifiée par des procédés de chimie de synthèse et développable dans l’eau. Cette résine devait être compatible avec les instruments de lithographies conventionnelles. Lors de ce travail, il a été démontré que le chitosane était une résine de tonalité positive permettant la réalisation d’un procédé complet de lithographie/gravure avec uniquement de l’eau comme solvant, sans modification du chitosane et sans l’utilisation de masque additionnel. Des motifs de 50 nm ont été obtenu dans la silice après lithographie électronique et gravure plasma et des motifs de 0.5 à 0.3 μm après photolithographie et gravure. / . Lithography is a key step in micro / nanotechnology with applications in the fields of microelectronics, flexible electronics, photonics, photovoltaics, microfluidics and biomedical. This lithography step requires the use of a writable resist to act as a temporary mask for transferring patterns in the underlying material by etching or deposition. Nowadays, lithography uses synthetic organic resin, organic solvents and hazardous chemicals which is contrary to environmental issues and generates additional costs associated with risk and waste management. Furthermore, regulation rules (REACh, US pollution act) tend to move toward the protection of human health and the environment from the risks that can be posed by chemicals and promote alternative chemicals. In this context, this PhD work aimed at replacing conventional synthetic organic resist with a biopolymer. This biopolymer will not be modified by synthetic organic chemistry, will be compatible with conventional lithography instruments and it should be developable in water. It was demonstrated that chitosan was a positive tone resist allowing accomplishing a complete lithography-etching process. The whole process was performed in aqueous solution without the use of hazardous chemicals. 50 nm features were obtained after ebeam lithography/plasma etching into a silica layer without the use of an additional masking layer. 0.3-0.5 μm feature were obtained using photolithography.

In 1960's Gordon Moore predicted that the increase in the number of components in integrated circuits would exponentially decrease the relative manufacturing cost per component with time. The semiconductor industry has managed to keep that pace for nearly 45 years and one of the main contributors to this phenomenal improvement in technology is advancement in the field of lithography. However, the technical challenges ahead are severe and the future roadmap laid by the International Technology Roadmap for Semiconductors looks mostly red (i.e. no solution has been found to specific problem). There are efforts in the industry and academia directed toward development of newer, alternative lithographic techniques. Step and Flash Imprint Lithography (SFIL) has recently emerged as one of the most promising alternatives, capable of producing high resolution patterns. While it has numerous advantages over conventional photolithography, several engineering challenges must be overcome to eliminate defects due to the nature of contact imprinting if SFIL is to be a viable alternative technique for manufacturing tomorrow's integrated circuits. The complete filling of template features is vital in order for the SFIL imprint process to truly replicate the template features. The feature filling phenomena for SFIL was analyzed by studying diffusion of a gas, entrapped in the features, through liquid imprint resist. A simulation of the dynamics of feature filling for different pattern configurations and process conditions during the SFIL imprint step is presented. Simulations show that initial filling is pressure-controlled and very rapid; while the rest of the feature filling is diffusion-controlled, but fast enough that diffusion of entrapped gas is not a cause for non-filling of features. A theory describing pinning of an air-liquid interface at the feature edge of a template during the SFIL imprint step was developed, which shows that pinning is the main cause of non-filling of features. Pinning occurs when the pressure at the air-liquid interface reaches the pressure of the bulk liquid. At this condition, there is no pressure gradient or driving force to move the liquid and fill the feature. The effect of several parameters on pinning was examined. A SFIL process window was established and template modifications are proposed that minimize the pinning at the feature edge while still preventing any extrusion along the mesa (pattern containing area on the template) edge. Part of semiconductor manufacturing community believes that optical lithography has the capability to drive this industry further and is committed to the continuous improvement of current optical patterning approaches. Some of the major challenges with shrinking critical dimensions (CDs) in coming years are the control of line-edge roughness (LER) and other related defects. The current CDs are such that the presence or absence of even a single polymer molecule can have a considerable impact on LER. Therefore molecular level understanding of each step in the patterning process is required. Computer simulations are a cost-effective approach to explore the huge process space. Mesoscale modeling is one promising approach to simulations because it captures the stochastic phenomena at a molecular level within reasonable computational time. The modeling and simulation of the post-exposure bake (PEB) and the photoresist dissolution steps are presented. The new simulator enables efficient exploration of the statistical excursions that lead to LER and the formation of insoluble residues during the dissolution process. The relative contributions of the PEB and the dissolution step to the LER have also been examined in the low/high frequency domain. The simulations were also used to assess the commonly proposed measures to reduce LER. The goal of the work was to achieve quantification of the effect of changes in resist composition, developer concentration, and process variables on LER and the associated defectivity. / text

This thesis addresses nanostructure fabrication techniques based on electron beam lithography, which is the most widely employed nanofabrication techniques for R&D and for the prototyping or production of photo-mask or imprint mold. The focus is on the study of novel resist and development process, as well as pattern transfer procedure after lithography. Specifically, this thesis investigates the following topics that are related to either electron beam resists, their development, or pattern transfer process after electron beam lithography: (1) The dry thermal development (contrary to conventional solvent development) of negative electron beam resists polystyrene (PS) to achieve reasonably high contrast and resolution. (2) The solvent development for polycarbonate electron beam resist, which is more desirable than the usual hot aqueous solution of NaOH developer, to achieve a low contrast that is ideal for grayscale lithography. (3) The fabrication of metal nanostructure by electron beam lithography and dry liftoff (contrary to the conventional liftoff using a strong solvent or aqueous solution), to achieved down to ~50 nm resolution. (4) The study a novel electron beam resist poly(sodium 4-styrenesulfonate) (sodium PSS) that is water soluble and water developable, to fabricate the feature size down to ~ 40 nm. And finally, (5) The fabrication of gold nanostructure on a thin membrane, which will be used as an object for novel x-ray imaging, where we developed the fabrication process for silicon nitride membrane, electroplating of gold, and pattern transfer after electron beam lithography using single layer resist and tri-layer resist stack.

Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-08-29T19:55:03Z No. of bitstreams: 1 RicardoDiasDeAndrade_DISSERT.pdf: 1416010 bytes, checksum: 12bf51d53442ec4aacf466b8f71ba103 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-09-05T21:40:40Z (GMT) No. of bitstreams: 1 RicardoDiasDeAndrade_DISSERT.pdf: 1416010 bytes, checksum: 12bf51d53442ec4aacf466b8f71ba103 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-09-05T21:40:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 RicardoDiasDeAndrade_DISSERT.pdf: 1416010 bytes, checksum: 12bf51d53442ec4aacf466b8f71ba103 (MD5) Previous issue date: 2016-02-26 / Introdu??o: O controle da infec??o pelo HIV atrav?s da TARV, acarretou em diversos efeitos adversos as pessoas vivendo com HIV/Aids (PVHA), como as s?ndromes lipodistr?fica e de wasting. O treinamento f?sico tem sido indicado como forma de retard?-los ou ameniz?-los, os estudos com treinamento f?sico para PVHA t?m mostrado efeitos positivos sobre o controle auton?mico card?aco, composi??o corporal, for?a muscular e na capacidade cardiorrespirat?ria. M?todos: Sete PVHA, do sexo masculino, sob uso da TARV, foram submetidas a uma interven??o com treinamento concorrente durante 18 semanas. O treinamento resistido teve caracter?stica de periodiza??o ondulat?ria, e o treinamento aer?bio prescrito em intensidade leve e de forma linear. O controle auton?mico card?aco foi avaliado pela variabilidade da frequ?ncia card?aca atrav?s dos dom?nios da frequ?ncia (HF, LF e a raz?o LF/HF). Foi aplicado o teste de caminhada de seis minutos para a avalia??o da capacidade cardiorrespirat?ria e do desempenho neuromuscular. Para a avalia??o da for?a muscular foi utilizado o m?todo da tonelagem absoluta, calculada a cada microciclo e mesociclo. As vari?veis antropom?tricas foram analisadas por segmento corporal, sendo obtidas a massa gorda total, do tronco e dos membros superiores e inferiores, al?m da massa corporal e IMC.A an?lise estat?stica foi realizada atrav?s do c?lculo do tamanho do efeito (d de Cohen), exceto para a an?lise da tonelagem absoluta, que foi analisada atrav?s do teste ANOVA one-way, com post hoc de scheffe. Resultados: Foram encontrados tamanhos de efeito alto (d>0,80) para a an?lise da variabilidade da frequ?ncia card?aca para as vari?veis LF e HF, mas n?o para a raz?o LF/HF, ap?s 18 semanas. Tamb?m foram encontrados efeitos moderados (d>0,50) ou fracos (d>0,20) para a composi??o corporal e no desempenho cardiorrespirat?rio. Al?m de diferen?as significativas para a for?a muscular a partir do 4? mesociclo. Conclus?o: O treinamento concorrente induziu efeitos positivos no controle auton?mico card?aco, na composi??o corporal, no desempenho cardiorrespirat?rio e na for?a muscular, assim, a prescri??o de treinamentos com varia??es de cargas, como aplicado neste estudo, deve ser indicado como forma de interven??o n?o medicamentosa para PVHA. / The control of HIV infection by HAART, brought a many of adverse effects to people living with HIV/Aids (PLHA), as a lipodystrophy and wasting syndromes. The physical training has been indicated as means to delay or soften then, the studies with physical training to PLHA have been showed positive effects on cardiac autonomic control, body composition, muscular strength and cardiorespiratory fitness. Seven PLHA, male and under HAART use, Underwent a concurrent training protocol during 18 weeks. The resistance training has an ondulatory periodization, and the aerobic training was conducted in low intensity and linear model. The cardiac autonomic control was evaluated by heart rate variability, through frequency domains (LF, HF and LF/HF ratio). Was applied the six minute walking test evaluate the cardiorespiratory fitness and neuromuscular performance. For the muscular strength evaluation was used the absolute tonnage method, calculated for each microcycle and mesocycle. The anthropometric variables were analyzed for each body segment, being get the total fat mass, trunk and the upper and lower limbs, further body mass and BMI. The statistical analyze was conducted by effect size formula (Cohen?s d), except the absolute tonnage, that was analyzed by ANOVA one-way test, with scheffe post hoc. Were found high effect sizes (d<0,80) to analyze the heart rate variability to the LF and HF variables, but not to LF/HF ratio, after 18 weeks. Also were found moderate (d>0,50) and lower (d>0,20) effect size to body composition and cardiorespiratory fitness. Further the significant difference in muscular strength since fourth mesocycle. The concurrent training induced positive effects on cardiac autonomic control, body composition, cardiorespiratory fitness and the muscular strength, so, the training prescription with load variations, as applied in this study, have be indicated as non-medicine intervention to PLHA.

Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-10-11T20:26:14Z No. of bitstreams: 1 EdgleyFreireTavares_TESE.pdf: 4156498 bytes, checksum: 08c7f66446528fa5ca4d7a676b56189f (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-10-13T19:38:09Z (GMT) No. of bitstreams: 1 EdgleyFreireTavares_TESE.pdf: 4156498 bytes, checksum: 08c7f66446528fa5ca4d7a676b56189f (MD5) / Made available in DSpace on 2016-10-13T19:38:09Z (GMT). No. of bitstreams: 1 EdgleyFreireTavares_TESE.pdf: 4156498 bytes, checksum: 08c7f66446528fa5ca4d7a676b56189f (MD5) Previous issue date: 2015-03-05 / Na cidade de Mossor?, diversas pr?ticas sustentam um discurso memorialista em torno da resist?ncia desta cidade ao ataque do cangaceiro Lampi?o, no ano de 1927. Nossa pesquisa objetivou descrever e interpretar o funcionamento dessa discursividade, problematizando seus mecanismos, estrat?gias e efeitos na dispers?o dos enunciados na cultura local. A Resist?ncia, tomada como acontecimento discursivo, foi ent?o investigada do lugar te?rico-metodol?gico da an?lise do discurso francesa, na articula??o dos postulados de Michel P?cheux com a arqueogenealogia formulada por Michel Foucault. A an?lise do corpus constitu?do de materialidades discursivas acad?micas, midi?ticas, do teatro, de inscri??es urbanas e da literatura de cordel, apontou uma s?rie de regularidades discursivas, interdiscursividades e efeitos de sentido que marcam o funcionamento hist?rico e semiol?gico do discurso da Resist?ncia como pr?tica atravessada por diversas rela??es de saber e de poder. Al?m disso, a an?lise discursiva dessa reminisc?ncia da passagem de Lampi?o em Mossor? possibilitou compreender essa narrativa em sua g?nese e nas repeti??es e transforma??es da mem?ria, evidenciando como este discurso tem organizado diversas institui??es, grupos e lugares enunciativos, marcando a centralidade dessa mem?ria na pol?tica, cultura e economia locais. / In the city of Mossor?, several practices back up a memoralist discourse about the resistence of this city concerning the attack of the bandid Lampi?o, in the year of 1927. Our research objects describing and interpreting that discourse functioning, questioning its mechanisms, strategies and effect on the statement dispersion in the local culture. The Resistence, taken as a discursive event, was then investigated from the theoretical and methodological place of the French discourse analysis, about the articulation of the postulates of Michel P?cheux with the arquegeneology formulated by Michel Foucault. The corpus analysis consists of academic discourse material, media, drama, urban entries, and cordel literature, pointed to several discursive irregularities, discourse interconnection, and meaning effects that mark the operation of the historical and semiological speech about the Resistence as a practical activity influenced by several acquaitance and power relations. Besides that, the discursive analysis on Lampi?o's reminiscent comming by Mossor? enables understanding that narrative in its genesis and in its repetitions and memory changes, groups and enunciating places, setting that memory central point in the local politic, culture, and economy.

Submitted by Automa??o e Estat?stica (sst@bczm.ufrn.br) on 2016-10-11T21:41:24Z No. of bitstreams: 1 SandraMichelleBessaDeAndradeFernandes_TESE.pdf: 9383609 bytes, checksum: 4ed66757780c36aa151c1a4a36e7ab89 (MD5) / Approved for entry into archive by Arlan Eloi Leite Silva (eloihistoriador@yahoo.com.br) on 2016-10-17T19:10:36Z (GMT) No. of bitstreams: 1 SandraMichelleBessaDeAndradeFernandes_TESE.pdf: 9383609 bytes, checksum: 4ed66757780c36aa151c1a4a36e7ab89 (MD5) / Made available in DSpace on 2016-10-17T19:10:36Z (GMT). No. of bitstreams: 1 SandraMichelleBessaDeAndradeFernandes_TESE.pdf: 9383609 bytes, checksum: 4ed66757780c36aa151c1a4a36e7ab89 (MD5) Previous issue date: 2015-12-16 / O presente estudo teve como objetivo a reconstitui??o de um itiner?rio de resist?ncia de Nise da Silveira, no contexto da sa?de mental no Brasil, considerando suas contribui??es como uma cientista que inaugura um novo patamar na psiquiatria, psicologia, epistemologia dos estudos dos transtornos mentais. Partiu-se da seguinte quest?o norteadora: como foi poss?vel para Nise da Silveira, que escolheu a contracorrente do seu tempo, enfrentando logo no in?cio da vida profissional, estrutura de estado e o apogeu do tratamento cartesiano na ci?ncia m?dica psiquiatra, encontrar resist?ncia para - permanecendo na contra-hegemonia - inaugurar uma nova ci?ncia propositiva de novas modalidades de tratamento para os portadores de transtornos mentais graves, que reverberou na hist?ria? Como argumenta??o central da tese, destaca-se: Nise da Silveira percebeu que o novo na ci?ncia s? se instala pela ousadia de constru??o de novas concep??es, novos m?todos e persist?ncia na pesquisa. Atentou que a abertura de novos paradigmas na ci?ncia torna-se mais vi?vel quando o pesquisador visita e se alimenta de outros campos de conhecimento que n?o s?o de sua especialidade, tendo ido ao encontro de outras regi?es de saberes fora do campo da psiquiatria, como arte, mitologia, literatura, religi?o, epistemologia, filosofia e psicologia. Elegeu guias do pensamento, mestres condutores de sua vida/obra. Exerceu a contra-hegemonia e, ancorando-se em profunda, rigorosa e obstinada pesquisa cient?fica, inaugurou um novo patamar na ci?ncia psiqui?trica. Para empreender a reconstitui??o desse itiner?rio, foram utilizadas as seguintes refer?ncias de an?lise, bases emp?ricas, que envolvem a vida/obra de Nise da Silveira: obras liter?rias, art?sticas, cient?ficas, entrevistas, filmes, jornais, document?rios. O texto foi tecido com a roupa de escafandro, foi tecido em mergulhos. Partiu-se do cen?rio ostensivo da ci?ncia m?dica psiqui?trica, no in?cio do s?culo XX; revisitou-se os nichos de origem da personalidade aguerrida e insubordinada; recontou-se a influ?ncia de alguns guias do pensamento, importantes para a constru??o da sua ci?ncia inaugural; adentrou-se nas conquistas da sua hist?ria de resist?ncia, a materializa??o da sua luta, presente em dois ?cones, a Casa das Palmeiras e o Museu de Imagens do Inconsciente; recordou-se alguns artistas e suas obras; narrou-se lembran?as de amigos e companheiros. E, por ?ltimo, quando a roupa do escafandrista era tirada, e restava a subjetiva??o do sujeito autor, o encontro sobreveio no caminho do meio, por interm?dio de cartas tecidas com a linha do afeto. / El estudio que se presenta a continuaci?n tiene como objetivo la reconstituci?n de un itinerario de resistencia de Nise da Silveira, en el contexto de la salud mental en Brasil, considerando sus contribuciones como una cient?fica que inaugura una nueva perspectiva en la psiquiatr?a, la psicolog?a y la epistemolog?a de los estudios de los trastornos mentales. Partimos del siguiente postulado: ?c?mo fue posible para Nise da Silveira, que escogi? el discurso de resistencia de su tiempo, enfrentando, inmediatamente, en el inicio de la vida profesional, la estructura del estado y el apogeo del tratamiento cartesiano en la ciencia m?dica psiqui?trica, encontrar un punto de resistencia para ?permaneciendo en la contra-hegemon?a? inaugurar una nueva ciencia propositiva de nuevas modalidades de tratamiento para los portadores de trastornos mentales graves, que reverber? en la historia? Como argumentaci?n central de la tesis, se destaca: Nise da Silveira percibi? que lo nuevo en la ciencia s?lo se instala por la osad?a de la construcci?n de nuevas concepciones, nuevos m?todos y persistencia en la investigaci?n. Llamo la atenci?n para la apertura de nuevos paradigmas en la ciencia y que se hace m?s viable cuando el investigador visita y se alimenta de otros campos de conocimiento que no son de su especialidad, habiendo ido al encuentro de otras regiones de saberes fuera del campo de la psiquiatr?a, como arte, mitolog?a, literatura, religi?n, epistemolog?a, filosof?a y psicolog?a. Eligi? gu?as del pensamiento, maestros conductores de su vida/obra. Ejerci? la contra hegemon?a y ancl?ndose en profunda, rigurosa y obstinada investigaci?n cient?fica inaugur? un nuevo horizonte en la ciencia psiqui?trica. Para emprender la reconstituci?n de ese itinerario fueron utilizadas las siguientes referencias de an?lisis, que envuelven la vida/obra de Nise da Silveira: obras literarias, art?sticas, cient?ficas, entrevistas, pel?culas, peri?dicos, documentales. El texto fue tejido con la ropa de escafandra, fue tejido en suaves zambullidas. Se parte del escenario ostensivo de la ciencia m?dica psiqui?trica, en el inicio del siglo XX; volvi? a visitar los nichos de origen de la personalidad aguerrida e insubordinada; se volvi? a contar el influjo de algunos gu?as del pensamiento, importantes para la construcci?n de su ciencia inaugural; se adentr? en las conquistas de su historia de resistencia, la materializaci?n de su lucha, presente en dos ?conos, a Casa das Palmeiras y o Museu de Imagens do Inconsciente; se recordaron algunos artistas y sus obras; se narraron recuerdos de amigos y compa?eros. Y, por ?ltimo, cuando la ropa de la escafandrista era retirada, le restaba la subjetivaci?n del sujeto autor, el encuentro sobrevino en el camino del medio, a trav?s de cartas tejidas con la l?nea del afecto.

T?tulo na capa, folha de rosto e ficha catalogr?fica: "Estudo in vitro da for?a de ades?o de um sistema adesivo autocondicionante com incorpora??o da quitosana ap?s envelhecimento artificial". / Submitted by Jos? Henrique Henrique (jose.neves@ufvjm.edu.br) on 2018-08-03T18:32:48Z No. of bitstreams: 2 license_rdf: 0 bytes, checksum: d41d8cd98f00b204e9800998ecf8427e (MD5) leticia_pena_botelho.pdf: 8129463 bytes, checksum: b61585afbfd2aace808275ec46901124 (MD5) / Approved for entry into archive by Rodrigo Martins Cruz (rodrigo.cruz@ufvjm.edu.br) on 2018-10-02T16:37:42Z (GMT) No. of bitstreams: 2 license_rdf: 0 bytes, checksum: d41d8cd98f00b204e9800998ecf8427e (MD5) leticia_pena_botelho.pdf: 8129463 bytes, checksum: b61585afbfd2aace808275ec46901124 (MD5) / Made available in DSpace on 2018-10-02T16:37:42Z (GMT). No. of bitstreams: 2 license_rdf: 0 bytes, checksum: d41d8cd98f00b204e9800998ecf8427e (MD5) leticia_pena_botelho.pdf: 8129463 bytes, checksum: b61585afbfd2aace808275ec46901124 (MD5) Previous issue date: 2017 / Coordena??o de Aperfei?oamento de Pessoal de N?vel Superior (CAPES) / O objetivo deste estudo foi avaliar a resist?ncia ? microtra??o da resina composta, em substrato dentin?rio bovino, ap?s envelhecimento qu?mico acelerado, em associa??o com um sistema adesivo modificado por quitosana na concentra??o de 2,5%. Sessenta dentes bovinos h?gidos tiveram seus ter?os incisais e ra?zes seccionados e foram alocados aleatoriamente em tr?s grupos (n=60). Grupo I (controle) - Ataque ?cido + Clearfil SE Bond + Resina Z350XT; Grupo II - Tratamento com quitosana 2,5% + Clearfil SE Bond + Resina Z350XT; Grupo III - Tratamento com quitosana 2,5% incorporada ao adesivo dentin?rio + Resina Z350XT. Os esp?cimes em forma de palitos confeccionados em cada grupo foram aleatoriamente divididos em dois subgrupos e ent?o submetidos ? degrada??o da interface adesiva (sem envelhecimento - os esp?cimes n?o foram submetidos ao envelhecimento; com envelhecimento - os esp?cimes foram imersos em hipoclorito de s?dio a 2,5% por um per?odo de doze horas e lavados em ?gua destilada durante uma hora). Os grupos foram submetidos ao teste de resist?ncia ? microtra??o em m?quina de ensaio universal, com velocidade de deslocamento de 0,5 mm/min at? a ruptura. Os dados foram avaliados por an?lise estat?stica de acordo com a distribui??o de normalidade encontrada (param?trico - ANOVA e teste complementar de Duncan, para p=0,05). Ap?s a ruptura, os esp?cimes foram avaliados em lupa estereosc?pica para verifica??o do tipo de fratura. Os dados de microtra??o foram ent?o obtidos por meio do c?lculo da ?rea de cada palito, obtendo os valores em Mpa (Sem envelhecimento: G I: 5,25?1,69; G II: 5,52?1,46; G III: 3,91?1,21. Com envelhecimento: G I: 3,45?1,29; G II: 2,75?0,78; G III: 3,53?1,33). A an?lise estat?stica mostrou que o fator de envelhecimento e de modifica??o do adesivo diminu?ram a for?a de ades?o da resina composta ? dentina bovina (p=0,001). Assim como, a intera??o entre os fatores analisados mostraram diferen?as estatisticamente significantes (p=0,002). O tipo de fratura mais encontrada em todos os grupos foi a adesiva. Conclui-se que, o envelhecimento acelerado diminui a for?a de ades?o no Grupo I, mesmo quando a quitosana ? aplicada previamente ao sistema adesivo autocondicionante. No entanto, ao adicionar a quitosana no adesivo, a ades?o permaneceu semelhante ap?s o envelhecimento, por?m menor, quando comparada aos outros dois grupos. / Disserta??o (Mestrado) ? Programa de P?s-Gradua??o em Odontologia, Universidade Federal dos Vales do Jequitinhonha e Mucuri, 2017. / This study evaluated the microtensile bond strength of composite resin in bovine dentinal substrate after accelerated chemical aging in combination with an adhesive system modified chitosan concentration of 2,5%. Sixty healthy bovine tooth had their occlusal thirds and sectioned roots, and were randomly divided into three groups (n=60). Group I (control) - Acid attack + Clearfil SE Bond + Resin Z350 XT; Group II - Treatment with 2,5% chitosan + Clearfil SE Bond + Resin Z350 XT; Group III - Treatment with chitosan 2,5% incorporated into the dentin bonding + Resin Z350 XT. Specimens in stick shapes in each group were randomly divided into two subgroups and submitted to the degradation of the adhesive interface (without aging - the specimens were not subjected to aging; with aging - the specimens were immerse in 2,5% sodium hypochlorite for a period of twelve hours and then washed in distilled water for one hour. The groups were submitted to microtensile strength test in universal test machine at 0,5 mm/min until rupture. The data were evaluated by statistical analysis according to the found normal distribution (Parametric - ANOVA and Duncan complementary test=0,05). After the rupture, the specimens were evaluated in a stereomicroscope to evaluate the type of fracture. ?TBS values were calculated in Mpa (without aging: G I: 5,25? 1,69; G II: 5,52? 1,46; G III: 3,91? 1,21. With aging: G I: 3,45? 1,29; G II: 2,75? 0,78; G III: 3,53? 1,33) by means of the ?rea of each resin-dentin stick. The statistical analysis showed that the aging and modifying factors of the adhesive decreased the adhesion (p=0,001). As well, the interaction between the factors analyzed showed statistically significant diferences (p=0,002). Adhesive fracture predominated in mosto f the groups. In conclusion, accelerated aging decreases adhesion strength in the G I, as even when the use of chitosan prior to self-etching adhesive system. However, when adding chitosan to the adhesive, adhesion remains similar after aging, but lower when compared to those with or withput aging.